| 摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第10-16页 |
| 1.1 亚波长光学元件研究进展 | 第10-13页 |
| 1.1.1 矩形亚波长结构研究现状及其存在问题 | 第11页 |
| 1.1.2 非矩形亚波长结构研究进展 | 第11-13页 |
| 1.2 课题来源、论文的主要研究内容、结构及创新点 | 第13-16页 |
| 1.2.1 课题的来源 | 第13页 |
| 1.2.2 本论文的研究内容以及研究方案 | 第13-14页 |
| 1.2.3 本论文的结构 | 第14页 |
| 1.2.4 论文的创新点 | 第14-16页 |
| 第2章 正弦面型亚波长光栅设计的理论基础 | 第16-30页 |
| 2.1 标量衍射理论及其局限性 | 第16-17页 |
| 2.2 严格耦合波分析法（RCWA）简述 | 第17-25页 |
| 2.2.1 基于嵌入式亚波长矩形结构的RCWA分析 | 第17-24页 |
| 2.2.2 任意面型及多层结构光栅RCWA法复杂性分析 | 第24-25页 |
| 2.3 等效介质理论 | 第25-27页 |
| 2.3.1 等效介质理论概述 | 第25页 |
| 2.3.2 亚波长矩形结构等效折射率计算 | 第25-26页 |
| 2.3.3 亚波长正弦结构等效折射率计算 | 第26-27页 |
| 2.4 遗传优化算法 | 第27-29页 |
| 2.5 本章小结 | 第29-30页 |
| 第3章 嵌入式正弦结构亚波长三色光变器设计 | 第30-44页 |
| 3.1 正弦结构等效矩形结构可行性分析 | 第30-33页 |
| 3.1.1 正弦面型替代矩形面型机制 | 第30-31页 |
| 3.1.2 正弦结构替代矩形结构衍射效率数值验证 | 第31-33页 |
| 3.2 嵌入式正弦结构亚波长光栅的设计原理 | 第33-36页 |
| 3.2.1 亚波长嵌入式矩形结构与亚波长嵌入式正弦结构建模 | 第33-34页 |
| 3.2.2 光栅结构参数条件以及优化变量确定 | 第34-35页 |
| 3.2.3 评价函数的构建 | 第35-36页 |
| 3.3 基于矩形结构三色光变器设计程序实现 | 第36-40页 |
| 3.3.1 衍射效率运算模块的设计 | 第36-37页 |
| 3.3.2 评价函数模块的设计 | 第37页 |
| 3.3.3 遗传算法模块及其重要参数设置 | 第37-39页 |
| 3.3.4 评价函数中权重因子的影响 | 第39-40页 |
| 3.4 嵌入式亚波长正弦结构三色光变器设计 | 第40-43页 |
| 3.4.1 嵌入式矩形结构亚波长三色光变器设计结果 | 第40-41页 |
| 3.4.2 嵌入式正弦结构亚波长三色光变器等效矩形结构 | 第41-43页 |
| 3.4.3 正弦结构三色光变器性能分析 | 第43页 |
| 3.5 本章小结 | 第43-44页 |
| 第4章 嵌入式正弦结构亚波长三色光变器冗余度分析 | 第44-51页 |
| 4.1 冗余度分析参数的选择 | 第44页 |
| 4.2 正弦光栅周期的冗余度分析 | 第44-45页 |
| 4.3 正弦光栅刻蚀深度的冗余度分析 | 第45-47页 |
| 4.4 正弦光栅镀膜厚度的冗余度分析 | 第47-48页 |
| 4.5 入射角度的冗余度分析 | 第48-50页 |
| 4.6 本章小结 | 第50-51页 |
| 第5章 三色光变器母版的制作 | 第51-57页 |
| 5.1 三色光变器制作的工艺流程 | 第51-52页 |
| 5.2 全息光刻技术的工艺简介 | 第52-53页 |
| 5.3 双光束干涉光刻及实验装置搭建 | 第53-55页 |
| 5.4 双光束干涉光刻实验过程以及结果 | 第55-56页 |
| 5.5 本章小结 | 第56-57页 |
| 第6章 总结与展望 | 第57-59页 |
| 6.1 论文的主要研究成果 | 第57-58页 |
| 6.2 未来研究展望 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
| 攻读硕士学位期间的研究成果 | 第63页 |
