| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 目录 | 第9-12页 |
| 1 绪论 | 第12-34页 |
| ·论文选题背景 | 第12-22页 |
| ·金刚石的结构 | 第13-14页 |
| ·金刚石的性质及应用 | 第14-19页 |
| ·CVD金刚石膜的制备 | 第19-21页 |
| ·金刚石的应用要求 | 第21-22页 |
| ·国内外研究现状及发展趋势 | 第22-32页 |
| ·CVD金刚石膜的抛光技术 | 第22-25页 |
| ·抛光加工金刚石中的材料去除机理 | 第25-27页 |
| ·CVD金刚石膜抛光技术的发展趋势 | 第27-28页 |
| ·摩擦化学抛光技术 | 第28-30页 |
| ·化学机械抛光技术 | 第30-32页 |
| ·本课题的来源、研究目的及意义 | 第32页 |
| ·论文的主要研究内容 | 第32-34页 |
| 2 化学和机械协同作用抛光CVD金刚石的理论研究 | 第34-63页 |
| ·摩擦化学抛光CVD金刚石的理论研究 | 第35-44页 |
| ·金刚石石墨化的化学热力学分析 | 第35-38页 |
| ·金刚石石墨化的化学动力学分析 | 第38-39页 |
| ·加快金刚石石墨化反应的措施 | 第39-40页 |
| ·摩擦化学抛光技术的催化机制及对抛光盘要求 | 第40-44页 |
| ·化学机械抛光CVD金刚石的理论研究 | 第44-62页 |
| ·金刚石氧化的化学热力学分析 | 第44-45页 |
| ·金刚石氧化的化学动力学分析 | 第45-47页 |
| ·加快金刚石氧化反应的措施 | 第47-48页 |
| ·化学机械抛光动力学模型的建立 | 第48-62页 |
| ·本章小结 | 第62-63页 |
| 3 摩擦化学抛光CVD金刚石的关键技术与材料去除机理 | 第63-80页 |
| ·FeNiCr基抛光盘的制备 | 第63-68页 |
| ·FeNiCr基抛光盘的制备方案 | 第64-65页 |
| ·机械合金化 | 第65-66页 |
| ·真空热压烧结 | 第66-68页 |
| ·FeNiCr抛光盘的性能表征 | 第68-71页 |
| ·X射线衍射分析 | 第68-69页 |
| ·抛光盘的微观表面形貌和显微硬度 | 第69页 |
| ·抛光盘的高温抗氧化性能 | 第69-71页 |
| ·摩擦化学抛光盘的抛光效果试验 | 第71-77页 |
| ·摩擦化学抛光装置的搭建 | 第72-73页 |
| ·试验结果分析 | 第73-77页 |
| ·摩擦化学抛光CVD金刚石的材料去除机理 | 第77-79页 |
| ·CVD金刚石试件的表面成分分析 | 第77页 |
| ·抛光盘的表面成分分析 | 第77-78页 |
| ·材料去除机理 | 第78-79页 |
| ·本章小结 | 第79-80页 |
| 4 化学机械抛光CVD金刚石的关键技术及材料去除机理 | 第80-123页 |
| ·关键技术分析 | 第81-89页 |
| ·加热条件 | 第81页 |
| ·抛光盘 | 第81-83页 |
| ·抛光液 | 第83-89页 |
| ·局部加热式化学机械抛光试验台的搭建及试件的粘贴、清洗方案 | 第89-92页 |
| ·局部加热式化学机械抛光试验台的搭建 | 第89-91页 |
| ·CVD金刚石的粘贴和清洗方案 | 第91-92页 |
| ·抛光盘的选择 | 第92-94页 |
| ·化学机械抛光液的配制与优化 | 第94-111页 |
| ·磨料的选择 | 第94-96页 |
| ·氧化剂的选择 | 第96-102页 |
| ·高铁酸钾抛光液的氧化性能 | 第102-105页 |
| ·高铁酸钾抛光液的物理稳定性 | 第105-106页 |
| ·高铁酸钾抛光液的化学稳定性 | 第106-108页 |
| ·高铁酸钾抛光液氧化剂浓度的确定 | 第108-109页 |
| ·高铁酸钾抛光液磷酸浓度的确定 | 第109-110页 |
| ·高铁酸钾抛光液催化剂的确定 | 第110-111页 |
| ·化学机械抛光CVD金刚石的材料去除机理 | 第111-122页 |
| ·CVD金刚石的表面成分分析 | 第112-118页 |
| ·CVD金刚石表面层的XPS深度分析 | 第118-121页 |
| ·材料去除机理 | 第121-122页 |
| ·本章小结 | 第122-123页 |
| 5 化学和机械协同作用抛光CVD金刚石的工艺研究 | 第123-137页 |
| ·摩擦化学抛光CVD金刚石的工艺研究 | 第123-124页 |
| ·抛光工艺参数对抛光温度的影响 | 第123页 |
| ·抛光工艺参数对材料去除率的影响 | 第123-124页 |
| ·化学机械抛光CVD金刚石的工艺研究 | 第124-134页 |
| ·摩擦力测量装置的搭建 | 第124-128页 |
| ·抛光工艺条件对抛光摩擦力的影响 | 第128-131页 |
| ·抛光工艺条件对材料去除率的影响 | 第131-134页 |
| ·化学和机械协同作用抛光CVD金刚石的效果 | 第134-136页 |
| ·本章小结 | 第136-137页 |
| 6 结论与展望 | 第137-139页 |
| ·结论 | 第137-138页 |
| ·进一步工作展望 | 第138-139页 |
| 参考文献 | 第139-150页 |
| 附录A 主要符号的意义和单位 | 第150-151页 |
| 附录B 已授权的专利证书 | 第151-153页 |
| 攻读博士学位期间发表学术论文及专利情况 | 第153-155页 |
| 致谢 | 第155-156页 |
| 作者简介 | 第156-157页 |
