| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6页 |
| 第1章 绪论 | 第10-23页 |
| 1.1 引言 | 第10页 |
| 1.2 硬质薄膜的定义及分类 | 第10-12页 |
| 1.2.1 硬质薄膜的定义 | 第10-11页 |
| 1.2.2 硬质薄膜的分类 | 第11-12页 |
| 1.3 金属氮化物薄膜 | 第12-15页 |
| 1.3.1 二元金属氮化物薄膜 | 第12-13页 |
| 1.3.2 多元金属氮化物薄膜 | 第13-14页 |
| 1.3.3 氮化物纳米多层膜 | 第14-15页 |
| 1.4 薄膜的物理气相沉积制备方法 | 第15-21页 |
| 1.4.1 真空蒸镀 | 第16-17页 |
| 1.4.2 溅射沉积 | 第17-18页 |
| 1.4.3 离子镀 | 第18-20页 |
| 1.4.4 离子注入 | 第20-21页 |
| 1.4.5 分子束外延沉积 | 第21页 |
| 1.5 本课题研究目的和内容 | 第21-23页 |
| 第2章 实验方案及测试方法 | 第23-32页 |
| 2.1 实验过程 | 第23-24页 |
| 2.2 实验设备 | 第24-25页 |
| 2.3 基体预处理 | 第25-26页 |
| 2.4 CrTiAlN薄膜的制备过程 | 第26-28页 |
| 2.4.1 膜层设计思路 | 第26-27页 |
| 2.4.2 CrTiAlN薄膜的制备工艺 | 第27-28页 |
| 2.5 CrTiAlN薄膜的后继热处理工艺 | 第28页 |
| 2.6 薄膜的分析测试方法 | 第28-31页 |
| 2.6.1 薄膜形貌及厚度测试 | 第28-29页 |
| 2.6.2 薄膜的相结构分析 | 第29页 |
| 2.6.3 薄膜显微硬度测试 | 第29-30页 |
| 2.6.4 薄膜与基体结合力测试 | 第30页 |
| 2.6.5 薄膜的摩擦磨损性能测试 | 第30-31页 |
| 2.7 本章小结 | 第31-32页 |
| 第3章 CrTiAlN薄膜结构、成分及形貌分析 | 第32-39页 |
| 3.1 CrTiAlN薄膜的相结构分析 | 第32-33页 |
| 3.2 CrTiAlN薄膜的成分、形貌及膜厚分析 | 第33-38页 |
| 3.3 本章小结 | 第38-39页 |
| 第4章 CrTiAlN薄膜力学性能及摩擦磨损性能分析 | 第39-56页 |
| 4.1 CrTiAlN薄膜的显微硬度分析 | 第39-42页 |
| 4.1.1 靶/基距对薄膜显微硬度的影响 | 第39-40页 |
| 4.1.2 载荷对薄膜显微硬度的影响 | 第40-41页 |
| 4.1.3 基体硬度对薄膜显微硬度的影响 | 第41-42页 |
| 4.2 CrTiAlN薄膜的致硬机理分析 | 第42-43页 |
| 4.3 CrTiAlN薄膜的膜/基结合强度分析 | 第43-48页 |
| 4.3.1 薄膜与基体结合强度的评价标准 | 第43-45页 |
| 4.3.2 CrTiAlN薄膜与基体的结合情况及分析 | 第45-48页 |
| 4.4 CrTiAlN薄膜的摩擦磨损性能分析 | 第48-54页 |
| 4.4.1 摩擦磨损及其分类 | 第48-49页 |
| 4.4.2 靶/基距对薄膜摩擦磨损性能的影响 | 第49-53页 |
| 4.4.3 基体硬度对薄膜摩擦磨损性能的影响 | 第53-54页 |
| 4.5 本章小结 | 第54-56页 |
| 第5章 氧化温度对CrTiAlN薄膜结构与性能的影响 | 第56-71页 |
| 5.1 氧化温度对CrTiAlN薄膜相结构的影响 | 第56-59页 |
| 5.2 氧化温度对CrTiAlN薄膜形貌及成分的影响 | 第59-62页 |
| 5.3 氧化温度对CrTiAlN薄膜力学性能的影响 | 第62-65页 |
| 5.3.1 氧化温度对CrTiAlN薄膜显微硬度的影响 | 第62-63页 |
| 5.3.2 氧化温度对CrTiAlN薄膜结合强度的影响 | 第63-65页 |
| 5.4 氧化温度对CrTiAlN薄膜摩擦磨损性能的影响 | 第65-70页 |
| 5.5 本章小结 | 第70-71页 |
| 第6章 结论与展望 | 第71-73页 |
| 6.1 结论 | 第71-72页 |
| 6.2 展望 | 第72-73页 |
| 参考文献 | 第73-76页 |
| 致谢 | 第76-77页 |
| 攻读学位期间参加的科研项目和成果 | 第77页 |
