Al掺杂ZnO薄膜的制备及性能研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 目录 | 第8-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-18页 |
| ·透明导电薄膜的概述 | 第10-11页 |
| ·透明导电薄膜的发展 | 第10页 |
| ·透明导电薄膜的分类 | 第10-11页 |
| ·ZnO薄膜的特性 | 第11-13页 |
| ·ZnO薄膜的基本性质 | 第11-12页 |
| ·ZnO薄膜的光电特性概述 | 第12-13页 |
| ·ZnO薄膜的其他特性 | 第13页 |
| ·ZnO薄膜的制备技术 | 第13-17页 |
| ·溶胶-凝胶法镀膜 | 第13-14页 |
| ·化学气相沉积法镀膜 | 第14页 |
| ·喷涂热分解法镀膜 | 第14-15页 |
| ·脉冲激光沉积法(PLD)镀膜 | 第15-16页 |
| ·磁控溅射法镀膜 | 第16-17页 |
| ·ZnO薄膜的应用 | 第17页 |
| ·本论文的研究内容以及意义 | 第17-18页 |
| 第二章 Al掺杂的ZnO薄膜制备与表征 | 第18-24页 |
| ·AZO薄膜的结构特性 | 第18-19页 |
| ·磁控溅射法制备AZO薄膜 | 第19-21页 |
| ·玻璃基片的清洗 | 第19页 |
| ·溅射设备以及主要工艺参数 | 第19-21页 |
| ·AZO薄膜结构与性能的表征 | 第21-24页 |
| ·薄膜结构和形貌的测定 | 第21页 |
| ·薄膜光学性能的测定 | 第21页 |
| ·薄膜电学性能的测定 | 第21-24页 |
| 第三章 AZO薄膜的溅射工艺及其光电性能研究 | 第24-58页 |
| ·衬底温度对薄膜结构及其性能的影响 | 第24-36页 |
| ·不同氧氩比对于薄膜结构及性能的影响 | 第36-40页 |
| ·溅射功率对于薄膜结构和性能的影响 | 第40-45页 |
| ·溅射气压对薄膜结构和性能的影响 | 第45-50页 |
| ·靶基距对薄膜结构以及性能的影响 | 第50-56页 |
| ·本章小结 | 第56-58页 |
| 第四章 退火工艺对于薄膜结构及性能的影响 | 第58-68页 |
| ·AZO薄膜的缺陷化学态分析 | 第58页 |
| ·退火气氛对薄膜性能的影响 | 第58-64页 |
| ·退火气氛对电学性能的影响 | 第59-61页 |
| ·退火气氛对光学性能的影响 | 第61-62页 |
| ·退火气氛对薄膜结晶及形貌的影响 | 第62-63页 |
| ·薄膜稳定性测试 | 第63-64页 |
| ·真空退火温度对薄膜光电性能的影响 | 第64-66页 |
| ·退火温度对AZO电学性能的影响 | 第64-65页 |
| ·退火温度对薄膜光学性能的影响 | 第65-66页 |
| ·本章小结 | 第66-68页 |
| 第五章 缓冲层对薄膜光电性能的影响 | 第68-77页 |
| ·缓冲层的意义 | 第68-69页 |
| ·SiO_2/AZO复合薄膜特性的研究 | 第69-71页 |
| ·AZO_1/AZO_2复合薄膜性能的研究 | 第71-74页 |
| ·AZO_1/AZO_2复合薄膜的电学性能 | 第72-73页 |
| ·AZO_1/AZO_2复合薄膜的,光学性能 | 第73-74页 |
| ·缓冲层对于改善薄膜工艺可控性的尝试 | 第74-76页 |
| ·本章小结 | 第76-77页 |
| 第六章 全文总结与展望 | 第77-79页 |
| ·全文总结 | 第77-78页 |
| ·展望 | 第78-79页 |
| 参考文献 | 第79-84页 |
| 附录：发表的论文 | 第84-85页 |
| 致谢 | 第85页 |
