| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 目录 | 第8-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-23页 |
| 1.1 研究背景 | 第11-13页 |
| 1.1.1 光伏发电及应用 | 第11-13页 |
| 1.1.2 太阳能电池的发展历史 | 第13页 |
| 1.2 光伏市场发展 | 第13-16页 |
| 1.2.1 光伏市场的发展历程 | 第13-15页 |
| 1.2.2 光伏产业发展趋势 | 第15-16页 |
| 1.3 光伏制造技术进展 | 第16-19页 |
| 1.3.1 金刚石线切割技术 | 第17-18页 |
| 1.3.2 流化床法多晶硅制备技术 | 第18页 |
| 1.3.3 低成本金属浆料与金属化技术 | 第18-19页 |
| 1.4 高效电池技术进展 | 第19-23页 |
| 1.4.1 LFC-PERC 电池 | 第19-20页 |
| 1.4.2 全背接触电池 | 第20-21页 |
| 1.4.3 纳米硅墨水电池 | 第21-22页 |
| 1.4.4 正面结 N 型电池 | 第22-23页 |
| 第2章 晶硅太阳能电池原理及生产工艺 | 第23-35页 |
| 2.1 晶体硅太阳能电池原理 | 第23-25页 |
| 2.1.1 太阳能电池的结构 | 第23页 |
| 2.1.2 太阳能电池原理 | 第23-25页 |
| 2.2 晶体硅太阳能电池生产工艺 | 第25-35页 |
| 2.2.1 硅片检测 | 第25-26页 |
| 2.2.2 清洗制绒 | 第26-28页 |
| 2.2.3 扩散制结 | 第28-29页 |
| 2.2.4 刻蚀 | 第29-30页 |
| 2.2.5 去 PSG | 第30-31页 |
| 2.2.6 PECVD 镀减反射膜 | 第31-32页 |
| 2.2.7 丝网印刷电极 | 第32-33页 |
| 2.2.8 快速烧结 | 第33页 |
| 2.2.9 测试分选 | 第33-35页 |
| 第3章 晶硅太阳能电池表面复合及钝化 | 第35-45页 |
| 3.1 晶体硅太阳能电池薄片化 | 第35-36页 |
| 3.2 少数载流子的复合行为 | 第36-40页 |
| 3.2.1 少数载流子的产生 | 第36-37页 |
| 3.2.2 少数载流子的复合 | 第37-40页 |
| 3.3 晶体硅太阳能电池表面钝化 | 第40-43页 |
| 3.3.0 化学溶液法 | 第40页 |
| 3.3.1 Al 扩散背表面场 BSF | 第40-41页 |
| 3.3.2 热氧化法生长 SiO2膜 | 第41-42页 |
| 3.3.3 PECVD 法制备 SiNx | 第42页 |
| 3.3.4 本征氢化非晶硅(a-Si:H)薄膜 | 第42-43页 |
| 3.3.5 钝化机理总结 | 第43页 |
| 3.4 研究方向 | 第43-45页 |
| 第4章 原子层沉积 Al_2O_3钝化晶体硅工艺研究 | 第45-60页 |
| 4.1 Al_2O_3钝化技术 | 第45-47页 |
| 4.1.1 Al_2O_3材料特性 | 第45页 |
| 4.1.2 Al_2O_3材料的应用 | 第45-46页 |
| 4.1.3 Al_2O_3薄膜的制备 | 第46-47页 |
| 4.2 原子层沉积技术简介 | 第47-49页 |
| 4.2.1 基本原理 | 第47-48页 |
| 4.2.2 设备改进 | 第48-49页 |
| 4.3 实验 | 第49-51页 |
| 4.3.1 试验样品 | 第49页 |
| 4.3.2 实验原理及步骤 | 第49-51页 |
| 4.4 样品测试 | 第51-52页 |
| 4.4.1 少子寿命 | 第51页 |
| 4.4.2 X 射线电子能谱分析 | 第51-52页 |
| 4.5 ALD 氧化铝钝化 n 型晶体硅表面 | 第52-55页 |
| 4.5.1 工艺方案 | 第52页 |
| 4.5.2 Al_2O_3膜厚影响分析 | 第52-53页 |
| 4.5.3 退火温度对钝化的影响 | 第53-55页 |
| 4.6.4 退火时间对钝化的影响 | 第55页 |
| 4.6 ALD 氧化铝钝化 p 型晶体硅表面 | 第55-58页 |
| 4.6.1 工艺方案 | 第55-56页 |
| 4.6.2 退火温度优化 | 第56-57页 |
| 4.6.3 结果分析讨论 | 第57-58页 |
| 4.7 X 射线电子能谱分析 | 第58-59页 |
| 4.8 本章小结 | 第59-60页 |
| 第5章 ALD 沉积 Al_2O_3钝化减反双重作用 | 第60-64页 |
| 5.1 实验 | 第60-61页 |
| 5.1.1 样品表面处理 | 第60-61页 |
| 5.2 反射率测试 | 第61页 |
| 5.3 结果分析与讨论 | 第61-62页 |
| 5.4 本章小结 | 第62-64页 |
| 结论与展望 | 第64-66页 |
| 参考文献 | 第66-73页 |
| 致谢 | 第73-74页 |
| 附录A 攻读学位期间所发表的学术论文目录 | 第74页 |