| 致谢 | 第4-6页 |
| 摘要 | 第6-8页 |
| ABSTRACT | 第8-9页 |
| 第1章 绪论 | 第13-33页 |
| 1.1 引言 | 第13-16页 |
| 1.2 基于散粒磨料的超光滑抛光材料去除机理 | 第16-30页 |
| 1.2.1 宏观尺度机理研究 | 第17-22页 |
| 1.2.1.1 磨粒磨损理论机理研究 | 第18-19页 |
| 1.2.1.2 流体冲蚀理论研究 | 第19页 |
| 1.2.1.3 宏观材料去除机理的应用实例 | 第19-22页 |
| 1.2.1.4 小结 | 第22页 |
| 1.2.2 微观尺度机理研究 | 第22-30页 |
| 1.2.2.1 两种典型接触模式的模型研究 | 第23-24页 |
| 1.2.2.2 以分子动力学仿真为代表的仿真模拟研究 | 第24-27页 |
| 1.2.2.3 以原子力显微镜划痕实验为代表的实验机理研究 | 第27-29页 |
| 1.2.2.4 小结 | 第29-30页 |
| 1.2.3 宏观尺度和微观尺度的对比 | 第30页 |
| 1.3 论文的研究任务 | 第30-31页 |
| 1.4 论文的主要研究内容及章节安排 | 第31-33页 |
| 第2章 中观尺度材料去除模型研究 | 第33-46页 |
| 2.1 引言 | 第33-35页 |
| 2.1.1 中观尺度的定义 | 第33-34页 |
| 2.1.2 研究方法可行性分析 | 第34-35页 |
| 2.2 中观尺度宏观层面材料去除率模型 | 第35-36页 |
| 2.3 中观尺度微观层面材料去除率模型 | 第36-43页 |
| 2.3.1 基本思路及假设 | 第36-40页 |
| 2.3.1.1 基本思路 | 第36页 |
| 2.3.1.2 假设 1 | 第36页 |
| 2.3.1.3 假设 2 | 第36-37页 |
| 2.3.1.4 假设 3 | 第37-40页 |
| 2.3.1.5 假设 4 | 第40页 |
| 2.3.2 非储液抛光模的材料去除率模型 | 第40-41页 |
| 2.3.2.1 滑动磨粒的材料去除率 | 第40-41页 |
| 2.3.2.2 滚动磨粒的材料去除率 | 第41页 |
| 2.3.2.3 总的材料去除率 | 第41页 |
| 2.3.3 储液抛光模抛光下的材料去除率模型 | 第41-43页 |
| 2.3.3.1 磨粒2的材料去除率 | 第42页 |
| 2.3.3.2 磨粒3的材料去除率 | 第42-43页 |
| 2.3.3.3 总的材料去除率 | 第43页 |
| 2.4 混合的中观模型研究 | 第43-45页 |
| 2.4.1 非储液抛光模中观机理模型的参量讨论 | 第44页 |
| 2.4.2 储液抛光模中观机理模型的参量讨论 | 第44-45页 |
| 2.5 本章小结 | 第45-46页 |
| 第3章 中观尺度试验方法 | 第46-62页 |
| 3.1 引言 | 第46-48页 |
| 3.2 微摩擦仪系统 | 第48-52页 |
| 3.2.1 系统组成 | 第48-49页 |
| 3.2.2 基本原理 | 第49-52页 |
| 3.3 三种抛光面的制作 | 第52-55页 |
| 3.4 玻璃材料 | 第55页 |
| 3.5 氧化铈的粒径分析 | 第55-59页 |
| 3.5.1 平均粒径分析 | 第56-57页 |
| 3.5.2 单个粒径分析 | 第57-59页 |
| 3.5.3 小结 | 第59页 |
| 3.6 检测设备 | 第59-60页 |
| 3.7 本章小结 | 第60-62页 |
| 第4章 三种不同材料抛光面的玻璃划痕试验研究 | 第62-78页 |
| 4.1 引言 | 第62页 |
| 4.2 试验设计 | 第62-65页 |
| 4.2.1 试验参数确定 | 第62-64页 |
| 4.2.2 接触环境 | 第64页 |
