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硫化镉光催化剂的合成、改性及抗腐蚀性能研究

摘要第4-5页
ABSTRACT第5页
第一章 前言第9-19页
    1.1 染料废水概述第9-10页
    1.2 光催化降解技术研究现状第10-12页
        1.2.1 国外研究现状第11页
        1.2.2 国内研究现状第11-12页
    1.3 CdS光催化剂的研究现状第12-15页
        1.3.1 纳米CdS光催化剂的制备方法第12-13页
        1.3.2 CdS复合光催化剂的研究第13-15页
    1.4 中间空隙核壳结构材料简介第15-17页
    1.5 纳米粒子在织物上的负载方式第17页
    1.6 课题的提出第17-19页
        1.6.1 研究目的第17页
        1.6.2 研究内容第17-19页
第二章 理论基础第19-25页
    2.1 半导体光催化机理第19-20页
    2.2 半导体光腐蚀机理第20-21页
        2.2.1 光腐蚀产生的原因第20页
        2.2.2 抑制光腐蚀的方法第20-21页
    2.3 多孔结构材料的吸附理论第21-23页
    2.4 半导体禁带宽度第23-25页
第三章 PPy/CdS NCs的制备及性能第25-43页
    3.1 实验部分第25-30页
        3.1.1 原料及仪器第25-26页
        3.1.2 催化剂的制备第26-28页
        3.1.3 K_2Cr_2O_7溶液的配制第28页
        3.1.4 光催化剂粒子的表征第28-30页
    3.2 结果与讨论第30-41页
        3.2.1 Py含量对PPy/CdS NCs光催化性能的影响第30-31页
        3.2.2 CdS和PPy/CdS的形貌分析第31-32页
        3.2.3 CdS和PPy/CdS的结构分析第32-35页
        3.2.4 CdS和PPy/CdS的光学性能第35-37页
        3.2.5 CdS和PPy/CdS的抗腐蚀性能第37-39页
        3.2.6 PPy/CdS NCs光催化机理第39-40页
        3.2.7 CdS和PPy/CdS的Zeta电位分析第40-41页
        3.2.8 PPy/CdS NCs催化降解K_2Cr_2O_7溶液第41页
    3.3 本章小结第41-43页
第四章 中间空隙核壳结构SiO_2@void@CdS光催化剂的制备及性能第43-61页
    4.1 实验部分第43-47页
        4.1.1 原料及仪器第43-44页
        4.1.2 催化剂的制备第44-46页
        4.1.3 固定化实验第46页
        4.1.4 光催化性能第46页
        4.1.5 吸附性能第46-47页
        4.1.6 表征方法第47页
    4.2 结果与讨论第47-59页
        4.2.1 BET分析第47-48页
        4.2.2 PPy层数对SiO_2@void@CdS光催化性能的影响第48-51页
        4.2.3 形貌分析第51-52页
        4.2.4 结构分析第52-54页
        4.2.5 UV-Vis DRS分析第54-55页
        4.2.6 抗腐蚀性能第55-57页
        4.2.7 织物自清洁效果对照第57页
        4.2.8 固定化实验结果第57-59页
    4.3 本章小结第59-61页
第五章 结论与展望第61-63页
    5.1 本文结论第61页
    5.2 展望第61-63页
参考文献第63-73页
攻读硕士学位期间发表论文及参加科研情况第73-75页
致谢第75页

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