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低功率密度连续激光还原氧化石墨烯薄膜研究

摘要第3-5页
ABSTRACT第5-6页
1 绪论第10-22页
    1.1 研究背景与意义第10页
    1.2 光还原氧化石墨烯的国内外现状第10-20页
        1.2.1 普通光源还原氧化石墨烯第10-15页
        1.2.2 激光还原氧化石墨烯第15-20页
    1.3 存在的问题第20-21页
    1.4 课题的研究目的与研究内容第21-22页
2 激光还原氧化石墨烯薄膜的原理与实验系统设计第22-40页
    2.1 激光还原氧化石墨烯薄膜的原理和影响因素第22-25页
        2.1.1 光化学还原氧化石墨烯薄膜的原理和影响因素分析第22-24页
        2.1.2 光热还原氧化石墨烯薄膜的原理和影响因素分析第24-25页
    2.2 试验系统设计第25-28页
        2.2.1 系统设计的要求第25-26页
        2.2.2 系统的设计第26-28页
    2.3 还原后氧化石墨烯样品的表征方法分析第28-38页
        2.3.1 透过率的表征方法第29-30页
        2.3.2 电阻率的表征方法第30-37页
        2.3.3 拉曼光谱的表征方法第37-38页
    2.4 实验操作流程第38页
    2.5 本章小结第38-40页
3 氧化石墨烯薄膜的制备与表征第40-56页
    3.1 氧化石墨烯薄膜的制备第40-47页
        3.1.1 旋涂法制备氧化石墨烯薄膜工艺流程简介第40-41页
        3.1.2 氧化石墨烯溶液的制备第41-42页
        3.1.3 玻璃基片的亲水性处理第42-45页
        3.1.4 旋涂的氧化石墨烯薄膜厚度规律分析第45-47页
    3.2 氧化石墨烯薄膜的表征第47-51页
        3.2.1 氧化石墨烯薄膜的形貌第48-49页
        3.2.2 氧化石墨烯薄膜的拉曼光谱第49-51页
    3.3 带ITO电极的氧化石墨烯薄膜的制备第51-54页
        3.3.1 ITO电极的制备与表征第52-53页
        3.3.2 带ITO电极的氧化石墨烯薄膜的制备第53-54页
    3.4 本章小结第54-56页
4 光化学还原氧化石墨烯薄膜的规律研究第56-84页
    4.1 曝光量和功率密度对GO薄膜还原的影响规律研究第56-70页
        4.1.1 实验第56页
        4.1.2 实验结果第56-63页
        4.1.3 实验结果分析第63-70页
    4.2 气氛对GO薄膜还原的影响规律研究第70-75页
        4.2.1 实验第70页
        4.2.2 实验结果第70-74页
        4.2.3 实验结果分析第74-75页
    4.3 薄膜厚度对GO薄膜还原的影响规律研究第75-78页
        4.3.1 实验第75页
        4.3.2 实验结果第75-77页
        4.3.3 实验结果分析第77-78页
    4.4 薄膜拉曼光谱测量的均匀性分析第78-81页
        4.4.1 同一薄膜不同区域的拉曼参数I_D/I_G测试结果第78-81页
        4.4.2 薄膜拉曼光谱测量的均匀性第81页
    4.5 本章小结第81-84页
5 光热还原氧化石墨烯薄膜的规律研究第84-102页
    5.1 518nm的连续激光还原氧化石墨烯薄膜的规律研究第84-92页
        5.1.1 功率密度对氧化石墨烯薄膜还原的影响规律研究第84-88页
        5.1.2 薄膜厚度对氧化石墨烯薄膜还原的影响规律研究第88-92页
    5.2 637nm的连续激光还原氧化石墨烯薄膜的规律研究第92-100页
        5.2.1 功率密度对氧化石墨烯薄膜还原的影响规律研究第92-96页
        5.2.2 薄膜厚度对氧化石墨烯薄膜还原的影响规律研究第96-100页
    5.3 本章小结第100-102页
6 总结与展望第102-104页
    6.1 本文工作总结第102-103页
    6.2 有待进一步解决的问题第103-104页
致谢第104-106页
参考文献第106-110页
附录第110页
    A.作者在攻读学位期间发表的论文目录第110页
    B.参与的科研项目第110页

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