摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-10页 |
第一章 绪论 | 第10-13页 |
·液晶相简介 | 第10页 |
·液晶相的研究进展 | 第10页 |
·研究液晶相的基本动机 | 第10-13页 |
第二章 EuFe_2(As_(1-x)P_x)_2 的基本概况与生长方法 | 第13-14页 |
·EuFe_2(As_(1-x)P_x)_2 的基本概况 | 第13页 |
·EuFe_2(As_(1-x)P_x)_2 的生长方法 | 第13-14页 |
第三章 实验测量 | 第14-23页 |
·总述 | 第14页 |
·实验的总体思路综述 | 第14-15页 |
·实验的测量原理 | 第15-18页 |
·转矩磁力计总体测量原理 | 第15-16页 |
·校准电路和测量电路的基本原理 | 第16-18页 |
·测量电路的基本原理 | 第16-17页 |
·校准电路的基本原理 | 第17-18页 |
·实验基础平台简介 | 第18-21页 |
·实验基本方法步骤 | 第21-23页 |
·转矩芯片的校准 | 第21页 |
·样品磁转矩的测量 | 第21-23页 |
第四章 数据分析与结论 | 第23-38页 |
·母体样品 | 第23-26页 |
·欠参杂样品 | 第26-29页 |
·最佳掺杂样品 | 第29-31页 |
·过掺杂样品 | 第31-33页 |
·低温阶段torque曲线的解析 | 第33-35页 |
·相图的总结 | 第35-38页 |
第五章 Nb_2PdS_5体系中强上临界场的研究 | 第38-52页 |
·研究相关背景 | 第38页 |
·新型准一维超导体Nb_2PdS_5简介 | 第38-39页 |
·样品的制备 | 第39页 |
·测试结果与分析 | 第39-48页 |
·结构表征 | 第40-41页 |
·磁化率测试 | 第41-42页 |
·热力学性质 | 第42-43页 |
·电输运性质 | 第43-45页 |
·磁场下输运性质 | 第45-48页 |
·结论与总结讨论 | 第48-52页 |
·T_c(K)和T_(min)(K)变化分析 | 第48页 |
·强上临界场的理论解释 | 第48-50页 |
·强上临界场其他因素讨论 | 第50页 |
·结论总结 | 第50-52页 |
参考文献 | 第52-61页 |
作者简介 | 第61-62页 |
科研成果 | 第62-63页 |
致谢 | 第63页 |