| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-17页 |
| ·浸润性与高分子薄膜 | 第8页 |
| ·接触角的基本理论 | 第8-12页 |
| ·接触角 | 第8-9页 |
| ·Young’s 方程 | 第9页 |
| ·Wenzel 方程 | 第9-10页 |
| ·Cassie-Baxter 方程 | 第10-11页 |
| ·Wenzel 模型和 Cassie 模型的关系 | 第11-12页 |
| ·特殊浸润性材料——从自然界到仿生 | 第12-14页 |
| ·出淤泥而不染——荷叶 | 第12-13页 |
| ·水上行走高手——水黾 | 第13页 |
| ·集水高手——沙漠甲虫 | 第13-14页 |
| ·固体表面浸润性的磁场响应 | 第14-16页 |
| ·本文立题思想及研究内容 | 第16-17页 |
| 第二章 高分子膜的制备及其浸润性研究 | 第17-36页 |
| ·实验部分 | 第17-23页 |
| ·实验与仪器 | 第17-18页 |
| ·以 ZnO 纳米线阵列为模版制备 PMMA 多孔膜 | 第18-20页 |
| ·以硅基光刻板为模板制备 PMMA 和 SBS 阵列模 | 第20-22页 |
| ·以 ZnO 纳米线修饰的硅基光刻板为模板制备 SBS 阵列模 | 第22-23页 |
| ·结果与讨论 | 第23-35页 |
| ·以 ZnO 纳米线阵列为模版制备的 PMMA 多孔膜 | 第23-25页 |
| ·以硅基光刻板为模板制备的 PMMA 和 SBS 阵列模 | 第25-30页 |
| ·以 ZnO 纳米线修饰的硅基光刻板为模板制备的 SBS 阵列模 | 第30-35页 |
| ·本章小结 | 第35-36页 |
| 第三章 磁性材料FePt合金的制备及其性质研究 | 第36-41页 |
| ·实验部分 | 第36-37页 |
| ·实验与仪器 | 第36-37页 |
| ·FePt 纳米粒子的制备 | 第37页 |
| ·结果与讨论 | 第37-40页 |
| ·FePt 纳米粒子的 XRD | 第37-39页 |
| ·FePt 纳米粒子的 TEM | 第39页 |
| ·FePt 纳米粒子的磁学性质 | 第39-40页 |
| ·本章小结 | 第40-41页 |
| 第四章 超疏水磁性高分子薄膜的制备及其性质研究 | 第41-46页 |
| ·实验部分 | 第41-42页 |
| ·实验与仪器 | 第41-42页 |
| ·磁性 SBS 阵列膜的制备 | 第42页 |
| ·结果与讨论 | 第42-45页 |
| ·SBS 阵列膜的 SEM | 第42-43页 |
| ·SBS 阵列膜的磁性 | 第43-44页 |
| ·磁性 SBS 阵列膜的浸润性 | 第44-45页 |
| ·本章小结 | 第45-46页 |
| 第五章 结论 | 第46-47页 |
| 参考文献 | 第47-51页 |
| 致谢 | 第51页 |
