| 摘要 | 第1-11页 |
| Abstract | 第11-29页 |
| 第一章 绪论 | 第29-70页 |
| ·引言 | 第29页 |
| ·电光技术基本知识概述 | 第29-31页 |
| ·树枝状电光材料设计与合成 | 第31-57页 |
| ·树枝状电光大分子 | 第33-41页 |
| ·树枝状电光高分子 | 第41-51页 |
| ·超分子自组装电光材料 | 第51-53页 |
| ·超支化聚合物 | 第53-57页 |
| ·树枝状电光高分子的发展小结及趋势 | 第57-58页 |
| ·论文设计思想 | 第58-59页 |
| ·参考文献 | 第59-70页 |
| 第二章 含不同尺寸间隔基团的非线性聚氨酯高分子的合成及构性关系研究 | 第70-97页 |
| ·引言 | 第70-72页 |
| ·实验部分 | 第72-82页 |
| ·仪器表征与试剂处理 | 第72-73页 |
| ·合成部分 | 第73-80页 |
| ·聚合物P1-P10电光薄膜的制备及电晕极化 | 第80页 |
| ·聚合物P1-P10薄膜的极化动力学及非线性光学性能的研究 | 第80-82页 |
| ·结果与讨论 | 第82-94页 |
| ·生色团单体及高分子的合成 | 第82-84页 |
| ·生色团单体及高分子的结构表征 | 第84-87页 |
| ·聚合物P1-P10薄膜的非线性光学性质 | 第87-94页 |
| ·本章小结 | 第94页 |
| ·参考文献 | 第94-97页 |
| 第三章 通过"点击化学"引入不同尺寸间隔基团的二阶非线性光学聚氨酯高分子:合成及构性关系研究 | 第97-116页 |
| ·引言 | 第97-100页 |
| ·实验部分 | 第100-105页 |
| ·仪器表征与试剂处理 | 第100页 |
| ·合成部分 | 第100-105页 |
| ·聚合物电光薄膜的制备及宏观非线性光学效应的测试 | 第105页 |
| ·结果与讨论 | 第105-113页 |
| ·生色团单体及高分子的合成 | 第105-107页 |
| ·生色团单体及高分子的结构表征 | 第107-110页 |
| ·聚合物P11-P15薄膜的非线性光学性质 | 第110-113页 |
| ·本章小结 | 第113-114页 |
| ·参考文献 | 第114-116页 |
| 第四章 利用Sonagashira偶联反应引入间隔基团的非线性光学聚氨酯高分子合成及性质比对研究 | 第116-129页 |
| ·引言 | 第116-118页 |
| ·实验部分 | 第118-122页 |
| ·仪器表征与试剂处理 | 第118页 |
| ·合成部分 | 第118-121页 |
| ·聚合物电光薄膜的制备及宏观非线性光学效应的测试 | 第121-122页 |
| ·结果与讨论 | 第122-127页 |
| ·高分子的合成 | 第122-123页 |
| ·生色团单体及高分子的结构表征 | 第123-125页 |
| ·聚合物P16-P19薄膜的非线性光学性质 | 第125-127页 |
| ·本章小结 | 第127页 |
| ·参考文献 | 第127-129页 |
| 第五章 新型具有优秀综合性能主链型聚氨酯高分子的合成及性质研究 | 第129-146页 |
| ·引言 | 第129-131页 |
| ·实验部分 | 第131-135页 |
| ·仪器表征与试剂处理 | 第131-132页 |
| ·合成部分 | 第132-135页 |
| ·聚合物电光薄膜的制备及宏观非线性光学效应的测试 | 第135页 |
| ·结果与讨论 | 第135-142页 |
| ·生色团单体及高分子的合成 | 第135-136页 |
| ·生色团单体及高分子的结构表征 | 第136-138页 |
| ·聚合物P20-P23薄膜的非线性光学性质 | 第138-142页 |
| ·本章小结 | 第142页 |
| ·参考文献 | 第142-146页 |
| 第六章 生色团相同、间隔基团相同的主链型及侧链型非线性光学聚合物的合成及性质研究 | 第146-165页 |
| ·引言 | 第146-149页 |
| ·实验部分 | 第149-155页 |
| ·仪器表征与试剂处理 | 第149页 |
| ·合成部分 | 第149-155页 |
| ·聚合物电光薄膜的制备及宏观非线性光学效应的测试 | 第155页 |
