| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-9页 |
| 1 绪论 | 第9-19页 |
| ·TiO_2简介 | 第9-13页 |
| ·TiO_2的晶体结构 | 第9-10页 |
| ·TiO_2的光催化反应过程 | 第10-12页 |
| ·TiO_2的应用 | 第12-13页 |
| ·TiO_2薄膜制备方法简介 | 第13-15页 |
| ·溶胶-凝胶(sol-gel)法 | 第13页 |
| ·化学气相沉积法 | 第13-14页 |
| ·电化学法 | 第14页 |
| ·电子束蒸发法 | 第14-15页 |
| ·磁控溅射法 | 第15页 |
| ·TiO_2薄膜改性及研究进展 | 第15-18页 |
| ·过渡金属离子掺杂 | 第15-16页 |
| ·非金属掺杂 | 第16-17页 |
| ·贵金属沉积 | 第17页 |
| ·增大薄膜比表面积 | 第17-18页 |
| ·本文的研究内容 | 第18-19页 |
| 2 磁控溅射法制备Ti膜及其后期处理制备TiO_2膜的原理和方法 | 第19-29页 |
| ·实验材料及仪器 | 第19页 |
| ·磁控溅射法制备Ti薄膜工艺及原理 | 第19-24页 |
| ·磁控溅射原理 | 第19-21页 |
| ·本实验所用镀膜仪简介 | 第21-22页 |
| ·本实验磁控溅射法制备Ti薄膜工艺流程 | 第22-24页 |
| ·Ti膜经退火氧化处理制备TiO_2薄膜的工艺及原理 | 第24-25页 |
| ·退火氧化处理制备TiO_2薄膜的原理 | 第24页 |
| ·退火氧化处理制备TiO_2薄膜的工艺流程 | 第24-25页 |
| ·低温双氧水法制备TiO_2薄膜的工艺及原理 | 第25-26页 |
| ·低温双氧水法表面处理制备TiO_2薄膜的原理 | 第25页 |
| ·低温双氧水法制备TiO_2薄膜的工艺流程 | 第25-26页 |
| ·薄膜的表征及性能测试方法 | 第26-29页 |
| ·拉曼光谱(Raman) | 第26-27页 |
| ·X-射线衍射仪(XRD) | 第27页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第27页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第27-28页 |
| ·紫外-可见分光光度计(UV-Vis) | 第28页 |
| ·光催化化学反应仪 | 第28-29页 |
| 3 磁控溅射工艺参数对Ti膜结构及形貌的影响 | 第29-35页 |
| ·Ti膜的制备 | 第29页 |
| ·Ti膜的成分分析 | 第29-30页 |
| ·溅射工艺参数对Ti膜表面形貌的影响 | 第30-34页 |
| ·溅射压强不同对Ti膜表面形貌的影响 | 第30-32页 |
| ·溅射功率不同对Ti膜表面形貌的影响 | 第32-33页 |
| ·溅射时间不同对Ti膜表面形貌的影响 | 第33-34页 |
| ·本章小结 | 第34-35页 |
| 4 退火氧化法制备TiO_2薄膜及其结构与形貌分析 | 第35-50页 |
| ·退火温度不同对TiO_2薄膜结构的影响 | 第35-39页 |
| ·薄膜的制备 | 第35页 |
| ·薄膜的Raman分析 | 第35-36页 |
| ·薄膜的XRD分析 | 第36-38页 |
| ·薄膜的AFM分析 | 第38-39页 |
| ·溅射压强不同对TiO_2薄膜结构的影响 | 第39-44页 |
| ·薄膜的制备 | 第39-40页 |
| ·薄膜的Raman分析 | 第40-41页 |
| ·薄膜的XRD分析 | 第41-42页 |
| ·薄膜的AFM分析 | 第42-44页 |
| ·溅射功率不同对TiO_2薄膜结构的影响 | 第44-46页 |
| ·薄膜的制备 | 第44页 |
| ·薄膜的Raman分析 | 第44-45页 |
| ·薄膜的XRD分析 | 第45-46页 |
| ·溅射时间不同对TiO_2薄膜结构的影响 | 第46-49页 |
| ·薄膜的制备 | 第46页 |
| ·薄膜的Raman分析 | 第46-47页 |
| ·薄膜的XRD分析 | 第47页 |
| ·薄膜的AFM分析 | 第47-49页 |
| ·本章小结 | 第49-50页 |
| 5 低温双氧水法制备TiO_2薄膜及其结构与形貌分析 | 第50-57页 |
| ·薄膜的制备 | 第50页 |
| ·Ti薄膜经H_2O_2处理后的表面形貌 | 第50-51页 |
| ·沉积时间不同对TiO_2膜结构及形貌的影响 | 第51-53页 |
| ·薄膜的Raman分析 | 第51页 |
| ·薄膜的AFM分析 | 第51-52页 |
| ·薄膜的SEM分析 | 第52-53页 |
| ·不同压强下制备的Ti膜对TiO_2膜结构及形貌的影响 | 第53-55页 |
| ·薄膜的Raman分析 | 第53-54页 |
| ·薄膜的AFM分析 | 第54-55页 |
| ·薄膜的SEM分析 | 第55页 |
| ·本章小结 | 第55-57页 |
| 6 TiO_2薄膜的光催化性质研究 | 第57-66页 |
| ·光源对甲基橙溶液降解率的影响 | 第57-58页 |
| ·甲基橙溶液初始浓度对光催化降解率的影响 | 第58-59页 |
| ·不同退火温度制备的薄膜对甲基橙溶液降解率的影响 | 第59-60页 |
| ·不同溅射压强下的TiO_2薄膜对甲基橙溶液降解率的影响 | 第60-61页 |
| ·不同溅射时间下的TiO_2薄膜对甲基橙溶液降解率的影响 | 第61-62页 |
| ·不同沉积时间的表面改性膜对甲基橙溶液降解率的影响 | 第62-64页 |
| ·本章小结 | 第64-66页 |
| 全文结论 | 第66-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-73页 |
