摘要 | 第3-5页 |
ABSTRACT | 第5-6页 |
1 绪论 | 第10-22页 |
1.1 研究背景与意义 | 第10页 |
1.2 光还原氧化石墨烯的国内外现状 | 第10-20页 |
1.2.1 普通光源还原氧化石墨烯 | 第10-15页 |
1.2.2 激光还原氧化石墨烯 | 第15-20页 |
1.3 存在的问题 | 第20-21页 |
1.4 课题的研究目的与研究内容 | 第21-22页 |
2 激光还原氧化石墨烯薄膜的原理与实验系统设计 | 第22-40页 |
2.1 激光还原氧化石墨烯薄膜的原理和影响因素 | 第22-25页 |
2.1.1 光化学还原氧化石墨烯薄膜的原理和影响因素分析 | 第22-24页 |
2.1.2 光热还原氧化石墨烯薄膜的原理和影响因素分析 | 第24-25页 |
2.2 试验系统设计 | 第25-28页 |
2.2.1 系统设计的要求 | 第25-26页 |
2.2.2 系统的设计 | 第26-28页 |
2.3 还原后氧化石墨烯样品的表征方法分析 | 第28-38页 |
2.3.1 透过率的表征方法 | 第29-30页 |
2.3.2 电阻率的表征方法 | 第30-37页 |
2.3.3 拉曼光谱的表征方法 | 第37-38页 |
2.4 实验操作流程 | 第38页 |
2.5 本章小结 | 第38-40页 |
3 氧化石墨烯薄膜的制备与表征 | 第40-56页 |
3.1 氧化石墨烯薄膜的制备 | 第40-47页 |
3.1.1 旋涂法制备氧化石墨烯薄膜工艺流程简介 | 第40-41页 |
3.1.2 氧化石墨烯溶液的制备 | 第41-42页 |
3.1.3 玻璃基片的亲水性处理 | 第42-45页 |
3.1.4 旋涂的氧化石墨烯薄膜厚度规律分析 | 第45-47页 |
3.2 氧化石墨烯薄膜的表征 | 第47-51页 |
3.2.1 氧化石墨烯薄膜的形貌 | 第48-49页 |
3.2.2 氧化石墨烯薄膜的拉曼光谱 | 第49-51页 |
3.3 带ITO电极的氧化石墨烯薄膜的制备 | 第51-54页 |
3.3.1 ITO电极的制备与表征 | 第52-53页 |
3.3.2 带ITO电极的氧化石墨烯薄膜的制备 | 第53-54页 |
3.4 本章小结 | 第54-56页 |
4 光化学还原氧化石墨烯薄膜的规律研究 | 第56-84页 |
4.1 曝光量和功率密度对GO薄膜还原的影响规律研究 | 第56-70页 |
4.1.1 实验 | 第56页 |
4.1.2 实验结果 | 第56-63页 |
4.1.3 实验结果分析 | 第63-70页 |
4.2 气氛对GO薄膜还原的影响规律研究 | 第70-75页 |
4.2.1 实验 | 第70页 |
4.2.2 实验结果 | 第70-74页 |
4.2.3 实验结果分析 | 第74-75页 |
4.3 薄膜厚度对GO薄膜还原的影响规律研究 | 第75-78页 |
4.3.1 实验 | 第75页 |
4.3.2 实验结果 | 第75-77页 |
4.3.3 实验结果分析 | 第77-78页 |
4.4 薄膜拉曼光谱测量的均匀性分析 | 第78-81页 |
4.4.1 同一薄膜不同区域的拉曼参数I_D/I_G测试结果 | 第78-81页 |
4.4.2 薄膜拉曼光谱测量的均匀性 | 第81页 |
4.5 本章小结 | 第81-84页 |
5 光热还原氧化石墨烯薄膜的规律研究 | 第84-102页 |
5.1 518nm的连续激光还原氧化石墨烯薄膜的规律研究 | 第84-92页 |
5.1.1 功率密度对氧化石墨烯薄膜还原的影响规律研究 | 第84-88页 |
5.1.2 薄膜厚度对氧化石墨烯薄膜还原的影响规律研究 | 第88-92页 |
5.2 637nm的连续激光还原氧化石墨烯薄膜的规律研究 | 第92-100页 |
5.2.1 功率密度对氧化石墨烯薄膜还原的影响规律研究 | 第92-96页 |
5.2.2 薄膜厚度对氧化石墨烯薄膜还原的影响规律研究 | 第96-100页 |
5.3 本章小结 | 第100-102页 |
6 总结与展望 | 第102-104页 |
6.1 本文工作总结 | 第102-103页 |
6.2 有待进一步解决的问题 | 第103-104页 |
致谢 | 第104-106页 |
参考文献 | 第106-110页 |
附录 | 第110页 |
A.作者在攻读学位期间发表的论文目录 | 第110页 |
B.参与的科研项目 | 第110页 |