| 摘要 | 第1-10页 |
| Abstract | 第10-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-22页 |
| ·废水中的铬和镉离子及其危害 | 第12-13页 |
| ·吸附法净化金属离子污染的废水 | 第13-17页 |
| ·吸附法概述 | 第13-15页 |
| ·吸附剂本身的性质 | 第15页 |
| ·温度对吸附效果的影响 | 第15页 |
| ·溶液pH值对吸附效果的影响 | 第15-16页 |
| ·吸附时间对吸附效果的影响 | 第16-17页 |
| ·吸附剂用量对吸附效果的影响 | 第17页 |
| ·离子浓度对吸附效果的影响 | 第17页 |
| ·SiO_2材料的应用研究 | 第17-18页 |
| ·Cr(III)、Cr(VI)、Cd(II)离子在玻璃着色中的应用 | 第18-19页 |
| ·研究目的及意义 | 第19-20页 |
| ·论文的主要内容 | 第20页 |
| ·本课题的创新之处 | 第20-22页 |
| 第二章 实验部分 | 第22-28页 |
| ·实验所用试剂与仪器 | 第22-23页 |
| ·实验过程 | 第23-25页 |
| ·硅砂表面多孔包覆层的构建 | 第23-24页 |
| ·硅砂等电点的测量 | 第24页 |
| ·铬和镉离子的吸附 | 第24-25页 |
| ·颜色玻璃的制备 | 第25页 |
| ·样品表征手段和方法 | 第25-28页 |
| 第三章 硅砂表面多孔SiO_2包覆层的构建与表征 | 第28-58页 |
| ·不同因素对包覆层及其性质的影响 | 第28-45页 |
| ·原硅砂的形貌和孔结构分析 | 第28-29页 |
| ·CTAB用量的影响 | 第29-31页 |
| ·NaOH用量的影响 | 第31-34页 |
| ·H_2O用量的影响 | 第34-36页 |
| ·TEOS用量的影响 | 第36-39页 |
| ·温度的影响 | 第39-42页 |
| ·硅砂量的影响 | 第42-43页 |
| ·反应时间的影响 | 第43-45页 |
| ·硅砂表面多孔包覆层的形成机理探讨 | 第45-49页 |
| ·多次包覆样品及其表征 | 第49-57页 |
| ·原硅砂与改性硅砂的成分分析 | 第49页 |
| ·包覆前后硅砂的粒径分析 | 第49-50页 |
| ·多次包覆样品的SEM照片 | 第50-52页 |
| ·不同包覆次数样品的包覆层厚度 | 第52-53页 |
| ·五次包覆样品的TG-DTG曲线 | 第53-54页 |
| ·不同包覆次数样品的FT-IR分析 | 第54页 |
| ·原硅砂与改性后硅砂的N2等温吸附分析 | 第54-56页 |
| ·硅砂改性前后的XRD分析 | 第56-57页 |
| ·本章小结 | 第57-58页 |
| 第四章 含多孔包覆层硅砂对铬和镉离子的吸附 | 第58-70页 |
| ·Cr~(3+)的吸附 | 第58-61页 |
| ·pH值的影响 | 第58-59页 |
| ·吸附剂用量的影响 | 第59页 |
| ·吸附温度的影响 | 第59-60页 |
| ·吸附时间的影响 | 第60-61页 |
| ·初始离子浓度的影响 | 第61页 |
| ·Cr~(6+)的吸附 | 第61-64页 |
| ·pH值的影响 | 第61-63页 |
| ·温度的影响 | 第63页 |
| ·吸附时间的影响 | 第63-64页 |
| ·Cd~(2+)的吸附 | 第64-68页 |
| ·pH值的影响 | 第64-65页 |
| ·吸附剂用量的影响 | 第65-66页 |
| ·温度的影响 | 第66页 |
| ·时间的影响 | 第66-67页 |
| ·初始离子浓度的影响 | 第67-68页 |
| ·本章小结 | 第68-70页 |
| 第五章 颜色玻璃的制备及表征 | 第70-74页 |
| ·Cr(III)着色的玻璃 | 第70-71页 |
| ·Cr(VI)着色的玻璃 | 第71页 |
| ·吸附Cd(II)的改性硅砂用于玻璃制备 | 第71-72页 |
| ·本章小结 | 第72-74页 |
| 第六章 结论 | 第74-76页 |
| 参考文献 | 第76-82页 |
| 致谢 | 第82-84页 |
| 附录 | 第84页 |