| 摘要 | 第1-3页 |
| Abstract | 第3-6页 |
| 引言 | 第6-7页 |
| 第一章 文献综述 | 第7-19页 |
| ·介孔材料 | 第7-8页 |
| ·介孔氧化铝 | 第8-15页 |
| ·氧化铝简介 | 第8页 |
| ·介孔氧化铝的合成机理 | 第8-9页 |
| ·介孔氧化铝的合成方法 | 第9-13页 |
| ·介孔氧化铝的应用 | 第13-15页 |
| ·溶致液晶 | 第15-17页 |
| ·液晶简介 | 第15页 |
| ·液晶形成机理 | 第15页 |
| ·液晶模板的合成 | 第15-16页 |
| ·溶致液晶的结构特性 | 第16-17页 |
| ·研究目的与主要研究内容 | 第17-19页 |
| ·本论文选题依据 | 第17-18页 |
| ·本论文的研究内容 | 第18-19页 |
| 第二章 实验装置与试剂 | 第19-25页 |
| ·实验试剂与仪器 | 第19-21页 |
| ·实验试剂 | 第19-20页 |
| ·实验设备和表征设备 | 第20-21页 |
| ·样品的表征 | 第21-25页 |
| ·X射线粉末衍射 | 第21页 |
| ·扫描电镜 | 第21页 |
| ·偏光显微镜 | 第21-22页 |
| ·差热热重 | 第22-23页 |
| ·粒度分布 | 第23页 |
| ·红外光谱分析 | 第23页 |
| ·比表面积及孔径分析仪 | 第23-25页 |
| 第三章 三元体系制备溶致液晶 | 第25-37页 |
| ·SDS/C5H11OH/H2O体系制备溶致液晶 | 第25-31页 |
| ·实验试剂 | 第25页 |
| ·实验思路及方法 | 第25页 |
| ·实验步骤 | 第25-26页 |
| ·实验现象与讨论 | 第26-31页 |
| ·CTAB/C10H21OH/H2O体系制备溶致液晶 | 第31-36页 |
| ·实验试剂 | 第31页 |
| ·实验思路及方法 | 第31页 |
| ·实验步骤 | 第31-32页 |
| ·实验现象与讨论 | 第32-36页 |
| ·实验结论 | 第36-37页 |
| 第四章 介孔氧化铝的制备 | 第37-53页 |
| ·实验方法及流程 | 第37-43页 |
| ·铝源和沉淀剂的选取 | 第37-41页 |
| ·模板的制备 | 第41页 |
| ·均匀沉淀法制备介孔氧化铝 | 第41-43页 |
| ·实验结果与讨论 | 第43-52页 |
| ·液晶结构表征 | 第43-44页 |
| ·介孔氧化铝的表征 | 第44-52页 |
| ·总结 | 第52-53页 |
| 第五章 结论与展望 | 第53-55页 |
| ·结论 | 第53-54页 |
| ·展望 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
| 个人简历 | 第63页 |