| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-8页 |
| 目录 | 第8-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-18页 |
| ·引言 | 第10页 |
| ·研究背景 | 第10-15页 |
| ·薄膜形成的过程 | 第10-11页 |
| ·薄膜制备技术的发展现状 | 第11-14页 |
| ·硬质薄膜的发展现状及趋势 | 第14页 |
| ·纳米多层超硬薄膜的特性 | 第14-15页 |
| ·本文研究概述 | 第15-18页 |
| ·选题依据 | 第15-16页 |
| ·本文的主要内容 | 第16-18页 |
| 第二章 纳米多层膜的实验与制备原理 | 第18-33页 |
| ·实验方法及原理 | 第18-26页 |
| ·正交试验法简介 | 第18-22页 |
| ·退火对纳米多层膜的影响 | 第22-26页 |
| ·制备方式及原理 | 第26-33页 |
| ·溅射镀膜的原理和类型 | 第26-27页 |
| ·离子束辅助沉积(IBAD) | 第27-30页 |
| ·磁控溅射(MS) | 第30-33页 |
| 第三章 纳米多层膜的制备与性能表征 | 第33-42页 |
| ·多层膜样品的制备过程 | 第33-35页 |
| ·实验装置与实验材料 | 第33-34页 |
| ·样品预处理 | 第34页 |
| ·纳米多层膜制备过程 | 第34-35页 |
| ·纳米多层膜的结构表征 | 第35-39页 |
| ·纳米多层膜的表面结构分析 | 第35-37页 |
| ·纳米多层膜的内部结构分析 | 第37-39页 |
| ·纳米多层膜的机械性能表征 | 第39-42页 |
| ·薄膜力学性能测试 | 第39-40页 |
| ·薄膜摩擦性能测试 | 第40-42页 |
| 第四章 TiB_2/Si_3N_4纳米多层膜的结构与性能研究 | 第42-60页 |
| ·TiB_2/Si_3N_4纳米多层膜实验参数的选取 | 第42页 |
| ·TiB_2/Si_3N_4纳米多层膜层的选题依据 | 第42页 |
| ·实验参数对TiB_2/Si_3N_4纳米多层膜晶体结构和性能的影响 | 第42-58页 |
| ·正交试验法制备TiB_2/Si_3N_4纳米多层膜及其制硬机理的讨论 | 第42-52页 |
| ·基底条件对TiB_2/Si_3N_4纳米多层膜结构和机械性能的影响 | 第52-58页 |
| ·本章小结 | 第58-60页 |
| 第五章 TiB_2/C-BN纳米多层膜的结构与性能研究 | 第60-75页 |
| ·TiB_2/c-BN纳米多层膜实验参数的选取 | 第60-61页 |
| ·TiB_2/c-BN纳米多层膜的合成依据 | 第61页 |
| ·实验参数TiB_2/c-BN纳米多层膜晶体结构和性能的影响 | 第61-74页 |
| ·调制参数对TiB_2/c-BN纳米多层膜结构和机械性能的优化 | 第61-67页 |
| ·退火温度对TiB_2/c-BN纳米多层膜结构和机械性能的影响 | 第67-74页 |
| ·本章小结 | 第74-75页 |
| 第六章 全文总结 | 第75-77页 |
| ·多层膜结果分析 | 第75-76页 |
| ·多层膜实验结果总结 | 第75页 |
| ·多层膜制硬机理分析 | 第75-76页 |
| ·问题与思考 | 第76-77页 |
| 参考文献 | 第77-82页 |
| 硕士在读期间发表的论文 | 第82-84页 |
| 致谢 | 第84-86页 |
