| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-20页 |
| 1.1 课题来源及研究的目的和意义 | 第9-10页 |
| 1.2 高太阳吸收率膜层 | 第10-11页 |
| 1.3 高吸收率膜层的制备方法概述 | 第11-13页 |
| 1.3.1 高吸收高发射膜层的制备方法概述 | 第11页 |
| 1.3.2 高吸收低发射膜层的制备方法概述 | 第11-13页 |
| 1.4 电化学氧化在功能涂层上的应用概述 | 第13-19页 |
| 1.4.1 阳极氧化技术的应用概述 | 第13-15页 |
| 1.4.2 微弧氧化技术的应用概述 | 第15-17页 |
| 1.4.3 电化学氧化在高吸收率和高发射率膜层上的应用 | 第17-19页 |
| 1.5 本论文研究内容 | 第19-20页 |
| 第2章 实验材料及研究方法 | 第20-23页 |
| 2.1 实验材料及化学药品 | 第20-21页 |
| 2.1.1 实验材料 | 第20页 |
| 2.1.2 实验药品 | 第20-21页 |
| 2.2 实验设备及样品制备过程 | 第21页 |
| 2.2.1 实验设备 | 第21页 |
| 2.2.2 实验步骤 | 第21页 |
| 2.3 膜层表征方法 | 第21-23页 |
| 第3章 高吸收率高发射率膜层的制备及性能研究 | 第23-40页 |
| 3.1 电解液组分对膜层结构组成和性能的影响 | 第23-34页 |
| 3.1.1 不同偏钒酸铵浓度下膜层的结构和性能 | 第23-28页 |
| 3.1.2 不同硫酸亚铁浓度下膜层的结构和性能 | 第28-31页 |
| 3.1.3 不同醋酸镍浓度下膜层的结构和性能 | 第31-34页 |
| 3.2 反应电压对膜层结构和性能的影响 | 第34-37页 |
| 3.2.1 反应电压对膜层结构的影响 | 第35-36页 |
| 3.2.2 反应电压对膜层性能的影响 | 第36-37页 |
| 3.3 反应时间对膜层结构和性能的影响 | 第37-39页 |
| 3.3.1 反应时间对膜层结构的影响 | 第37-38页 |
| 3.3.2 反应时间对膜层性能的影响 | 第38-39页 |
| 3.4 本章小结 | 第39-40页 |
| 第4章 高吸收低发射膜层制备及性能研究 | 第40-56页 |
| 4.1 前处理工艺探索 | 第40页 |
| 4.2 氧化时间对膜层组成结构及性能的影响 | 第40-49页 |
| 4.2.1 膜层的组成结构 | 第41-46页 |
| 4.2.2 膜层的性能 | 第46-49页 |
| 4.3 电压对膜层结构及性能的影响 | 第49-54页 |
| 4.3.1 膜层的组成结构 | 第49-51页 |
| 4.3.2 膜层的性能 | 第51-54页 |
| 4.4 高吸收率低发射率膜层的机制分析 | 第54页 |
| 4.5 本章小结 | 第54-56页 |
| 第5章 阳极氧化法制备高吸收低发射膜层及性能研究 | 第56-75页 |
| 5.1 反应电压对膜层组成结构及性能的影响 | 第56-63页 |
| 5.1.1 膜层的结构与组成 | 第57-60页 |
| 5.1.2 膜层吸收率和发射率 | 第60-63页 |
| 5.2 反应时间对膜层性能的影响 | 第63-67页 |
| 5.2.1 膜层的结构 | 第63-64页 |
| 5.2.2 膜层吸收率和发射率 | 第64-67页 |
| 5.3 阳极氧化膜层/ 氧化锰复合膜层的制备及性能研究 | 第67-74页 |
| 5.3.1 硫酸锰浓度对膜层组成结构及性能的影响 | 第67-71页 |
| 5.3.2 反应时间对膜层的影响 | 第71-73页 |
| 5.3.3 氧化电压对膜层发射率的影响 | 第73页 |
| 5.3.4 沉积氧化锰前后膜层红外发射率对比 | 第73-74页 |
| 5.4 本章小结 | 第74-75页 |
| 结论 | 第75-77页 |
| 参考文献 | 第77-81页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文及其它成果 | 第81-83页 |
| 致谢 | 第83页 |