辐射环境下图像传感器外层屏蔽结构优化设计
| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 第1章 绪论 | 第12-20页 |
| 1.1 研究背景与意义 | 第12-13页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第13-16页 |
| 1.2.1 耐辐射视频监控系统的研究现状 | 第13-14页 |
| 1.2.2 图像传感器辐射损伤效应研究现状 | 第14-15页 |
| 1.2.3 抗辐射材料研究现状 | 第15-16页 |
| 1.2.4 MCNP辐射屏蔽模拟研究现状 | 第16页 |
| 1.3 研究内容与技术路线 | 第16-18页 |
| 1.3.1 研究内容 | 第16-17页 |
| 1.3.2 技术路线 | 第17-18页 |
| 1.4 本章小结 | 第18-20页 |
| 第2章 图像传感器辐射屏蔽特性研究方法 | 第20-34页 |
| 2.1 图像传感器辐射屏蔽分析方法简介 | 第20-22页 |
| 2.1.1 MACM软件简介 | 第20页 |
| 2.1.2 MCNP程序简介 | 第20-22页 |
| 2.2 图像传感器辐射损伤阈值分析 | 第22-28页 |
| 2.2.1 图像传感器辐射损伤效应 | 第22-23页 |
| 2.2.2 图像传感器模组辐照实验 | 第23-28页 |
| 2.3 图像传感器结构分析 | 第28-29页 |
| 2.4 屏蔽体结构设计及屏蔽材料选型 | 第29-30页 |
| 2.4.1 外层屏蔽体结构设计 | 第29-30页 |
| 2.4.2 外层屏蔽结构材料选型 | 第30页 |
| 2.5 外层屏蔽体屏蔽计算理论基础 | 第30-32页 |
| 2.6 本章小结 | 第32-34页 |
| 第3章 外层屏蔽体厚度计算及屏蔽性能影响因素分析 | 第34-49页 |
| 3.1 外层屏蔽体剂量计算模型 | 第34-35页 |
| 3.2 屏蔽体屏蔽效果验证 | 第35-42页 |
| 3.3 外层屏蔽体屏蔽性能影响因素 | 第42-47页 |
| 3.3.1 源-屏蔽体距离的影响 | 第43-44页 |
| 3.3.2 屏蔽层厚度影响 | 第44-45页 |
| 3.3.3 屏蔽材料影响 | 第45-47页 |
| 3.4 本章小结 | 第47-49页 |
| 第4章 屏蔽体结构优化 | 第49-59页 |
| 4.1 外层屏蔽结构优化目标 | 第49-50页 |
| 4.2 图像传感器外层屏蔽结构优化方案分析 | 第50-54页 |
| 4.2.1 外层屏蔽体尺寸及屏蔽层厚度优化设计 | 第50-51页 |
| 4.2.2 外层屏蔽体几何结构优化设计 | 第51-54页 |
| 4.3 图像传感器外层屏蔽结构优化前后对比 | 第54-56页 |
| 4.4 本章小结 | 第56-59页 |
| 第5章 总结与展望 | 第59-62页 |
| 5.1 本文总结 | 第59页 |
| 5.2 未来展望 | 第59-62页 |
| 参考文献 | 第62-68页 |
| 致谢 | 第68页 |
