| 中文摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-33页 |
| ·引言 | 第10-11页 |
| ·石墨烯的结构及其气敏性概述 | 第11-20页 |
| ·石墨烯的结构和性质 | 第11-12页 |
| ·石墨烯的制备与应用 | 第12-15页 |
| ·石墨烯的气敏性研究进展 | 第15-20页 |
| ·酞菁配合物结构及其气敏性概述 | 第20-24页 |
| ·酞菁类配合物的结构与性质 | 第20-22页 |
| ·酞菁类配合物的气敏机理 | 第22-23页 |
| ·酞菁类配合物的气敏性研究进展 | 第23-24页 |
| ·石墨烯基复合物的气敏性研究进展 | 第24-31页 |
| ·石墨烯基复合物的制备方法 | 第24-26页 |
| ·石墨烯基复合物的气敏性研究概况 | 第26-31页 |
| ·本课题的研究内容及意义 | 第31-33页 |
| 第2章 实验部分 | 第33-42页 |
| ·主要实验试剂及仪器 | 第33-35页 |
| ·主要试剂 | 第33-34页 |
| ·主要仪器和表征方法 | 第34-35页 |
| ·目标金属酞菁的结构 | 第35-36页 |
| ·四-β-氨基金属酞菁的制备 | 第36-37页 |
| ·氧化石墨的制备 | 第37-38页 |
| ·石墨烯基复合物的制备 | 第38-40页 |
| ·异戊烷氧基金属酞菁/还原氧化石墨烯复合物的制备 | 第38-39页 |
| ·四-β-氨基金属酞菁/氧化石墨烯复合物的制备 | 第39-40页 |
| ·复合物的气敏性测试 | 第40-42页 |
| ·气敏电极薄膜的制备 | 第40页 |
| ·复合物的气敏性测试 | 第40-42页 |
| 第3章 异戊烷氧基金属酞菁/还原氧化石墨烯复合物的表征及氨敏性 | 第42-77页 |
| ·氧化石墨结构的表征 | 第42-44页 |
| ·氧化石墨 X 射线衍射分析 | 第42-43页 |
| ·氧化石墨红外光谱分析 | 第43-44页 |
| ·RGO/3-MPc 复合物的表征及氨敏性研究 | 第44-61页 |
| ·RGO/3-MPc 复合物紫外光谱 | 第44-45页 |
| ·RGO/3-MPc 复合物红外光谱 | 第45-47页 |
| ·RGO/3-MPc 复合物拉曼光谱 | 第47-48页 |
| ·RGO/3-MPc 复合物 X 射线光电子能谱 | 第48-52页 |
| ·RGO/3-MPc 复合物透射电镜 | 第52-53页 |
| ·RGO/3-MPc 复合物扫描电镜 | 第53-54页 |
| ·RGO/3-MPc 复合物的氨敏性研究 | 第54-61页 |
| ·RGO/4-MPc 复合物的表征及氨敏性研究 | 第61-76页 |
| ·RGO/4-MPc 复合物紫外光谱 | 第61-62页 |
| ·RGO/4-MPc 复合物红外光谱 | 第62-64页 |
| ·RGO/4-MPc 复合物拉曼光谱 | 第64-65页 |
| ·RGO/4-MPc 复合物 X 射线光电子能谱 | 第65-69页 |
| ·RGO/4-MPc 复合物扫描电镜 | 第69-70页 |
| ·RGO/4-MPc 复合物的氨敏性研究 | 第70-76页 |
| ·本章小结 | 第76-77页 |
| 第4章 四-β-氨基金属酞菁/氧化石墨烯复合物的表征及氨敏性 | 第77-95页 |
| ·氨基金属酞菁结构的表征 | 第77-81页 |
| ·红外光谱 | 第77-78页 |
| ·质谱分析 | 第78-80页 |
| ·电子吸收光谱 | 第80-81页 |
| ·GO-4-NH_2MPc 复合物结构的表征 | 第81-85页 |
| ·GO-4-NH_2MPc 复合物紫外光谱 | 第81-82页 |
| ·GO-4-NH_2MPc 复合物红外光谱 | 第82-83页 |
| ·GO-4-NH_2MPc 复合物拉曼光谱 | 第83-85页 |
| ·GO-4-NH_2CuPc 复合物透射电镜 | 第85页 |
| ·GO-4-NH_2MPc 复合物的氨敏性研究 | 第85-93页 |
| ·本章小结 | 第93-95页 |
| 结论与创新点 | 第95-97页 |
| 结论 | 第95页 |
| 创新点 | 第95-97页 |
| 参考文献 | 第97-108页 |
| 致谢 | 第108-109页 |
| 攻读硕士学位期间发表及撰写的论文 | 第109页 |