| 摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-35页 |
| 1.1 自旋电子学简介 | 第9-11页 |
| 1.2 几种磁电阻效应 | 第11-18页 |
| 1.3 自旋转移力矩效应 | 第18-19页 |
| 1.4 自旋轨道耦合效应 | 第19-22页 |
| 1.5 磁子自旋学 | 第22-25页 |
| 1.6 铁磁绝缘体 | 第25-26页 |
| 1.7 自旋塞贝克效应 | 第26-28页 |
| 1.8 自旋电子器件 | 第28-35页 |
| 第二章 实验方法 | 第35-49页 |
| 2.1 薄膜制备方法 | 第35-38页 |
| 2.2 微纳米加工技术 | 第38-42页 |
| 2.3 结构和磁性表征 | 第42-47页 |
| 2.4 磁电输运性质测量 | 第47-49页 |
| 第三章 CoFe_2O_4/Pt体系的自旋霍尔磁电阻研究 | 第49-59页 |
| 3.1 研究背景 | 第49-50页 |
| 3.2 CoFe_2O_4/Pt薄膜体系的制备与表征 | 第50-52页 |
| 3.3 CoFe_2O_4/Pt体系的自旋霍尔磁电阻研究 | 第52-58页 |
| 3.4 本章小结 | 第58-59页 |
| 第四章 Hanle磁电阻：边界自旋积累和界面自旋流的作用 | 第59-71页 |
| 4.1 研究背景 | 第59-61页 |
| 4.2 纯Pt体系的Hanle磁电阻研究 | 第61-64页 |
| 4.3 YIG/Pt与CoFe_2O_4/Pt体系的Hanle磁电阻研究 | 第64-68页 |
| 4.4 边界自旋积累与界面自旋流在Hanle磁电阻中的作用 | 第68-69页 |
| 4.5 本章小结 | 第69-71页 |
| 第五章 铁磁金属NiFe中的逆自旋霍尔效应研究 | 第71-85页 |
| 5.1 研究背景 | 第71-73页 |
| 5.2 YIG/Cu/NiFe/IrMn/Ta异质结构的制备与表征 | 第73-75页 |
| 5.3 横向自旋塞贝克(TSSE)中Ni Fe的逆自旋霍尔效应研究 | 第75-79页 |
| 5.4 纵向自旋塞贝克(LSSE)中Ni Fe的逆自旋霍尔效应研究 | 第79-82页 |
| 5.5 SSE和铁磁金属中ISHE的起源 | 第82-83页 |
| 5.6 本章小结 | 第83-85页 |
| 第六章 Pt/YIG/Pt垂直异质结构中磁子辅助的电流拖拽效应 | 第85-97页 |
| 6.1 研究背景 | 第85-86页 |
| 6.2 YIG薄膜生长条件的优化 | 第86-87页 |
| 6.3 Pt/YIG/Pt垂直异质结构的制备与表征 | 第87-89页 |
| 6.4 Pt/YIG/Pt垂直异质结构中磁子辅助的电流拖拽效应 | 第89-96页 |
| 6.5 本章小结 | 第96-97页 |
| 第七章 YIG/Au/YIG-磁子自旋流驱动的自旋阀结构 | 第97-107页 |
| 7.1 研究背景 | 第97-98页 |
| 7.2 YIG/Au/YIG自旋阀结构的制备与表征 | 第98-99页 |
| 7.3 YIG/Au/YIG自旋阀结构中热驱动的自旋输运研究 | 第99-105页 |
| 7.4 本章小结 | 第105-107页 |
| 第八章 论文小结和研究展望 | 第107-110页 |
| 8.1 论文小结 | 第107-108页 |
| 8.2 研究展望 | 第108-110页 |
| 参考文献 | 第110-123页 |
| 个人简历 | 第123-125页 |
| 攻读博士期间发表文章目录 | 第125-128页 |
| 专利授权和申请情况 | 第128-129页 |
| 致谢 | 第129-130页 |