| ·结果与讨论 | 第155-163页 |
| ·生色团单体及高分子的合成 | 第155页 |
| ·生色团单体及高分子的结构表征 | 第155-159页 |
| ·聚合物P24-P31薄膜的非线性光学性质 | 第159-163页 |
| ·本章小结 | 第163页 |
| ·参考文献 | 第163-165页 |
| 第七章 含不同间隔基团的聚乙烯咔唑电光材料的设计合成及性质研究 | 第165-188页 |
| ·引言 | 第165-168页 |
| ·实验部分 | 第168-177页 |
| ·仪器表征与试剂处理 | 第168-169页 |
| ·合成部分 | 第169-176页 |
| ·聚合物电光薄膜的制备及宏观非线性光学效应的测试 | 第176-177页 |
| ·结果与讨论 | 第177-185页 |
| ·生色团单体及高分子的合成 | 第177页 |
| ·生色团单体及高分子的结构表征 | 第177-182页 |
| ·聚合物P33-P40薄膜的非线性光学性质 | 第182-185页 |
| ·本章小结 | 第185页 |
| ·参考文献 | 第185-188页 |
| 第八章 通过"点击化学"反应合成基于聚芴主链的非线性光学高分子:结构表征及其构性关系研究 | 第188-210页 |
| ·引言 | 第188-190页 |
| ·实验部分 | 第190-196页 |
| ·仪器表征与试剂处理 | 第190-191页 |
| ·合成部分 | 第191-196页 |
| ·聚合物电光薄膜的制备及宏观非线性光学效应的测试 | 第196页 |
| ·结果与讨论 | 第196-206页 |
| ·生色团单体及高分子的合成 | 第196-197页 |
| ·生色团单体及高分子的结构表征 | 第197-202页 |
| ·聚合物P41-P46薄膜的非线性光学性质 | 第202-206页 |
| ·本章小结 | 第206页 |
| ·参考文献 | 第206-210页 |
| 第九章 通过"点击化学"反应后功能化引入间隔基团的非线性聚氨酯高分子的合成及性质研究 | 第210-226页 |
| ·引言 | 第210-212页 |
| ·实验部分 | 第212-216页 |
| ·仪器表征与试剂处理 | 第212页 |
| ·合成部分 | 第212-215页 |
| ·聚合物电光薄膜的制备及宏观非线性光学效应的测试 | 第215-216页 |
| ·结果与讨论 | 第216-223页 |
| ·聚合物P47-P56的合成 | 第216页 |
| ·聚合物的结构表征 | 第216-219页 |
| ·聚合物P47-P56薄膜的非线性光学性质 | 第219-223页 |
| ·本章小结 | 第223页 |
| ·参考文献 | 第223-226页 |
| 第十章 通过后功能化高分子反应合成结构可调的非线性聚氨酯高分子:便利的合成路线以及构性关系研究 | 第226-239页 |
| ·引言 | 第226-227页 |
| ·实验部分 | 第227-229页 |
| ·仪器表征与试剂处理 | 第227-228页 |
| ·合成部分 | 第228-229页 |
| ·聚合物电光薄膜的制备及宏观非线性光学效应的测试 | 第229页 |
| ·结果与讨论 | 第229-236页 |
| ·高分子的合成 | 第229-230页 |
| ·生色团单体及高分子的结构表征 | 第230-233页 |
| ·聚合物P58-P61薄膜的非线性光学性质 | 第233-236页 |
| ·本章小结 | 第236页 |
| ·参考文献 | 第236-239页 |
| 第十一章 通过优化合成路线合成一系列新型的以芴环基团为间隔基团的二阶非线性光学高分子 | 第239-262页 |
| ·引言 | 第239-241页 |
| ·实验部分 | 第241-248页 |
| ·仪器表征与试剂处理 | 第241页 |
| ·合成部分 | 第241-247页 |
| ·聚合物电光薄膜的制备及宏观非线性光学效应的测试 | 第247-248页 |
| ·结果与讨论 | 第248-259页 |
| ·生色团单体和高分子的合成 | 第248-250页 |
| ·生色团单体及高分子的结构表征 | 第250-255页 |
| ·聚合物P62-P69薄膜的非线性光学性质 | 第255-259页 |
| ·本章小结 | 第259页 |
| ·参考文献 | 第259-262页 |
