| 学位论文数据集 | 第3-4页 |
| 摘要 | 第4-7页 |
| ABSTRACT | 第7-9页 |
| 第一章 绪论 | 第16-34页 |
| 1.1 引言 | 第16-17页 |
| 1.2 二氧化钛的简介 | 第17-18页 |
| 1.3 二氧化钛的光催化原理与应用 | 第18-20页 |
| 1.3.1 光催化原理 | 第18-19页 |
| 1.3.2 二氧化钛的应用 | 第19-20页 |
| 1.4 提高二氧化钛光催化性能的方法 | 第20-28页 |
| 1.4.1 对二氧化钛光触媒进行离子掺杂 | 第20-21页 |
| 1.4.2 对二氧化钛材料进行表面光敏化 | 第21页 |
| 1.4.3 对二氧化钛材料进行贵金属沉积 | 第21-22页 |
| 1.4.4 通过复合其他半导体材料改性 | 第22-23页 |
| 1.4.5 半导体-导电材料的复合 | 第23-24页 |
| 1.4.6 二氧化钛半导体的表面处理技术 | 第24页 |
| 1.4.7 对二氧化钛进行外场耦合 | 第24-25页 |
| 1.4.8 黑色二氧化钛 | 第25-28页 |
| 1.5 影响催化剂性能的因素 | 第28-31页 |
| 1.6 二氧化钛光催化存在的瓶颈 | 第31页 |
| 1.7 本课题研究的意义 | 第31-34页 |
| 第二章 催化剂的制备方法 | 第34-42页 |
| 2.1 实验材料、仪器以及反应装置 | 第34-35页 |
| 2.1.1 实验材料 | 第34页 |
| 2.1.2 实验仪器和反应装置 | 第34-35页 |
| 2.2 催化剂材料的制备 | 第35-37页 |
| 2.3 催化剂材料的表征与分析 | 第37-42页 |
| 2.3.1 XRD | 第37-38页 |
| 2.3.2 TEM&HRTEM | 第38页 |
| 2.3.3 UV-Vis | 第38页 |
| 2.3.4 XPS | 第38-39页 |
| 2.3.5 Raman | 第39页 |
| 2.3.6 EDS | 第39页 |
| 2.3.7 PL | 第39-42页 |
| 第三章 不同还原条件对于催化剂性能的影响 | 第42-62页 |
| 3.1 引言 | 第42页 |
| 3.2 有色二氧化钛的制备 | 第42页 |
| 3.3 有色二氧化钛的表征 | 第42-51页 |
| 3.3.1 XRD | 第42-43页 |
| 3.3.2 TEM & HRTEM | 第43-45页 |
| 3.3.3 UV-Vis-NIR | 第45-48页 |
| 3.3.4 Raman | 第48-49页 |
| 3.3.5 XPS | 第49-50页 |
| 3.3.6 PL | 第50-51页 |
| 3.4 有色二氧化钛光催化性能 | 第51-60页 |
| 3.4.1 不同配比的影响 | 第51-54页 |
| 3.4.2 不同反应温度对二氧化钛还原及其性能的影响 | 第54-55页 |
| 3.4.3 不同反应时间对二氧化钛还原及其性能的影响 | 第55-57页 |
| 3.4.4 催化剂表面积的影响 | 第57-59页 |
| 3.4.5 有色二氧化钛可见光光催化 | 第59-60页 |
| 3.5 本章小结 | 第60-62页 |
| 第四章 氮掺杂对催化剂性能的影响 | 第62-78页 |
| 4.1 前言 | 第62页 |
| 4.2 氮掺杂催化剂的制备 | 第62页 |
| 4.3 氮掺杂催化剂的表征 | 第62-68页 |
| 4.3.1 XRD | 第62-63页 |
| 4.3.2 XPS | 第63-65页 |
| 4.3.3 PL | 第65-66页 |
| 4.3.4 UV-Vis-NIR | 第66-67页 |
| 4.3.5 EDS | 第67-68页 |
| 4.4 氮气掺杂氮对光催化的影响 | 第68-69页 |
| 4.5 氨气掺杂氮对光催化的影响 | 第69-72页 |
| 4.5.1 后处理温度对掺杂氮元素的影响 | 第70-71页 |
| 4.5.2 后处理时间对掺杂氮元素的影响 | 第71-72页 |
| 4.6 催化剂的稳定性实验 | 第72-74页 |
| 4.7 氮掺杂二氧化钛对可见光的光催化实验 | 第74-75页 |
| 4.8 二氧化钛光催化甲苯动力学研究 | 第75-76页 |
| 4.9 本章小结 | 第76-78页 |
| 第五章 结论与建议 | 第78-80页 |
| 5.1 结论 | 第78页 |
| 5.2 建议 | 第78-80页 |
| 参考文献 | 第80-88页 |
| 致谢 | 第88-90页 |
| 作者及导师简介 | 第90-92页 |
| 硕士研究生学位论文答辩委员会决议书 | 第92-93页 |