蒙脱石吸附铋离子的研究及其插层复合材料的制备
| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-11页 |
| 1 引言 | 第11-24页 |
| ·铋掺杂非金属材料的研究现状 | 第11-15页 |
| ·铋掺杂非金属矿物材料的研究现状 | 第11-12页 |
| ·铋掺杂玻璃材料的研究现状 | 第12-15页 |
| ·本课题研究内容 | 第15-22页 |
| ·蒙脱石概况 | 第15-16页 |
| ·蒙脱石的主要物化特性 | 第16-17页 |
| ·蒙脱石层状材料研究现状 | 第17-18页 |
| ·研究方案 | 第18-19页 |
| ·测试与表征 | 第19-22页 |
| ·创新点 | 第22-23页 |
| ·研究意义 | 第23-24页 |
| 2 试验原料与设备 | 第24-26页 |
| ·实验原料 | 第24-25页 |
| ·实验设备 | 第25-26页 |
| 3 Bi~(3+)离子含量的测试方法探讨 | 第26-30页 |
| ·Bi~(3+)测量方法简介 | 第26页 |
| ·试验步骤 | 第26-27页 |
| ·铋络合物最大吸收波长的探讨 | 第27-28页 |
| ·标准曲线的绘制 | 第28-29页 |
| ·反应时间对铋络合物稳定性的影响 | 第28页 |
| ·显色剂用量对标准曲线的影响 | 第28-29页 |
| ·标准曲线 | 第29页 |
| ·本章小结 | 第29-30页 |
| 4 钙基蒙脱石吸附 Bi~(3+)离子规律的研究 | 第30-38页 |
| ·实验步骤 | 第30页 |
| ·蒙脱石吸附 Bi~(3+)的计算公式 | 第30页 |
| ·蒙脱石吸附铋离子机理研究 | 第30-32页 |
| ·吸附铋离子的蒙脱石形貌表征 | 第32-33页 |
| ·吸附铋离子的蒙脱石傅里叶红外光谱（FT-IR） | 第33-34页 |
| ·吸附铋离子的蒙脱石 X 射线衍射分析（XRD） | 第34-35页 |
| ·煅烧铋蒙脱石的光谱分析 | 第35-37页 |
| ·蒙脱石煅烧前后的紫外-可见漫反射光谱分析 | 第35-36页 |
| ·蒙脱石煅烧前后的荧光光谱分析 | 第36-37页 |
| ·本章小结 | 第37-38页 |
| 5 钠基蒙脱石吸附 Bi~(3+)离子规律的研究 | 第38-46页 |
| ·实验步骤 | 第38-39页 |
| ·铋络合物特征吸收峰的确定 | 第39-40页 |
| ·工艺条件对蒙脱石吸附铋离子的影响 | 第40-42页 |
| ·初始浓度的影响 | 第40页 |
| ·反应时间的影响 | 第40-41页 |
| ·反应温度的影响 | 第41-42页 |
| ·吸附铋离子后的钠基蒙脱石结构表征 | 第42-43页 |
| ·煅烧铋掺钠基蒙脱石的研究 | 第43-45页 |
| ·试验步骤 | 第43页 |
| ·XRD 表征 | 第43-44页 |
| ·荧光光谱表征 | 第44-45页 |
| ·本章小结 | 第45-46页 |
| 6 钠基蒙脱石插层材料的制备 | 第46-56页 |
| ·试验步骤 | 第46-47页 |
| ·硫化铋的表征 | 第47-50页 |
| ·硫化铋（Bi_2S_3）的 XRD 表征 | 第47-48页 |
| ·硫化铋（Bi_2S_3）的 SEM 表征 | 第48-49页 |
| ·硫化铋（Bi_2S_3）的 EDS 表征 | 第49-50页 |
| ·硫化铋/蒙脱石插层复合材料的表征 | 第50-53页 |
| ·插层复合材料的 XRD 表征 | 第50页 |
| ·插层复合材料的 SEM 表征 | 第50-51页 |
| ·插层复合材料的 EDS 表征 | 第51-52页 |
| ·插层复合材料的 FT-IR 表征 | 第52-53页 |
| ·插层复合材料的紫外可见漫反射表征 | 第53页 |
| ·煅烧对蒙脱石层间硫化物的影响 | 第53-55页 |
| ·实验步骤 | 第53页 |
| ·煅烧后插层材料的紫外-可见漫反射表征 | 第53-54页 |
| ·煅烧后插层材料的 XRD 表征 | 第54-55页 |
| ·本章小结 | 第55-56页 |
| 7 结论与展望 | 第56-58页 |
| ·结论 | 第56-57页 |
| ·展望 | 第57-58页 |
| 致谢 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-66页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第66-67页 |
