| 摘要 | 第2-3页 |
| Abstract | 第3-4页 |
| 第一章 绪论 | 第7-15页 |
| 1.1 引言 | 第7页 |
| 1.2 软磁材料的发展 | 第7-10页 |
| 1.3 高频软磁薄膜的应用及发展 | 第10-13页 |
| 1.4 课题的研究意义 | 第13页 |
| 1.5 本论文的研究内容 | 第13-15页 |
| 第二章 基本理论知识 | 第15-25页 |
| 2.1 软磁材料静态磁化机制 | 第15-22页 |
| 2.1.1 磁化曲线与磁滞回线 | 第15-16页 |
| 2.1.2 磁畴理论 | 第16-20页 |
| 2.1.3 磁各向异性理论 | 第20-22页 |
| 2.2 软磁材料动态磁化机制 | 第22-25页 |
| 2.2.1 复数磁导率和磁谱 | 第22-23页 |
| 2.2.2 铁磁共振 | 第23-25页 |
| 第三章 Fe基软磁薄膜的制备工艺与性能表征 | 第25-37页 |
| 3.1 Fe基软磁薄膜的制备工艺 | 第25-31页 |
| 3.1.1 脉冲激光沉积法 | 第25-27页 |
| 3.1.2 图案化薄膜法 | 第27-29页 |
| 3.1.3 应力诱导法 | 第29-31页 |
| 3.2 Fe基软磁薄膜的性能测试与分析 | 第31-37页 |
| 3.2.1 X射线衍射分析（XRD） | 第31-32页 |
| 3.2.2 磁力显微镜（MFM） | 第32-33页 |
| 3.2.3 振动样品磁强计（VSM） | 第33-34页 |
| 3.2.4 矢量网络分析仪（VNA） | 第34-37页 |
| 第四章 图案化Ni_(80)Fe_(20)薄膜的制备及高频磁特性的研究 | 第37-51页 |
| 4.1 引言 | 第37页 |
| 4.2 图案化Ni_(80)Fe_(20)薄膜样品的制备 | 第37-44页 |
| 4.3 图案化Ni_(80)Fe_(20)薄膜样品的性能表征 | 第44-49页 |
| 4.3.1 XRD微结构分析 | 第44-45页 |
| 4.3.2 VSM磁滞回线测量 | 第45-46页 |
| 4.3.3 MFM磁畴结构表征 | 第46-47页 |
| 4.3.4 VNA磁谱测试 | 第47-49页 |
| 4.4 本章小结 | 第49-51页 |
| 第五章 脉冲激光沉积制备压应力可调控的Fe_(56)Co_(24)B_(20)非晶薄膜微波软磁特性研究 | 第51-63页 |
| 5.1 引言 | 第51页 |
| 5.2 压应力诱导的具有单轴各向异性的Fe_(56)Co_(24)B_(20)非晶薄膜的制备 | 第51-52页 |
| 5.3 压应力诱导的具有单轴各向异性的Fe_(56)Co_(24)B_(20)非晶薄膜的性能表征 | 第52-61页 |
| 5.3.1 XRD微结构分析 | 第53-54页 |
| 5.3.2 VSM磁滞回线测量 | 第54-55页 |
| 5.3.3 MFM磁畴结构表征 | 第55-57页 |
| 5.3.4 VNA磁谱测试 | 第57-61页 |
| 5.4 本章小结 | 第61-63页 |
| 第六章 结论 | 第63-65页 |
| 参考文献 | 第65-71页 |
| 攻读硕士期间的科研成果 | 第71-73页 |
| 致谢 | 第73-74页 |
