致谢 | 第1-4页 |
摘要 | 第4-5页 |
ABSTRACT | 第5-7页 |
目录 | 第7-10页 |
第1章 前言 | 第10-32页 |
·衍射极限 | 第10-11页 |
·超衍射成像技术研究进展 | 第11-20页 |
·表面等离子体超衍射成像研究进展 | 第12-16页 |
·荧光标记扫描超衍射成像研究进展 | 第16-17页 |
·超振荡和纳米小球超衍射成像研究进展 | 第17-20页 |
·超衍射光刻技术研究进展 | 第20-24页 |
·表面等离子体光刻 | 第20-23页 |
·局域表面等离子体光刻 | 第23-24页 |
·传统光刻分辨力增强技术 | 第24-29页 |
·相移掩模技术 | 第25-26页 |
·离轴照明技术 | 第26-28页 |
·邻近效应校正 | 第28-29页 |
·本文的研究意义及主要内容安排 | 第29-32页 |
·研究意义 | 第29页 |
·主要内容 | 第29-32页 |
第2章 表面等离子体的理论基础和数值计算 | 第32-48页 |
·表面等离子体的经典电磁场理论 | 第32-37页 |
·表面等离子体 | 第32-34页 |
·局域表面等离子体 | 第34-36页 |
·表面等离子体激发方式 | 第36-37页 |
·金属材料的 Drude 模型 | 第37-39页 |
·亚波长表面等离子体光学的理论分析 | 第39-44页 |
·严格耦合波分析 | 第39-43页 |
·格林函数积分方程法 | 第43-44页 |
·亚波长表面等离子体光学的数值计算 | 第44-47页 |
·有限元法 | 第44-45页 |
·时域有限差分法 | 第45-47页 |
·本章小结 | 第47-48页 |
第3章 超透镜成像光刻分辨力的提高方法和影响因素研究 | 第48-62页 |
·超透镜成像光刻研究背景 | 第49-50页 |
·相移掩模提高超透镜成像光刻的研究 | 第50-55页 |
·相移掩模原理设计 | 第51-52页 |
·数值模拟验证 | 第52-55页 |
·分辨力和曝光深度 | 第55页 |
·超透镜成像光刻的影响因素研究 | 第55-61页 |
·空气间隙 | 第56-57页 |
·偏振照明 | 第57-60页 |
·掩模台阶轮廓 | 第60-61页 |
·本章小结 | 第61-62页 |
第4章 远场光学系统投影曲平超透镜超衍射缩小成像光刻研究 | 第62-73页 |
·研究背景 | 第62-63页 |
·远场光学系统对接曲平超透镜的方法 | 第63-65页 |
·超衍射缩小成像光刻研究 | 第65-72页 |
·对接远场光学系统规律分析 | 第66-70页 |
·三维投影缩小成像光刻研究 | 第70-72页 |
·本章小结 | 第72-73页 |
第5章 基于表面等离子体亚波长结构的相衬成像方法研究 | 第73-90页 |
·相衬成像研究背景 | 第73-74页 |
·位相纳米物体的相衬成像原理 | 第74-76页 |
·理论分析和数值模拟 | 第76-87页 |
·表面等离子体相衬透镜的优化设计 | 第76-82页 |
·表面等离子体相衬透镜的相衬效果 | 第82-87页 |
·实验验证 | 第87-89页 |
·本章小结 | 第89-90页 |
第6章 结束语 | 第90-92页 |
·论文的主要创新点 | 第90-91页 |
·未来工作展望 | 第91-92页 |
参考文献 | 第92-98页 |
作者简介及在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第98-99页 |