| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-31页 |
| 1.1 红外窗口材料概述 | 第10-12页 |
| 1.2 AlON陶瓷的化学组成及结构 | 第12-14页 |
| 1.3 影响AlON透明陶瓷透过率的因素 | 第14-17页 |
| 1.3.1 光的吸收 | 第15页 |
| 1.3.2 晶界 | 第15-16页 |
| 1.3.3 气孔 | 第16页 |
| 1.3.4 杂质与非主晶相 | 第16-17页 |
| 1.3.5 抛光表面 | 第17页 |
| 1.4 AlON透明陶瓷的制备方法 | 第17-27页 |
| 1.4.1 AlON粉体的制备 | 第18-20页 |
| 1.4.2 素坯成型技术 | 第20-23页 |
| 1.4.3 AlON透明陶瓷的烧结 | 第23-27页 |
| 1.5 AlON透明陶瓷的应用 | 第27页 |
| 1.6 国内外研究现状 | 第27-30页 |
| 1.7 课题提出与研究内容 | 第30-31页 |
| 1.7.1 课题提出 | 第30页 |
| 1.7.2 研究内容 | 第30-31页 |
| 第二章 实验与测试表征 | 第31-35页 |
| 2.1 实验流程 | 第31-32页 |
| 2.2 实验原料与设备 | 第32页 |
| 2.3 测试与表征 | 第32-35页 |
| 2.3.1 场发射扫描电子显微镜(FESEM)测试 | 第33页 |
| 2.3.2 粒度分析测试 | 第33页 |
| 2.3.3 比表面积(BET)测试 | 第33页 |
| 2.3.4 X射线衍射(XRD)测试 | 第33页 |
| 2.3.5 光学显微镜测试 | 第33-34页 |
| 2.3.6 光学直线透过率测试 | 第34-35页 |
| 第三章 碳热还原氮化法和无压烧结制备AlON透明陶瓷 | 第35-53页 |
| 3.1 引言 | 第35页 |
| 3.2 实验过程 | 第35-36页 |
| 3.3 碳热还原氮化法合成纯相AlON粉体 | 第36-46页 |
| 3.3.1 原料粉体的表征 | 第36-39页 |
| 3.3.2 球磨时间对 γ-Al2O3/C混合粉体均匀性的影响 | 第39-41页 |
| 3.3.3 球磨时间对碳热还原氮化法合成粉体物相组成的影响 | 第41-42页 |
| 3.3.4 第一步保温温度对合成粉体物相组成的影响 | 第42-43页 |
| 3.3.5 第二步合成温度及时间对合成粉体物相组成的影响 | 第43-44页 |
| 3.3.6 合成的AlON粉体的形貌分析 | 第44-45页 |
| 3.3.7 不同原料堆积量对合成粉体相组成的影响 | 第45-46页 |
| 3.4 AlON粉体球磨工艺的优化 | 第46-48页 |
| 3.4.1 球磨时间对AlON粉体粒度及形貌的影响 | 第46-48页 |
| 3.5 AlON透明陶瓷的无压烧结 | 第48-52页 |
| 3.5.1 球磨时间对AlON透明陶瓷透过率的影响 | 第48-51页 |
| 3.5.2 球磨时间对AlON透明陶瓷微观形貌的影响 | 第51-52页 |
| 3.6 本章小结 | 第52-53页 |
| 第四章 AlON透明陶瓷的热等静压后处理 | 第53-59页 |
| 4.1 引言 | 第53-54页 |
| 4.2 实验过程 | 第54页 |
| 4.3 不添加烧结助剂AlON透明陶瓷的HIP后处理 | 第54-55页 |
| 4.3.1 预烧温度对HIP前后样品透过率的影响 | 第54-55页 |
| 4.4 添加Y_2O_3-MgO复合烧结助剂AlON透明陶瓷的HIP后处理 | 第55-58页 |
| 4.4.1 预烧温度对HIP前后样品透过率的影响 | 第55-57页 |
| 4.4.2 HIP对AlON透明陶瓷微观结构的影响 | 第57-58页 |
| 4.5 本章小结 | 第58-59页 |
| 第五章 结论与展望 | 第59-61页 |
| 5.1 结论 | 第59-60页 |
| 5.2 展望 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-71页 |
| 致谢 | 第71-72页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第72页 |
