激光淬火过程检测与控制系统设计
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 插图索引 | 第10-12页 |
| 插表索引 | 第12-13页 |
| 第1章 绪论 | 第13-22页 |
| ·激光淬火技术概述 | 第13-16页 |
| ·激光淬火基本原理 | 第13-14页 |
| ·激光淬火工艺的特点 | 第14-15页 |
| ·激光淬火的输入输出参数 | 第15-16页 |
| ·国内外激光淬火技术应用与研究现状 | 第16-17页 |
| ·激光淬火技术应用现状 | 第16页 |
| ·激光淬火技术研究现状分析 | 第16-17页 |
| ·国内外提高激光淬火质量的主要策略 | 第17-19页 |
| ·提高激光淬火质量的方法 | 第17-19页 |
| ·激光淬火存在的主要问题 | 第19页 |
| ·国内外激光淬火过程的检测与控制的研究现状 | 第19-20页 |
| ·课题的来源和意义 | 第20-21页 |
| ·课题的来源 | 第20页 |
| ·课题的意义 | 第20-21页 |
| ·课题研究的主要内容 | 第21-22页 |
| 第2章 激光淬火控制系统方案设计 | 第22-26页 |
| ·检测对象和控制参数的确定 | 第22-23页 |
| ·检测对象的确定 | 第22-23页 |
| ·控制参数的确定 | 第23页 |
| ·检测与控制方案的确定与原理介绍 | 第23-25页 |
| ·检测传感器的确定 | 第23页 |
| ·CCD在线检测硬化带宽度的原理 | 第23-25页 |
| ·PID控制原理 | 第25页 |
| ·本章小结 | 第25-26页 |
| 第3章 激光淬火控制系统硬件设计 | 第26-39页 |
| ·硬件系统总体结构 | 第26页 |
| ·激光器 | 第26-27页 |
| ·位移台系统 | 第27-33页 |
| ·电控位移台选型 | 第28-29页 |
| ·位移台控制器选型 | 第29-31页 |
| ·位移台驱动器选型 | 第31-33页 |
| ·CCD检测系统 | 第33-38页 |
| ·CCD传感器的选型 | 第33-36页 |
| ·镜头的选型 | 第36页 |
| ·滤光片的选型 | 第36-37页 |
| ·图像采集卡选型 | 第37-38页 |
| ·控制中心 | 第38页 |
| ·本章小结 | 第38-39页 |
| 第4章 激光淬火控制系统软件设计 | 第39-52页 |
| ·激光淬火控制系统软件设计总体结构 | 第39页 |
| ·软件设计开发平台工具选择 | 第39页 |
| ·软件系统总体结构 | 第39页 |
| ·CCD检测系统 | 第39-47页 |
| ·CCD检测系统总体结构 | 第39-40页 |
| ·图像采集模块设计 | 第40-42页 |
| ·图像剪裁与缩放模块设计 | 第42-43页 |
| ·灰度化处理 | 第43页 |
| ·图像平滑去噪处理 | 第43-44页 |
| ·伪彩色处理 | 第44-45页 |
| ·阈值分割处理 | 第45-47页 |
| ·位移台控制系统软件设计 | 第47-51页 |
| ·位移台控制系统总体结构设计 | 第47-48页 |
| ·PID控制模块软件设计 | 第48-49页 |
| ·位移台运动与控制设置软件设计 | 第49-51页 |
| ·本章小结 | 第51-52页 |
| 第5章 试验及结果分析 | 第52-62页 |
| ·激光淬火实验方案 | 第52-53页 |
| ·试验目的 | 第52页 |
| ·试验方法 | 第52页 |
| ·试验材料 | 第52页 |
| ·工艺参数选择 | 第52-53页 |
| ·激光淬火检测试验及结果分析 | 第53-56页 |
| ·像素精度标定试验 | 第53-54页 |
| ·激光淬火实验 | 第54页 |
| ·激光淬火检测实验 | 第54-56页 |
| ·激光淬火工艺参数对硬化带宽度的影响试验 | 第56-58页 |
| ·激光淬火实时控制试验 | 第58-61页 |
| ·本章小结 | 第61-62页 |
| 总结与展望 | 第62-64页 |
| 参考文献 | 第64-67页 |
| 致谢 | 第67-69页 |
| 附录A 攻读学位期间所发表的学术论文 | 第69-70页 |
| 附录B 攻读学位期间所参与的课题 | 第70页 |
