| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-23页 |
| ·引言 | 第9-11页 |
| ·ZnO 纳米材料的制备方法和生长机理研究 | 第11-16页 |
| ·ZnO 材料的基本性质 | 第12页 |
| ·ZnO 纳米材料的制备方法 | 第12-15页 |
| ·ZnO 纳米材料生长机理的研究 | 第15-16页 |
| ·ZnO 纳米材料的主要性质及在光电领域的应用前景 | 第16-19页 |
| ·ZnO 纳米材料的主要性质 | 第16-18页 |
| ·ZnO 纳米材料在光电领域的应用前景 | 第18-19页 |
| ·选题背景与研究内容 | 第19-20页 |
| ·选题背景 | 第19-20页 |
| ·研究内容和论文结构 | 第20页 |
| 参考文献 | 第20-23页 |
| 第二章 ZnO 纳米材料的实验内容与表征方法 | 第23-33页 |
| ·概述 | 第23页 |
| ·ZnO 纳米材料的实验内容 | 第23-27页 |
| ·仪器设备 | 第23-25页 |
| ·分子束外延（MBE）的特点 | 第25-26页 |
| ·实验过程 | 第26-27页 |
| ·样品的表征方法简介 | 第27-31页 |
| ·扫描电子显微镜（SEM） | 第27-28页 |
| ·X 射线衍射（XRD） | 第28-29页 |
| ·透射电子显微镜（TEM） | 第29-30页 |
| ·光致发光谱（PL） | 第30-31页 |
| ·X 射线光电子能谱（XPS） | 第31页 |
| ·本章小结 | 第31-32页 |
| 参考文献 | 第32-33页 |
| 第三章 ZnO 纳米材料制备工艺的研究 | 第33-41页 |
| ·概述 | 第33页 |
| ·衬底温度的影响 | 第33-35页 |
| ·催化剂Au 的影响 | 第35-36页 |
| ·0_2 条件的影响 | 第36-38页 |
| ·生长时间的影响 | 第38-39页 |
| ·本章小结 | 第39页 |
| 参考文献 | 第39-41页 |
| 第四章 一维 ZnO 纳米线阵列的制备及其性能研究 | 第41-53页 |
| ·概述 | 第41-42页 |
| ·一维ZnO 纳米线阵列的形貌与结构特征 | 第42-45页 |
| ·一维ZnO 纳米线阵列的制备过程 | 第42-43页 |
| ·一维ZnO 纳米线阵列的形貌与结构分析 | 第43-45页 |
| ·一维ZnO 纳米线阵列的发光性能 | 第45-46页 |
| ·一维ZnO 纳米线阵列的X 射线光电子能谱研究 | 第46-48页 |
| ·一维ZnO 纳米线阵列的生长机理 | 第48-50页 |
| ·本章小结 | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-53页 |
| 第五章 ZnO 纳米片的制备及其性能研究 | 第53-62页 |
| ·概述 | 第53-54页 |
| ·ZnO 纳米片的形貌和结构特征 | 第54-57页 |
| ·ZnO 纳米片的制备过程 | 第54页 |
| ·ZnO 纳米片的形貌与结构分析 | 第54-57页 |
| ·ZnO 纳米片的发光性能 | 第57-58页 |
| ·ZnO 纳米片的X 射线光电子能谱研究 | 第58-59页 |
| ·本章小结 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
| 在读期间发表的学术论文与取得的研究成果 | 第63页 |