| 4.2.3 试验操作过程 | 第64-65页 |
| 4.3 试验结果及分析 | 第65-73页 |
| 4.3.1 钢质抛光面 | 第65-68页 |
| 4.3.1.1 摩擦系数 | 第65-66页 |
| 4.3.1.2 表面结果 | 第66-68页 |
| 4.3.1.3 小节 | 第68页 |
| 4.3.2 聚氨酯抛光面 | 第68-71页 |
| 4.3.2.1 摩擦系数 | 第69-70页 |
| 4.3.2.2 表面质量 | 第70-71页 |
| 4.3.2.3 小结 | 第71页 |
| 4.3.3 沥青抛光面 | 第71-73页 |
| 4.3.3.1 摩擦系数 | 第72页 |
| 4.3.3.2 表面质量 | 第72-73页 |
| 4.3.3.3 小结 | 第73页 |
| 4.4 比较和讨论 | 第73-76页 |
| 4.4.1 试验结果的比较与分析 | 第74-75页 |
| 4.4.2 材料去除机理解释 | 第75-76页 |
| 4.5 本章小结 | 第76-78页 |
| 第5章 不同压强和速度下的材料去除试验研究 | 第78-97页 |
| 5.1 引言 | 第78页 |
| 5.2 试验条件 | 第78-79页 |
| 5.3 不同压强下的材料去除试验 | 第79-87页 |
| 5.3.1 试验参数 | 第79-80页 |
| 5.3.2 试验结果 | 第80-85页 |
| 5.3.2.1 F=10mN试验结果 | 第80-81页 |
| 5.3.2.2 F=20mN试验结果 | 第81-82页 |
| 5.3.2.3 F=40mN试验结果 | 第82-83页 |
| 5.3.2.4 F=60mN试验结果 | 第83-85页 |
| 5.3.3 比较与分析 | 第85-87页 |
| 5.4 不同速度下的材料去除试验 | 第87-95页 |
| 5.4.1 试验参数 | 第87页 |
| 5.4.2 试验结果 | 第87-92页 |
| 5.4.2.1 ω=20RPM试验结果 | 第87-88页 |
| 5.4.2.2 ω=40RPM试验结果 | 第88-90页 |
| 5.4.2.3 ω=60RPM试验结果 | 第90-91页 |
| 5.4.2.4 ω=80RPM试验结果 | 第91-92页 |
| 5.4.3 比较与分析 | 第92-95页 |
| 5.5 5.3与 5.4小节对比和讨论 | 第95-96页 |
| 5.6 本章小结 | 第96-97页 |
| 第6章 基于浴法抛光的正交试验研究 | 第97-115页 |
| 6.1 引言 | 第97页 |
| 6.2 正交试验验设计 | 第97-101页 |
| 6.2.1 概述 | 第97-98页 |
| 6.2.2 5因素3水平的正交试验设计 | 第98-100页 |
| 6.2.3 极差分析方法 | 第100-101页 |
| 6.3 材料去除率分析 | 第101-103页 |
| 6.4 粗糙度分析 | 第103-105页 |
| 6.5 空间频率分频段分析 | 第105-114页 |
| 6.5.1 PSD曲线的归一化极差分析方法 | 第107-108页 |
| 6.5.2 频段1分析 | 第108-110页 |
| 6.5.3 频段2分析 | 第110-112页 |
| 6.5.4 频段3分析 | 第112-113页 |
| 6.5.5 小结 | 第113-114页 |
| 6.6 本章小结 | 第114-115页 |
| 第7章 总结与展望 | 第115-119页 |
| 7.1 全文总结 | 第115-116页 |
| 7.2 创新点 | 第116-117页 |
| 7.3 不足之处和未来工作展望 | 第117-119页 |
| 参考文献 | 第119-126页 |
| 作者简介及在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第126-127页 |