| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-16页 |
| 1.1 课题研究的背景和意义 | 第9-11页 |
| 1.2 国内外研究现状及分析 | 第11-14页 |
| 1.2.1 国外研究现状 | 第12-13页 |
| 1.2.2 国内研究现状 | 第13-14页 |
| 1.2.3 国内外文献综述简析 | 第14页 |
| 1.3 本文主要研究内容 | 第14-16页 |
| 第2章 椭偏特性的理论计算基础 | 第16-27页 |
| 2.1 椭偏测量原理 | 第16-17页 |
| 2.2 穆勒矩阵 | 第17-18页 |
| 2.3 求解随机粗糙表面电磁响应的数值方法 | 第18-26页 |
| 2.3.1 三维问题的FDTD差分近似及近远场外推 | 第19-23页 |
| 2.3.2 RCWA基本计算原理 | 第23-26页 |
| 2.4 本章小结 | 第26-27页 |
| 第3章 高斯随机微粗糙表面分层等效介质模型的建立 | 第27-45页 |
| 3.1 分层等效介质模型 | 第27-29页 |
| 3.2 分层等效介质模型的使用限制 | 第29-33页 |
| 3.3 分层等效介质模型厚度选取规律 | 第33-39页 |
| 3.4 材料光学常数对分层等效介质模型计算精度的影响 | 第39-41页 |
| 3.5 入射角对分层等效介质模型计算精度的影响 | 第41-42页 |
| 3.6 分层等效介质模型计算结果与实验数据对比 | 第42-43页 |
| 3.7 本章小结 | 第43-45页 |
| 第4章 高斯随机微粗糙表面的穆勒矩阵分析 | 第45-58页 |
| 4.1 粗糙表面形貌特征对穆勒矩阵的影响 | 第45-49页 |
| 4.1.1 相对粗糙度的影响 | 第45-47页 |
| 4.1.2 自相关长度的影响 | 第47-49页 |
| 4.2 光学常数对穆勒矩阵的影响 | 第49-55页 |
| 4.2.1 折射率的影响 | 第50-52页 |
| 4.2.2 消光系数的影响 | 第52-55页 |
| 4.3 入射角对穆勒矩阵的影响 | 第55-57页 |
| 4.4 本章小结 | 第57-58页 |
| 结论 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-65页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文及其它成果 | 第65-67页 |
| 致谢 | 第67页 |