可调高功率脉冲磁控溅射法制备太阳能选择性吸收光热涂层
| 摘要 | 第9-11页 |
| ABSTRACT | 第11-12页 |
| 第一章 绪论 | 第13-25页 |
| 1.1 课题背景及意义 | 第13-14页 |
| 1.2 太阳能选择性吸收光热涂层的原理及分类 | 第14-17页 |
| 1.3 太阳能选择性吸收光热涂层的制备方法 | 第17-19页 |
| 1.4 太阳能选择性吸收光热涂层的研究现状 | 第19-20页 |
| 1.5 可调脉冲高功率磁控溅射及其放电特性 | 第20-22页 |
| 1.6 主要研究内容及研究目标 | 第22-25页 |
| 第二章 光热涂层的制备及结构性能表征 | 第25-33页 |
| 2.1 实验材料 | 第25页 |
| 2.2 实验设备 | 第25-27页 |
| 2.3 研究路线流程图 | 第27-28页 |
| 2.4 涂层的制备过程 | 第28-29页 |
| 2.4.1 基片处理 | 第28-29页 |
| 2.4.2 涂层制备 | 第29页 |
| 2.5 涂层的测试分析方法 | 第29-33页 |
| 2.5.1 吸收率测试 | 第30页 |
| 2.5.2 发射率测试 | 第30-31页 |
| 2.5.3 涂层表面形貌分析 | 第31-32页 |
| 2.5.4 涂层微观结构分析 | 第32-33页 |
| 第三章 光热涂层的工艺参数优化 | 第33-53页 |
| 3.1 MPP电源参数优化设计 | 第33-37页 |
| 3.1.1 脉冲电压的调控 | 第35-36页 |
| 3.1.2 脉冲频率的调控 | 第36-37页 |
| 3.2 镀膜过程优化 | 第37-43页 |
| 3.2.1 波形形状及脉宽调控 | 第37-39页 |
| 3.2.2 脉冲占空比的调控 | 第39-40页 |
| 3.2.3 Cu层镀膜温度优化 | 第40-42页 |
| 3.2.4 基体偏压优化 | 第42-43页 |
| 3.3 涂层厚度优化 | 第43-49页 |
| 3.3.1 TiN层镀膜时间优化 | 第45-46页 |
| 3.3.2 TiSiN层镀膜时间优化 | 第46-47页 |
| 3.3.3 SiN层镀膜时间优化 | 第47-49页 |
| 3.4 实验稳定性验证 | 第49-51页 |
| 3.5 本章小结 | 第51-53页 |
| 第四章 光热涂层的分析测试 | 第53-67页 |
| 4.1 光热涂层分层叠加性能分析 | 第53-55页 |
| 4.2 涂层晶型测试 | 第55-56页 |
| 4.3 涂层耐温性能测试 | 第56-65页 |
| 4.3.1 真空中耐温测试 | 第57-60页 |
| 4.3.2 空气中耐温测试 | 第60-65页 |
| 4.4 本章小结 | 第65-67页 |
| 第五章 结论与展望 | 第67-69页 |
| 5.1 结论 | 第67页 |
| 5.2 展望 | 第67-68页 |
| 5.3 创新点 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-77页 |
| 致谢 | 第77-78页 |
| 学位论文评阅及答辩情况表 | 第78页 |
