| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 引言 | 第9-10页 |
| 1 文献综述 | 第10-23页 |
| 1.1 半导体光催化 | 第10-11页 |
| 1.2 TiO_2光催化的优点 | 第11-13页 |
| 1.3 光催化机理及影响因素 | 第13-16页 |
| 1.3.1 光催化机理 | 第13-15页 |
| 1.3.2 TiO_2光催化活性的影响因素 | 第15-16页 |
| 1.4 TiO_2薄膜的制备方法 | 第16-19页 |
| 1.4.1 溶胶-凝胶法 | 第16-17页 |
| 1.4.2 电化学法 | 第17页 |
| 1.4.3 液相沉积法 | 第17-18页 |
| 1.4.4 物理气相沉积法 | 第18页 |
| 1.4.5 化学气相沉积 | 第18-19页 |
| 1.4.6 自组装法 | 第19页 |
| 1.4.7 浸渍法 | 第19页 |
| 1.5 TiO_2光催化存在的问题 | 第19-20页 |
| 1.6 TiO_2研究现状 | 第20-21页 |
| 1.6.1 提高量子效率的研究 | 第20页 |
| 1.6.2 拓展响应光谱的研究 | 第20页 |
| 1.6.3 TiO_2回收利用及薄膜性能提高的研究 | 第20-21页 |
| 1.7 选题意义及研究内容 | 第21-23页 |
| 2 实验部分 | 第23-27页 |
| 2.1 主要药品 | 第23-24页 |
| 2.2 仪器和设备 | 第24页 |
| 2.3 实验步骤 | 第24-25页 |
| 2.4 表征及检测手段 | 第25-27页 |
| 3 硅基底的制备 | 第27-33页 |
| 3.1 硅锥结构的制备 | 第27页 |
| 3.2 三维抗反射结构的制备 | 第27页 |
| 3.3 表征与分析 | 第27-32页 |
| 3.3.1 基底SEM照片 | 第27-31页 |
| 3.3.2 紫外-可见漫反射光谱 | 第31-32页 |
| 3.4 本章小结 | 第32-33页 |
| 4 TiO_2薄膜的制备表征 | 第33-40页 |
| 4.1 TiO_2薄膜的制备 | 第33页 |
| 4.2 TiO_2薄膜的表征分析与讨论 | 第33-39页 |
| 4.2.1 TiO_2薄膜的SEM表征 | 第33-35页 |
| 4.2.2 TiO_2薄膜的XRD表征 | 第35-37页 |
| 4.2.3 TiO_2薄膜紫外-可见漫反射表征 | 第37-39页 |
| 4.3 本章小结 | 第39-40页 |
| 5 TiO_2薄膜的光催化效果 | 第40-54页 |
| 5.1 甲基橙标准曲线 | 第40-42页 |
| 5.2 基底结构对TiO_2薄膜催化性能的影响 | 第42-44页 |
| 5.3 制备的时间对TiO_2薄膜光催化性能的影响 | 第44-46页 |
| 5.4 煅烧温度对TiO_2薄膜光催化性能的影响 | 第46-47页 |
| 5.5 甲基橙和亚甲基蓝的降解速率差异 | 第47-50页 |
| 5.6 TiO_2薄膜光催化性能重复性的测试 | 第50-51页 |
| 5.7 光催化过程中的影响因素 | 第51-53页 |
| 5.7.1 搅拌对光催化效果的影响 | 第51-52页 |
| 5.7.2 有机物初始浓度对光催化效果的影响 | 第52-53页 |
| 5.8 本章小结 | 第53-54页 |
| 结论 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-59页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第59-60页 |
| 致谢 | 第60-61页 |