| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第12-31页 |
| 1.1 课题背景及研究的目的和意义 | 第12-14页 |
| 1.2 多主元效应 | 第14-17页 |
| 1.2.1 高熵效应 | 第14页 |
| 1.2.2 晶格畸变效应 | 第14-16页 |
| 1.2.3 缓慢扩散效应 | 第16-17页 |
| 1.2.4 复合效应 | 第17页 |
| 1.3 多靶磁控溅射与等离子体基注入技术 | 第17-20页 |
| 1.3.1 多靶磁控溅射技术 | 第17-18页 |
| 1.3.2 等离子体基离子注入技术 | 第18-20页 |
| 1.4 多主元薄膜的研究现状 | 第20-30页 |
| 1.4.1 多主元薄膜的制备方法 | 第20-21页 |
| 1.4.2 多主元薄膜的组织结构研究 | 第21-27页 |
| 1.4.3 多主元薄膜的性能分析 | 第27-29页 |
| 1.4.4 多主元薄膜的应用前景 | 第29-30页 |
| 1.5 本文主要研究内容 | 第30-31页 |
| 第2章 薄膜制备工艺与研究方法 | 第31-41页 |
| 2.1 基体材料的选择 | 第31页 |
| 2.2 靶材的选择与组成 | 第31页 |
| 2.3 实验设备 | 第31-33页 |
| 2.4 实验方案及设计 | 第33-36页 |
| 2.4.1 多靶磁控溅射制备四元TaNbTiW合金薄膜 | 第33页 |
| 2.4.2 多靶磁控溅射制备五元ZrTaNbTiW合金薄膜 | 第33-34页 |
| 2.4.3 多靶磁控溅射与氮等离子体基注入制备(TaNbTiW)N薄膜 | 第34-35页 |
| 2.4.4 多靶磁控溅射与氮等离子体基注入制备(ZrTaNbTiW)N薄膜 | 第35-36页 |
| 2.5 分析方法及其原理 | 第36-41页 |
| 2.5.1 薄膜的化学成分与化学结构分析 | 第36-37页 |
| 2.5.2 薄膜的相结构分析 | 第37页 |
| 2.5.3 薄膜的微观组织结构分析 | 第37页 |
| 2.5.4 划痕形貌分析 | 第37页 |
| 2.5.5 薄膜的硬度和结合力分析 | 第37-38页 |
| 2.5.6 薄膜的摩擦磨损性能分析 | 第38-41页 |
| 第3章 TaNbTiW和ZrTaNbTiW合金薄膜制备与组织结构 | 第41-60页 |
| 3.1 引言 | 第41-42页 |
| 3.2 TaNbTiW和ZrTaNbTiW合金薄膜的制备 | 第42-45页 |
| 3.3 TaNbTiW和ZrTaNbTiW合金薄膜的相结构 | 第45-52页 |
| 3.4 TaNbTiW和ZrTaNbTiW合金薄膜的微观结构 | 第52-55页 |
| 3.5 退火对TaNbTiW和ZrTaNbTiW合金薄膜相结构的影响 | 第55-59页 |
| 3.6 本章小结 | 第59-60页 |
| 第4章 N离子注入对TaNbTiW和ZrTaNbTiW薄膜组织结构的影响 | 第60-84页 |
| 4.1 引言 | 第60-61页 |
| 4.2 N离子注入对薄膜元素分布及化学态的影响 | 第61-71页 |
| 4.3 N离子注入对薄膜相组成和相结构影响 | 第71-79页 |
| 4.4 N离子注入对薄膜微观结构的影响 | 第79-83页 |
| 4.6 本章小结 | 第83-84页 |
| 第5章 合金薄膜和N离子注入薄膜的性能 | 第84-114页 |
| 5.1 引言 | 第84页 |
| 5.2 薄膜的纳米硬度和弹性模量 | 第84-89页 |
| 5.3 薄膜的结合力分析 | 第89-95页 |
| 5.4 薄膜的摩擦磨损行为 | 第95-110页 |
| 5.5 组元及其含量对薄膜性能的影响 | 第110-112页 |
| 5.6 本章小结 | 第112-114页 |
| 结论、创新点及展望 | 第114-116页 |
| 参考文献 | 第116-127页 |
| 攻读博士学位期间发表的论文及其它成果 | 第127-130页 |
| 致谢 | 第130-131页 |
| 个人简历 | 第131页 |