| 第十二章 以吡咯作为共轭桥的非线性光学高分子的合成与性质研究 | 第262-276页 |
| ·引言 | 第262-264页 |
| ·实验部分 | 第264-268页 |
| ·仪器表征与试剂处理 | 第264-265页 |
| ·合成部分 | 第265-267页 |
| ·聚合物电光薄膜的制备及宏观非线性光学效应的测试 | 第267-268页 |
| ·结果与讨论 | 第268-274页 |
| ·单体及高分子的合成 | 第268-269页 |
| ·生色团单体及高分子的结构表征 | 第269-272页 |
| ·聚合物P71-P73薄膜的非线性光学性质 | 第272-274页 |
| ·本章小结 | 第274页 |
| ·参考文献 | 第274-276页 |
| 第十三章 通过"H"-型生色团构筑的枝状主链型高分子:合成及性质研究 | 第276-298页 |
| ·引言 | 第276-279页 |
| ·实验部分 | 第279-284页 |
| ·仪器表征与试剂处理 | 第279页 |
| ·合成部分 | 第279-284页 |
| ·聚合物电光薄膜的制备及宏观非线性光学效应的测试 | 第284页 |
| ·结果与讨论 | 第284-294页 |
| ·生色团单体及高分子的合成 | 第284-285页 |
| ·生色团单体及高分子的结构表征 | 第285-291页 |
| ·聚合物P74-P77薄膜的非线性光学性质 | 第291-294页 |
| ·本章小结 | 第294-295页 |
| ·参考文献 | 第295-298页 |
| 第十四章 "H"-形二阶非线性光学聚合物的合成及性质研究 | 第298-313页 |
| ·引言 | 第298-300页 |
| ·实验部分 | 第300-305页 |
| ·仪器表征与试剂处理 | 第300-301页 |
| ·合成部分 | 第301-305页 |
| ·聚合物电光薄膜的制备及宏观非线性光学效应的测试 | 第305页 |
| ·结果与讨论 | 第305-311页 |
| ·生色团单体及高分子的合成 | 第305-306页 |
| ·生色团单体及高分子的结构表征 | 第306-309页 |
| ·聚合物P78-P84薄膜的非线性光学性质 | 第309-311页 |
| ·本章小结 | 第311页 |
| ·参考文献 | 第311-313页 |
| 第十五章 通过"点击化学"合成AB_2型树枝状电光大分子及树枝状高分子:便利合成以及增强的非线性光学效应 | 第313-339页 |
| ·引言 | 第313-318页 |
| ·实验部分 | 第318-324页 |
| ·仪器表征与试剂处理 | 第318-319页 |
| ·合成部分 | 第319-324页 |
| ·结果与讨论 | 第324-336页 |
| ·树枝状大分子的合成 | 第324-325页 |
| ·生色团单体及高分子的结构表征 | 第325-332页 |
| ·聚合物G1-G5薄膜的非线性光学性质 | 第332-336页 |
| ·本章小结 | 第336-337页 |
| ·参考文献 | 第337-339页 |
| 第十六章 通过"点击化学"反应合成基于聚芴主链的树枝状二阶非线性高分子 | 第339-353页 |
| ·引言 | 第339-341页 |
| ·实验部分 | 第341-342页 |
| ·仪器表征与试剂处理 | 第341-342页 |
| ·聚合物电光薄膜的制备及宏观非线性光学效应的测试 | 第342页 |
| ·结果与讨论 | 第342-350页 |
| ·树枝状高分子的合成 | 第342-343页 |
| ·树枝状高分子的结构表征 | 第343-347页 |
| ·树枝状高分子P85和P86薄膜的非线性光学性质 | 第347-350页 |
| ·本章小结 | 第350-351页 |
| ·参考文献 | 第351-353页 |
| 第十七章 不同维度的树枝状电光大分子的合成以及性质研究 | 第353-367页 |
| ·引言 | 第353-355页 |
| ·实验部分 | 第355-358页 |
| ·仪器表征与试剂处理 | 第355页 |
| ·合成部分 | 第355-358页 |
| ·聚合物电光薄膜的制备及宏观非线性光学效应的测试 | 第358页 |
| ·结果与讨论 | 第358-365页 |
| ·单体及树枝状生色团的合成 | 第358-359页 |
