| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-12页 |
| ·光刻技术的发展现状 | 第8页 |
| ·微定位平台的发展现状及在光刻中的应用现状 | 第8-10页 |
| ·样品定位技术的研究现状 | 第10-11页 |
| ·研究内容与结构安排 | 第11-12页 |
| 第二章 激光干涉纳米光刻 | 第12-16页 |
| ·激光干涉纳米光刻简介 | 第12-13页 |
| ·激光干涉纳米光刻原理 | 第13-16页 |
| 第三章 激光干涉纳米光刻样品定位平台的设计 | 第16-28页 |
| ·样品定位平台的性能分析及整体设计 | 第16-17页 |
| ·六自由度压电陶瓷微定位平台的设计 | 第17-28页 |
| ·致动器安装结构设计及分析 | 第19-22页 |
| ·传感器安装结构设计及分析 | 第22-24页 |
| ·压电陶瓷致动器的控制分析 | 第24-26页 |
| ·前置参考模型的分析及选取 | 第26页 |
| ·PID控制策略的分析及选取 | 第26-28页 |
| 第四章 激光干涉纳米光刻中样品定位技术的理论研究 | 第28-42页 |
| ·激光干涉纳米光刻中样品定位技术的原理 | 第28-31页 |
| ·双光束激光干涉纳米光刻中理想光束入射情况分析 | 第31-32页 |
| ·双光束激光干涉纳米光刻中存在误差的光束入射情况分析 | 第32-42页 |
| ·入射角误差 | 第32-33页 |
| ·x轴上的入射位置误差 | 第33-34页 |
| ·x轴上的入射位置误差和入射角误差同时出现 | 第34-36页 |
| ·x轴上的入射位置误差和y轴上的入射位置误差同时出现 | 第36-38页 |
| ·空间角出现误差 | 第38-40页 |
| ·四自由度同时存在误差 | 第40-42页 |
| 第五章 计算机仿真及方法局限性分析 | 第42-47页 |
| ·计算机仿真分析 | 第42-45页 |
| ·方法局限性分析 | 第45-47页 |
| 第六章 激光干涉纳米光刻中样品定位技术的实验分析 | 第47-54页 |
| ·样品定位技术在双光束激光干涉纳米光刻中的应用实验 | 第47-51页 |
| ·校准过程重复性验证实验 | 第51-52页 |
| ·检测精度的验证实验及相关分析 | 第52-54页 |
| 第七章 结论及展望 | 第54-55页 |
| ·样品定位技术的研究结论 | 第54页 |
| ·样品定位技术及激光干涉纳米光刻系统的未来展望 | 第54-55页 |
| 致谢 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-58页 |
| 发表文章 | 第58页 |
| 申请专利 | 第58页 |
