| 中文摘要 | 第4-7页 |
| Abstract | 第7-10页 |
| 第一章 绪论 | 第15-49页 |
| 1.1 引言 | 第15-17页 |
| 1.1.1 新材料的重要地位 | 第15-16页 |
| 1.1.2 新材料中的吸光材料 | 第16-17页 |
| 1.2 低反射率材料 | 第17-31页 |
| 1.2.1 低反射率材料的研究背景和应用价值 | 第17页 |
| 1.2.2 低反射率材料涉及的理论 | 第17-18页 |
| 1.2.3 低反射率材料的分类 | 第18-21页 |
| 1.2.4 低反射材料的制备方法及研究进展 | 第21-31页 |
| 1.3 低反射材料的延伸-太阳光谱选择性吸收膜 | 第31-46页 |
| 1.3.1 中国蕴含的太阳能资源 | 第31-33页 |
| 1.3.2 中国太阳能资源的利用现状 | 第33-34页 |
| 1.3.3 太阳能光热发电 | 第34-36页 |
| 1.3.4 太阳能选择性吸收膜及理论基础 | 第36-39页 |
| 1.3.5 太阳能选择性吸收膜的分类 | 第39-42页 |
| 1.3.6 太阳能选择性吸收膜的主要制备方法和进展 | 第42-46页 |
| 1.4 本课题的研究内容及意义 | 第46-49页 |
| 第二章 铜基片原位生长超低反射率纳米阵列 | 第49-81页 |
| 2.1 引言 | 第49-50页 |
| 2.2 实验部分 | 第50-52页 |
| 2.2.1 实验药品 | 第50-51页 |
| 2.2.2 合成方法 | 第51页 |
| 2.2.3 所用到的测试仪器 | 第51-52页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第52-67页 |
| 2.3.1 材料的TEM分析 | 第52页 |
| 2.3.2 材料的能谱分析 | 第52-54页 |
| 2.3.3 材料的结构分析 | 第54-56页 |
| 2.3.4 材料的表面分析 | 第56-59页 |
| 2.3.5 材料的截面分析 | 第59-61页 |
| 2.3.6 材料的反射率测试结果分析 | 第61-64页 |
| 2.3.7 反射率测试结果分不同波段分析 | 第64-67页 |
| 2.4 材料超低反射率的原理分析 | 第67-69页 |
| 2.5 不同排列方式的CuO纳米线阵列 | 第69-74页 |
| 2.5.1 不同排列方式的CuO纳米线阵列的表面形貌分析 | 第69-70页 |
| 2.5.2 不同排列方式的CuO纳米线阵列的截面分析 | 第70-71页 |
| 2.5.3 不同排列方式的CuO纳米线阵列的反射率测量 | 第71-72页 |
| 2.5.4 不同排列方式的CuO纳米线阵列反射率差异的分析 | 第72-74页 |
| 2.6 粗糙铜基底上原位生长CuO纳米线阵列 | 第74-78页 |
| 2.6.1 粗糙铜基底上CuO纳米线阵列的制备过程 | 第74页 |
| 2.6.2 粗糙铜基底上CuO纳米线阵列的表面形貌分析 | 第74-75页 |
| 2.6.3 粗糙铜基底上CuO纳米线阵列的截面分析 | 第75-76页 |
| 2.6.4 粗糙铜基底上CuO纳米线阵列的反射率测量 | 第76-77页 |
| 2.6.5 粗糙铜基底上CuO纳米线阵列的生长原理解释 | 第77-78页 |
| 2.7 本章小结 | 第78-81页 |
| 第三章 铁铬合金基片原位生长尖晶石低反射膜 | 第81-111页 |
| 3.1 引言 | 第81-82页 |
| 3.2 实验部分 | 第82-83页 |
| 3.2.1 实验药品 | 第82页 |
| 3.2.2 合成方法 | 第82-83页 |
| 3.2.3 所用到的测试仪器 | 第83页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第83-109页 |
| 3.3.1 膜材料的XPS分析 | 第83-84页 |
| 3.3.2 膜材料的EDS能谱分析 | 第84-85页 |
| 3.3.3 热处理前膜材料的XRD分析 | 第85-87页 |
| 3.3.4 热处理后膜材料的XRD分析 | 第87-89页 |
| 3.3.5 热处理前膜材料的表面形貌分析 | 第89-91页 |
| 3.3.6 热处理后膜材料的表面形貌分析 | 第91-93页 |
| 3.3.7 低反射膜的生长机理探究 | 第93-96页 |
| 3.3.8 热处理前膜材料的反射率分析（近紫外可见近红外区） | 第96-99页 |
| 3.3.9 热处理后膜材料的反射率分析（近紫外可见近红外区） | 第99-101页 |
| 3.3.10 热处理前膜材料在中红外区的反射率分析 | 第101-104页 |
| 3.3.11 热处理后膜材料在中红外区的反射率分析 | 第104-106页 |
| 3.3.12 膜材料在超宽光谱区实现低反射的原理分析 | 第106-109页 |
| 3.4 本章小结 | 第109-111页 |
| 第四章 不锈钢基片原位生长太阳光谱选择性吸收膜 | 第111-137页 |
| 4.1 引言 | 第111-112页 |
| 4.2 实验部分 | 第112-114页 |
| 4.2.1 实验药品 | 第112-113页 |
| 4.2.2 合成方法 | 第113页 |
| 4.2.3 所用到的测试仪器 | 第113-114页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第114-127页 |
| 4.3.1 膜材料的XRD分析 | 第114-115页 |
| 4.3.2 热处理前后膜材料的表面和截面形貌分析 | 第115-117页 |
| 4.3.3 热处理前后膜材料表面AFM分析 | 第117-119页 |
| 4.3.4 膜材料表面和截面的EDS分析 | 第119-121页 |
| 4.3.5 膜材料表面XPS分析 | 第121页 |
| 4.3.6 热处理前膜材料吸收率和热发射率分析 | 第121-123页 |
| 4.3.7 热处理后膜材料吸收率和热发射率分析 | 第123-125页 |
| 4.3.8 膜材料选择性吸收的原理分析 | 第125-127页 |
| 4.4 不同厚度的膜材料 | 第127-134页 |
| 4.4.1 不同厚度的膜材料的表面形貌图和截面图 | 第128-130页 |
| 4.4.2 热处理前不同厚度的膜材料的光热性能分析 | 第130-131页 |
| 4.4.3 热处理后不同厚度的膜材料的光热性能分析 | 第131-133页 |
| 4.4.4 厚度不同的膜材料热发射率不同的原因分析 | 第133-134页 |
| 4.5 本章小结 | 第134-137页 |
| 第五章 结论 | 第137-139页 |
| 参考文献 | 第139-149页 |
| 作者简介及科研成果 | 第149-151页 |
| 致谢 | 第151-152页 |