| ·树枝状生色团的结构表征 | 第359-363页 |
| ·树枝状生色团T1-T3电光薄膜的非线性光学性质 | 第363-365页 |
| ·本章小结 | 第365页 |
| ·参考文献 | 第365-367页 |
| 第十八章 AB_2型超支化以及AB型线型二阶非线型光学材料的合成以及性质表征 | 第367-379页 |
| ·引言 | 第367-368页 |
| ·实验部分 | 第368-371页 |
| ·仪器表征与试剂处理 | 第368-369页 |
| ·合成部分 | 第369-371页 |
| ·聚合物电光薄膜的制备及宏观非线型光学效应的测试 | 第371页 |
| ·结果与讨论 | 第371-376页 |
| ·单体及高分子的合成 | 第371页 |
| ·生色团单体及高分子的结构表征 | 第371-374页 |
| ·聚合物P87和P88薄膜的非线型光学性质 | 第374-376页 |
| ·本章小结 | 第376-377页 |
| ·参考文献 | 第377-379页 |
| 第十九章 "点击化学"构筑含非线性光学生色团的AB_2型超支化聚三氮唑高分子:合成以及光学性质表征 | 第379-400页 |
| ·引言 | 第379-382页 |
| ·实验部分 | 第382-388页 |
| ·仪器表征与试剂处理 | 第382页 |
| ·合成部分 | 第382-387页 |
| ·聚合物电光薄膜的制备及宏观非线性光学效应的测试 | 第387-388页 |
| ·结果与讨论 | 第388-398页 |
| ·单体及高分子的合成 | 第388-389页 |
| ·生色团单体及高分子的结构表征 | 第389-394页 |
| ·聚合物P89-P96薄膜的非线性光学性质 | 第394-398页 |
| ·本章小结 | 第398页 |
| ·参考文献 | 第398-400页 |
| 第二十章 通过Sonogashira偶联反应制备新型主链型超支化二阶非线性高分子及性能研究 | 第400-419页 |
| ·引言 | 第400-403页 |
| ·实验部分 | 第403-407页 |
| ·仪器表征与试剂处理 | 第403页 |
| ·合成部分 | 第403-407页 |
| ·聚合物电光薄膜的制备及宏观非线性光学效应的测试 | 第407页 |
| ·结果与讨论 | 第407-416页 |
| ·单体及高分子的合成 | 第407-408页 |
| ·生色团单体及高分子的结构表征 | 第408-412页 |
| ·聚合物P97-P104薄膜的非线性光学性质 | 第412-416页 |
| ·本章小结 | 第416-417页 |
| ·参考文献 | 第417-419页 |
| 第二十一章 基于三苯胺和咔唑的树枝状大分子的合成、有机电致发光性能以及空穴传输性能的研究 | 第419-444页 |
| ·引言 | 第419-425页 |
| ·实验部分 | 第425-433页 |
| ·仪器表征与试剂处理 | 第425页 |
| ·合成部分 | 第425-432页 |
| ·电致发光器件的制备和性能测试条件 | 第432-433页 |
| ·结果与讨论 | 第433-441页 |
| ·树枝状分子D1-D10的合成及结构表征 | 第433-434页 |
| ·树枝状分子D1-D10的热力学性质 | 第434-435页 |
| ·树枝状分子D1-D10的光物理性质 | 第435-437页 |
| ·树枝状大分子D1-D10的电化学性质 | 第437-438页 |
| ·部分树枝状分子的电致发光性能 | 第438-440页 |
| ·树枝状分子D3和D8的空穴传输性能 | 第440-441页 |
| ·本章小结 | 第441页 |
| ·参考文献 | 第441-444页 |
| 第二十二章 通过单、双、三键高效构筑树枝状全共轭三苯胺大分子:合成及空穴传输性能研究 | 第444-464页 |
| ·引言 | 第444-448页 |
| ·实验部分 | 第448-453页 |
| ·仪器表征与试剂处理 | 第448页 |
| ·合成部分 | 第448-453页 |
| ·电致发光器件的制备和性能测试条件 | 第453页 |
| ·结果与讨论 | 第453-461页 |
| ·树枝状大分子DT1和DT2的合成及结构表征 | 第453-455页 |
| ·树枝状大分子DT1和DT2的热力学性质 | 第455-456页 |
