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几种半导体材料载流子超快弛豫过程的瞬态光栅光谱研究

摘要第4-5页
Abstract第5页
第1章 绪论第8-17页
    1.1 研究背景简介第8页
    1.2 瞬态光栅技术发展及其应用第8-11页
    1.3 石墨烯研究现状第11-13页
    1.4 四氧化三铁研究现状第13-15页
    1.5 本文研究目的和意义第15-16页
    1.6 本文的研究内容第16-17页
第2章 载流子弛豫动力学的瞬态光栅理论第17-29页
    2.1 瞬态光栅基本原理第17-23页
    2.2 瞬态光栅研究载流子弛豫过程理论分析第23-28页
        2.2.1 栅线间距第25-26页
        2.2.2 衍射角第26页
        2.2.3 光栅衰减率第26-27页
        2.2.4 爱因斯坦公式第27-28页
    2.3 本章小结第28-29页
第3章 瞬态光栅系统第29-38页
    3.1 瞬态光栅系统搭建第29-37页
        3.1.1 飞秒激光器系统第29-31页
        3.1.2 脉冲整形系统第31-35页
        3.1.3 时间延迟系统第35-37页
        3.1.4 探测系统第37页
    3.2 本章小结第37-38页
第4章 石墨烯和四氧化三铁载流子弛豫过程的瞬态光栅光谱研究第38-51页
    4.1 四氧化三铁载流子弛豫过程的瞬态光栅光谱第38-42页
        4.1.1 四氧化三铁的吸收光谱第38-39页
        4.1.2 四氧化三铁载流子弛豫过程的瞬态光栅光谱第39-42页
    4.2 石墨烯分散液的瞬态光栅光谱第42-47页
        4.2.1 石墨烯分散液的吸收光谱第42-45页
        4.2.2 石墨烯分散液的载流子弛豫过程的瞬态光栅光谱第45-47页
    4.3 石墨烯膜的瞬态光栅光谱第47-50页
        4.3.1 石墨烯膜的吸收光谱第47-48页
        4.3.2 石墨烯膜载流子弛豫过程的瞬态光栅光谱第48-50页
    4.4 本章小结第50-51页
结论第51-52页
参考文献第52-57页
致谢第57页

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