霉变银盐感光底片修复与保护研究
| 摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第10-20页 |
| 1.1 引言 | 第10页 |
| 1.2 底片的组成 | 第10-13页 |
| 1.2.1 底片片基材料 | 第11-12页 |
| 1.2.2 底片乳剂材料 | 第12-13页 |
| 1.3 底片主要病害概述 | 第13-15页 |
| 1.3.1 霉变 | 第13页 |
| 1.3.2 银镜现象 | 第13-14页 |
| 1.3.3 划伤 | 第14页 |
| 1.3.4 醋酸综合症 | 第14-15页 |
| 1.4 常见菌种概述 | 第15-16页 |
| 1.5 国内外研究进展 | 第16-17页 |
| 1.5.1 国外研究进展 | 第16页 |
| 1.5.2 国内研究进展 | 第16-17页 |
| 1.6 本文研究的目的及意义 | 第17-20页 |
| 第2章 霉菌对底片的影响研究 | 第20-34页 |
| 2.1 引言 | 第20页 |
| 2.2 实验材料及其测试方法 | 第20-22页 |
| 2.2.1 实验材料及仪器 | 第20-21页 |
| 2.2.2 实验方法 | 第21-22页 |
| 2.3 实验结果与讨论 | 第22-29页 |
| 2.3.1 霉菌对黑白底片表面形貌的影响分析 | 第22-24页 |
| 2.3.2 霉菌对底片洗印照片的影响分析 | 第24页 |
| 2.3.3 霉菌对黑白底片机械性能的影响分析 | 第24-25页 |
| 2.3.4 霉菌对底片反光度的影响分析 | 第25-26页 |
| 2.3.5 霉变底片的热稳定性分析 | 第26-27页 |
| 2.3.6 霉变底片红外光谱分析 | 第27-29页 |
| 2.4 霉菌对黑白底片影响机理探讨 | 第29-31页 |
| 2.4.1 霉菌对乳剂层的影响机理探讨 | 第29页 |
| 2.4.2 霉菌对醋酸纤维素酯片基的影响机理探讨 | 第29-30页 |
| 2.4.3 霉菌对硝酸纤维素酯片基的影响机理探讨 | 第30-31页 |
| 2.5 小结 | 第31-34页 |
| 第3章 片基层霉变底片修复与保护研究 | 第34-54页 |
| 3.1 引言 | 第34-35页 |
| 3.2 片基层霉变修复与保护原理介绍 | 第35-36页 |
| 3.3 次氯酸钠对黑白底片片基的影响研究 | 第36-51页 |
| 3.3.1 实验仪器及药品 | 第36页 |
| 3.3.2 实验方法 | 第36-37页 |
| 3.3.3 微观形貌分析 | 第37-39页 |
| 3.3.4 傅里叶变换显微红外分析 | 第39-40页 |
| 3.3.5 视频光学接触角测试 | 第40-44页 |
| 3.3.6 热分析 | 第44-46页 |
| 3.3.7 紫外-可见光透光度测试 | 第46-48页 |
| 3.3.8 机械强度测试 | 第48-51页 |
| 3.4 片基层霉变底片修复后跟踪观察 | 第51-53页 |
| 3.5 小结 | 第53-54页 |
| 第4章 乳剂层霉变底片修复与保护研究 | 第54-68页 |
| 4.1 引言 | 第54-55页 |
| 4.2 实验仪器及药品 | 第55-56页 |
| 4.3 乳剂层霉变修复与保护原理介绍 | 第56-57页 |
| 4.4 乳剂层霉斑掩蔽剂的研制 | 第57-62页 |
| 4.4.1 模拟样品的制备 | 第57页 |
| 4.4.2 双癸二酸酯含量的确定 | 第57-58页 |
| 4.4.3 乳剂层霉斑掩蔽剂性能测试 | 第58-59页 |
| 4.4.4 乳剂层霉斑掩蔽剂对底片机械强度的影响 | 第59-61页 |
| 4.4.5 乳剂层霉斑掩蔽剂对底片光密度的影响 | 第61-62页 |
| 4.5 乳剂层霉斑掩蔽剂修复工艺研究 | 第62页 |
| 4.5.1 底片预处理 | 第62页 |
| 4.5.2 涂布黑白照相底片乳剂层霉斑掩蔽剂 | 第62页 |
| 4.6 乳剂层霉变黑白底片修复前后效果对比 | 第62-65页 |
| 4.7 小结 | 第65-68页 |
| 第5章 霉变X射线工业探伤底片修复与保护研究 | 第68-84页 |
| 5.1 引言 | 第68页 |
| 5.2 X射线底片病害调研 | 第68-71页 |
| 5.2.1 X射线底片病害现状 | 第68-70页 |
| 5.2.2 X射线底片微观形貌观察 | 第70-71页 |
| 5.3 底片霉菌鉴定 | 第71-74页 |
| 5.3.1 材料与方法 | 第71-72页 |
| 5.3.2 鉴定结果 | 第72-74页 |
| 5.4 X射线底片修复方法研究 | 第74-77页 |
| 5.4.1 X射线底片特殊性分析 | 第74页 |
| 5.4.2 修复与保护方案设计 | 第74-75页 |
| 5.4.3 纳米材料填充修复原理 | 第75-76页 |
| 5.4.4 纳米材料填充修复剂的研制 | 第76-77页 |
| 5.5 X射线底片修复工艺研究 | 第77-82页 |
| 5.5.1 X射线底片涂布方法研究 | 第77-78页 |
| 5.5.2 X射线底片修复支架设计 | 第78-79页 |
| 5.5.3 X射线底片修复过程 | 第79-81页 |
| 5.5.4 X射线底片修复效果 | 第81-82页 |
| 5.6 小结 | 第82-84页 |
| 结论 | 第84-86页 |
| 参考文献 | 第86-92页 |
| 致谢 | 第92-94页 |
| 攻读硕士学位期间科研成果 | 第94页 |