| ·树枝状大分子DT1和DT2的光物理性质 | 第456-457页 |
| ·树枝状大分子DT1和DT2的电化学性质 | 第457-458页 |
| ·树枝状大分子DT1和DT2的空穴传输性质 | 第458-461页 |
| ·本章小结 | 第461页 |
| ·参考文献 | 第461-464页 |
| 第二十三章 新型含芴单元的"A_3+B_2"超支化发光高分子的合成、表征以及电致发光性能研究 | 第464-483页 |
| ·引言 | 第464-466页 |
| ·实验部分 | 第466-469页 |
| ·仪器表征与试剂处理 | 第466页 |
| ·合成部分 | 第466-469页 |
| ·电致发光器件的制备和性能测试条件 | 第469页 |
| ·结果与讨论 | 第469-478页 |
| ·化合物及高分子的合成及结构表征 | 第469-472页 |
| ·超支化聚合物的光物理性质 | 第472-476页 |
| ·超支化聚合物的电致发光性质 | 第476-478页 |
| ·本章小结 | 第478-479页 |
| ·参考文献 | 第479-483页 |
| 第二十四章 新型基于六苯基苯和噁二唑的超支化发光高分子的合成、表征以及电致发光性能研究 | 第483-500页 |
| ·引言 | 第483-485页 |
| ·实验部分 | 第485-488页 |
| ·仪器表征与试剂处理 | 第485页 |
| ·合成部分 | 第485-487页 |
| ·电致发光器件的制备和性能测试条件 | 第487-488页 |
| ·结果与讨论 | 第488-496页 |
| ·化合物及高分子的合成及结构表征 | 第488-489页 |
| ·超支化聚合物P110-P113的热力学表征 | 第489-490页 |
| ·超支化聚合物P110-P113的光物理表征 | 第490-492页 |
| ·超支化聚合物P110-P113的电化学表征 | 第492-493页 |
| ·超支化聚合物的电致发光性质 | 第493-496页 |
| ·本章小结 | 第496-497页 |
| ·参考文献 | 第497-500页 |
| 第二十五章 新型全咔唑单元构筑的"A_4+B_2"超支化共轭高分子的合成、空穴传输能力以及有机场效应性质的研究 | 第500-516页 |
| ·引言 | 第500-502页 |
| ·实验部分 | 第502-505页 |
| ·仪器表征与试剂处理 | 第502-503页 |
| ·合成部分 | 第503-504页 |
| ·电致发光器件和有机场效应管的制备及性能测试条件 | 第504-505页 |
| ·结果与讨论 | 第505-512页 |
| ·超支化聚合物P114的合成及结构表征 | 第505页 |
| ·超支化聚合物P114的热力学以及光物理性质 | 第505-507页 |
| ·超支化聚合物P114的电化学性质 | 第507-508页 |
| ·超支化聚合物P114的空穴传输能力性质 | 第508-510页 |
| ·超支化聚合物P114的场效应性质 | 第510-512页 |
| ·本章小结 | 第512页 |
| ·参考文献 | 第512-516页 |
| 第二十六章 通过Sonogashira偶联反应构筑新型"A_4+B_2"-型超支化共轭高分子:合成及电致发光性能研究 | 第516-530页 |
| ·引言 | 第516-517页 |
| ·实验部分 | 第517-519页 |
| ·仪器表征与试剂处理 | 第517页 |
| ·合成部分 | 第517-518页 |
| ·电致发光器件的制备及性能测试条件 | 第518-519页 |
| ·结果与讨论 | 第519-527页 |
| ·超支化高分子P115-P117的合成及结构表征 | 第519-520页 |
| ·超支化聚合物P115-P117的热力学性质 | 第520-521页 |
| ·超支化聚合物P115-P117的光物理性质 | 第521-523页 |
| ·超支化聚合物P115-P117的电化学性质 | 第523-525页 |
| ·超支化聚合物P115和P116的电致发光性质 | 第525-527页 |
| ·本章小结 | 第527-528页 |
| ·参考文献 | 第528-530页 |
| 总结 | 第530-534页 |
| 附录 作者在攻读博士学位期间发表论文情况 | 第534-538页 |
| 致谢 | 第538-539页 |
