| 中文摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第11-24页 |
| 1.1 软物质 | 第11-12页 |
| 1.1.1 软物质的基本概念 | 第11页 |
| 1.1.2 软物质的基本特性 | 第11-12页 |
| 1.2 共轭聚合物取向调控的意义 | 第12-18页 |
| 1.2.1 聚噻吩及其衍生物的取向调控 | 第14-16页 |
| 1.2.2 D-A型共轭聚合物的取向调控 | 第16-18页 |
| 1.3 共轭聚合物的微纳加工方法 | 第18-21页 |
| 1.3.1 纳米压印技术 | 第18-20页 |
| 1.3.2 纳米转移印刷技术 | 第20-21页 |
| 1.4 本论文工作的选题和切入点 | 第21-24页 |
| 第二章 D-A型共轭聚合物的合成及表征 | 第24-35页 |
| 2.1 引言 | 第24-26页 |
| 2.2 原料、试剂和仪器 | 第26-27页 |
| 2.3 合成路线和步骤 | 第27-29页 |
| 2.4 表征 | 第29-34页 |
| 2.4.1 单体表征 | 第29-31页 |
| 2.4.2 聚合物表征 | 第31-34页 |
| 2.5 本章小结 | 第34-35页 |
| 第三章 D-A型共轭聚合物纳米阵列的构筑 | 第35-44页 |
| 3.1 引言 | 第35-36页 |
| 3.2 原料、试剂和仪器 | 第36-37页 |
| 3.3 溶剂对D-A型共轭聚合物结晶行为的影响 | 第37-39页 |
| 3.3.1 基底修饰 | 第37页 |
| 3.3.2 溶剂选择 | 第37-39页 |
| 3.4 聚二甲基硅氧烷PDMS软模板的制备和表征 | 第39-40页 |
| 3.4.1 聚二甲基硅氧烷PDMS软模板的制备流程 | 第39页 |
| 3.4.2 聚二甲基硅氧烷PDMS软模板的表征 | 第39-40页 |
| 3.5 D-A型共轭聚合物纳米结构阵列的构筑和表征 | 第40-43页 |
| 3.5.1 D-A型共轭聚合物纳米结构阵列的构筑流程 | 第40-41页 |
| 3.5.2 D-A型共轭聚合物纳米结构阵列的形貌表征 | 第41-43页 |
| 3.6 本章小结 | 第43-44页 |
| 第四章D-A型共轭聚合物分子和晶体的取向调控 | 第44-60页 |
| 4.1 引言 | 第44页 |
| 4.2 实验部分 | 第44-45页 |
| 4.3 D-A型共轭聚合物薄膜中分子和晶体的取向研究 | 第45-48页 |
| 4.3.1 同步辐射广角掠入射X射线衍射方法简介 | 第45-46页 |
| 4.3.2 D-A型共轭聚合物薄膜中分子和晶体取向及温度影响 | 第46-48页 |
| 4.4 D-A型共轭聚合物纳米结构阵列中分子和晶体的取向研究 | 第48-55页 |
| 4.4.1 纳米结构中分子和晶体取向表征——选区电子衍射 | 第48-50页 |
| 4.4.2 纳米结构中分子和晶体取向表征——广角掠入射X射线衍射 | 第50-55页 |
| 4.5 受限强度对D-A型共轭聚合物晶体取向度的调控 | 第55-59页 |
| 4.5.1 正交偏光显微镜原理 | 第55-56页 |
| 4.5.2 受限强度对D-A型共轭聚合物晶体取向度的调控 | 第56-59页 |
| 4.6 本章小结 | 第59-60页 |
| 第五章D-A型共轭聚合物分子和晶体取向对晶体管载流子迁移率的调控 | 第60-69页 |
| 5.0 引言 | 第60页 |
| 5.1 有机场效应晶体管简介 | 第60-61页 |
| 5.2 实验部分 | 第61-62页 |
| 5.3 D-A型共轭聚合物分子和晶体取向对晶体管载流子迁移率的调控 | 第62-67页 |
| 5.3.1 温度诱导的分子和晶体取向对载流子迁移率的调控 | 第62-63页 |
| 5.3.2 受限强度诱导的分子和晶体取向对载流子迁移率的调控 | 第63-67页 |
| 5.4 D-A型共轭聚合物分子和晶体取向对晶体管载流子迁移率的调控机理 | 第67页 |
| 5.5 本章小结 | 第67-69页 |
| 全文总结与展望 | 第69-71页 |
| 参考文献 | 第71-83页 |
| 攻读硕士学位期间公开发表的论文及科研成果 | 第83-84页 |
| 致谢 | 第84-85页 |
