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热障涂层复阻抗谱影响参数的有限元模拟

摘要第4-5页
Abstract第5-6页
第1章 绪论第9-22页
    1.1 引言第9-10页
    1.2 热障涂层概述第10-13页
        1.2.1 热障涂层的概念及结构第10-11页
        1.2.2 热障涂层的制备工艺第11-13页
        1.2.3 热障涂层的失效第13页
    1.3 热障涂层的复阻抗谱无损检测第13-18页
        1.3.1 热障涂层的无损检测第13-14页
        1.3.2 热障涂层的复阻抗谱无损检测第14-15页
        1.3.3 复阻抗谱原理第15-18页
    1.4 热障涂层复阻抗谱检测的有限元模拟第18-22页
        1.4.1 热障涂层复阻抗谱检测的缺陷第18页
        1.4.2 复阻抗谱检测的有限元模拟第18-19页
        1.4.3 有限元原理第19-22页
第2章 热障涂层复阻抗谱检测的模型与实验第22-30页
    2.1 热障涂层的有限元模型及结果处理第22-26页
        2.1.1 有限元模型第22-25页
        2.1.2 有限元结果的处理第25-26页
    2.2 热障涂层复阻抗谱测量实验第26-30页
        2.2.1 样品的处理第26页
        2.2.2 复阻抗谱测量实验第26-30页
第3章 热障涂层复阻抗谱最佳测量条件及拟合参数的确定第30-43页
    3.1 热障涂层复阻抗谱最佳测量条件第30-36页
        3.1.1 测量电压第30-31页
        3.1.2 测量温度第31-33页
        3.1.3 测量电极大小第33-35页
        3.1.4 小结第35-36页
    3.2 热障涂层复阻抗谱拟合参数的确定第36-43页
        3.2.1 YSZ结构对拟合结果的影响第36-39页
        3.2.2 TGO结构对拟合结果的影响第39-41页
        3.2.3 小结第41-43页
第4章 热障涂层复阻抗谱检测时电场分布及其影响第43-51页
    4.1 测量环境对电场分布的影响第44-46页
        4.1.1 测量电压的影响第44-45页
        4.1.2 测量温度的影响第45-46页
        4.1.3 测量电极大小的影响第46页
    4.2 TBCs结构对电场分布的影响第46-49页
        4.2.1 YSZ结构的影响第46-48页
        4.2.2 TGO结构的影响第48-49页
    4.3 小结第49-51页
第5章 总结与展望第51-54页
    5.1 工作总结第51-52页
    5.2 工作展望第52-54页
参考文献第54-59页
致谢第59-60页
个人简历第60-61页
附录A:攻读硕士学位期间发表的专利及学术论文第61页

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