| 内容提要 | 第1-5页 |
| 中文摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 目录 | 第8-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-18页 |
| ·无机层状化合物的概述 | 第10-14页 |
| ·无机层状化合物的简介 | 第10页 |
| ·无机层状化合物的结构特点 | 第10-11页 |
| ·无机层状化合物的分类 | 第11页 |
| ·无机层状化合物的制备 | 第11页 |
| ·无机层状化合物的改性方法 | 第11-13页 |
| ·无机层状复合材料的应用 | 第13-14页 |
| ·插层组装化学 | 第14-16页 |
| ·插层组装化学的定义 | 第14-15页 |
| ·插层组装化学的研究对象和有关领域 | 第15-16页 |
| ·本课题的提出及意义 | 第16-17页 |
| ·实验所得主要研究成果、测试手段及表征方法 | 第17-18页 |
| ·本课题研究的主要成果 | 第17页 |
| ·表征方法和测试手段 | 第17-18页 |
| 第二章 原料K_4Nb_6O_(17)的合成以及质子交换和胺剥层的探索 | 第18-33页 |
| ·引言 | 第18-19页 |
| ·实验试剂及仪器 | 第19页 |
| ·制备方法 | 第19-32页 |
| ·K_4Nb_6O_(17)的制备方法 | 第19-20页 |
| ·K_4Nb_6O_(17)的结构及其表征 | 第20-23页 |
| ·酸交换产物的制备方法 | 第23页 |
| ·酸交换产物的结构及其表征 | 第23-26页 |
| ·胺剥层产物的合成方法 | 第26-27页 |
| ·反应条件的探索 | 第27-29页 |
| ·剥层产物的表征 | 第29-32页 |
| ·本章总结 | 第32-33页 |
| 第三章 镍铌氧插层化合物的合成 | 第33-48页 |
| ·引言 | 第33页 |
| ·试剂及仪器 | 第33页 |
| ·镍铌氧化合物制备方法 | 第33-34页 |
| ·反应条件的探索 | 第34-39页 |
| ·反应温度对合成产物的影响 | 第34-35页 |
| ·反应时间对合成产物的影响 | 第35-36页 |
| ·NiCl_2的插入量对合成产物的影响 | 第36-39页 |
| ·镍铌氧插层化合物的表征 | 第39-46页 |
| ·XRD分析 | 第39-40页 |
| ·红外光谱分析(IR) | 第40-42页 |
| ·差热-热重分析(DTA-TG) | 第42页 |
| ·扫描电镜分析(SEM) | 第42-43页 |
| ·透射电镜分析(TEM) | 第43-44页 |
| ·能谱(EDS)分析 | 第44-46页 |
| ·选区电子衍射分析(SAED) | 第46页 |
| ·本章小结 | 第46-48页 |
| 第四章 铜铌氧插层化合物的合成 | 第48-66页 |
| ·引言 | 第48页 |
| ·试剂及仪器 | 第48页 |
| ·铜铌氧化合物制备方法 | 第48-49页 |
| ·反应条件的探索 | 第49-57页 |
| ·反应温度对合成产物的影响 | 第49-50页 |
| ·反应时间对合成产物的影响 | 第50-53页 |
| ·CuCl_2的插入量对合成产物的影响 | 第53-57页 |
| ·铜铌氧插层化合物的表征 | 第57-65页 |
| ·XRD分析 | 第57-58页 |
| ·红外光谱分析(IR) | 第58-60页 |
| ·差热-热重分析(DTA-TG) | 第60页 |
| ·扫描电镜分析(SEM) | 第60-61页 |
| ·透射电镜分析(TEM) | 第61-63页 |
| ·能谱(EDS)分析 | 第63-64页 |
| ·选区电子衍射(SAED)分析 | 第64-65页 |
| ·本章小结 | 第65-66页 |
| 第五章 结论与展望 | 第66-67页 |
| ·结论 | 第66页 |
| ·展望 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-73页 |
| 致谢 | 第73-74页 |
| 作者简介 | 第74页 |