| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 1 绪论 | 第8-14页 |
| ·光纤通信与半导体激光器的发展 | 第8-11页 |
| ·Bragg 光栅的发展及应用 | 第11-12页 |
| ·本论文的工作 | 第12-14页 |
| 2 Bragg 光栅的结构及理论 | 第14-25页 |
| ·Bragg 反射 | 第14-15页 |
| ·DFB 激光器中的Bragg 光栅结构及其性能模拟 | 第15-22页 |
| ·SG-DBR 中的光栅结构 | 第22-24页 |
| ·本章小结 | 第24-25页 |
| 3 传统的光栅制备方法 | 第25-30页 |
| ·引言 | 第25页 |
| ·全息曝光 | 第25-27页 |
| ·电子束光刻 | 第27-28页 |
| ·其他制备方法 | 第28-29页 |
| ·本章小结 | 第29-30页 |
| 4 纳米压印技术 | 第30-44页 |
| ·纳米压印方法原理及特点 | 第30-31页 |
| ·纳米压印工艺流程 | 第31-37页 |
| ·纳米压印模版 | 第37-38页 |
| ·纳米压印胶 | 第38-41页 |
| ·纳米压印技术的运用及发展状况 | 第41-43页 |
| ·本章小结 | 第43-44页 |
| 5 纳米压印技术制备均匀光栅结构 | 第44-61页 |
| ·软模版技术 | 第44-48页 |
| ·改进的工艺流程 | 第48-54页 |
| ·光栅的刻蚀 | 第54-59页 |
| ·纳米压印技术制备复杂光栅 | 第59-60页 |
| ·本章小结 | 第60-61页 |
| 6 基于纳米压印技术的DFB 激光器 | 第61-66页 |
| ·器件制作工艺及性能 | 第61-63页 |
| ·误差分析 | 第63-65页 |
| ·本章小结 | 第65-66页 |
| 7 全文总结 | 第66-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-73页 |
| 附录 攻读硕士学位期间发表论文目录 | 第73页 |