| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-39页 |
| ·石墨烯的研究背景 | 第11-28页 |
| ·石墨烯的结构 | 第11-12页 |
| ·石墨烯的特性 | 第12-15页 |
| ·石墨烯的应用 | 第15-19页 |
| ·石墨烯的主要制备方法 | 第19-28页 |
| ·石墨烯-TiO_2复合薄膜材料的研究背景 | 第28-32页 |
| ·石墨烯基复合材料的应用 | 第28-31页 |
| ·石墨烯-TiO_2复合材料的制备方法 | 第31-32页 |
| ·ZnO/Cu/ZnO 透明导电薄膜的研究背景 | 第32-37页 |
| ·透明导电薄膜的特性 | 第32-33页 |
| ·透明导电薄膜的应用 | 第33页 |
| ·透明导电薄膜的研究现状 | 第33-36页 |
| ·ZnO 夹金属透明导电薄膜的研究现状 | 第36-37页 |
| ·本论文主要研究内容 | 第37-39页 |
| 第2章 材料的制备和表征 | 第39-49页 |
| 引言 | 第39页 |
| ·等离子体增强化学气相沉积技术 | 第39-41页 |
| ·等离子体增强化学气相沉积薄膜原理 | 第39-40页 |
| ·等离子体增强化学气相沉积设备简介 | 第40-41页 |
| ·磁控溅射技术 | 第41-44页 |
| ·磁控溅射沉积薄膜原理 | 第41-42页 |
| ·磁控溅射设备简介 | 第42-44页 |
| ·样品的表征 | 第44-49页 |
| 第3章 石墨烯的等离子体增强化学气相沉积法制备及性能研究 | 第49-63页 |
| 引言 | 第49-50页 |
| ·实验部分 | 第50-52页 |
| ·生长温度对石墨烯的影响 | 第52-58页 |
| ·CH_4流量对石墨烯的影响 | 第58-60页 |
| ·H_2流量对石墨烯的影响 | 第60-62页 |
| ·本章小结 | 第62-63页 |
| 第4章 石墨烯-TiO_2多层薄膜的制备及性能研究 | 第63-79页 |
| 引言 | 第63-64页 |
| ·实验部分 | 第64-66页 |
| ·PECVD 石墨烯薄膜特征 | 第66-68页 |
| ·石墨烯与 TiO_2之间的电荷转移 | 第68-71页 |
| ·石墨烯对 TiO_2晶体结构的影响 | 第71-72页 |
| ·石墨烯对 TiO_2表面形貌的影响 | 第72-74页 |
| ·石墨烯对 TiO_2光催化性能的影响 | 第74-76页 |
| ·本章小结 | 第76-79页 |
| 第5章 ：ZnO/Cu/ZnO 多层薄膜的结构优化和光电性能研究 | 第79-93页 |
| 引言 | 第79-80页 |
| ·实验部分 | 第80页 |
| ·理论模拟优化结构 | 第80-82页 |
| ·ZnO 层厚度变化对膜系光电性能的影响 | 第82-85页 |
| ·Cu 层厚度变化对膜系光电性能的影响 | 第85-88页 |
| ·O_2/Ar 流量比率对膜系光电性能的影响 | 第88-92页 |
| ·本章小结 | 第92-93页 |
| 第6章 总结 | 第93-95页 |
| 参考文献 | 第95-119页 |
| 在学期间所取得的科研成果 | 第119-120页 |
| 致谢 | 第120页 |
