| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-22页 |
| ·引言 | 第11-12页 |
| ·阿特拉津概述 | 第11页 |
| ·阿特拉津的分析检测 | 第11-12页 |
| ·分子印迹技术 | 第12-15页 |
| ·分子印迹技术的原理 | 第12-13页 |
| ·分子印迹聚合物的特点 | 第13页 |
| ·分子印迹聚合物的制备 | 第13-15页 |
| ·分子印迹膜技术 | 第15-17页 |
| ·分子印迹膜 | 第15-16页 |
| ·分子印迹膜的应用 | 第16页 |
| ·分子印迹膜的制备 | 第16-17页 |
| ·高压静电纺丝技术 | 第17页 |
| ·国内外研究现状 | 第17-19页 |
| ·本研究的目的、意义及技术路线 | 第19-22页 |
| ·研究的目的和意义 | 第19页 |
| ·研究的主要内容 | 第19-20页 |
| ·本研究的创新点 | 第20页 |
| ·技术路线 | 第20-22页 |
| 第二章 阿特拉津分子印迹聚合物的制备及其性能研究 | 第22-38页 |
| ·引言 | 第22页 |
| ·实验部分 | 第22-25页 |
| ·试剂及仪器 | 第22-23页 |
| ·试剂的前期处理 | 第23页 |
| ·聚合物的制备 | 第23-24页 |
| ·模板分子与功能单体印迹比例的优化 | 第24页 |
| ·分子印迹聚合物制备单因素试验 | 第24页 |
| ·分子印迹聚合物的表征 | 第24-25页 |
| ·色谱条件的选择 | 第25页 |
| ·MIPs结合性能研究 | 第25页 |
| ·MIPs选择吸附性能研究 | 第25页 |
| ·结果与讨论 | 第25-37页 |
| ·模板分子与功能单体印迹比例的优化 | 第25-26页 |
| ·分子印迹聚合物制备条件的优化 | 第26-32页 |
| ·MIPs的红外结果分析 | 第32页 |
| ·MIPs与NIPs比表面积、孔容和孔径的比较 | 第32-33页 |
| ·MIPs热重分析结果 | 第33页 |
| ·标准曲线的绘制 | 第33-35页 |
| ·溶液的吸附等温线 | 第35页 |
| ·Scatchard分析 | 第35-36页 |
| ·MIPs选择吸附性能比较 | 第36-37页 |
| ·小结 | 第37-38页 |
| 第三章 高压静电纺丝制备分子印迹膜条件的优化 | 第38-48页 |
| ·引言 | 第38页 |
| ·实验部分 | 第38-40页 |
| ·试剂及仪器 | 第38-39页 |
| ·静电纺丝液的制备 | 第39页 |
| ·高压静电纺丝基本装置 | 第39页 |
| ·静电纺丝纤维膜制备条件的优化 | 第39-40页 |
| ·静电纺丝纤维膜的交联及形貌表征 | 第40页 |
| ·结果与讨论 | 第40-47页 |
| ·纺丝液浓度的优化 | 第40-42页 |
| ·电压的优化 | 第42-45页 |
| ·接收距离的优化 | 第45-47页 |
| ·小结 | 第47-48页 |
| 第四章 阿特拉津分子印迹纤维膜的制备、表征及性能研究 | 第48-58页 |
| ·引言 | 第48页 |
| ·实验部分 | 第48-51页 |
| ·试剂及仪器 | 第48-49页 |
| ·静电纺丝液的制备 | 第49页 |
| ·MIM的制备 | 第49页 |
| ·MIM的化学交联及形态表征 | 第49-50页 |
| ·印迹纤维膜性能的表征 | 第50页 |
| ·色谱条件的选择 | 第50页 |
| ·MIM结合性能研究 | 第50-51页 |
| ·MIM选择吸附性能研究 | 第51页 |
| ·结果与讨论 | 第51-57页 |
| ·交联前后形貌表征 | 第51页 |
| ·纺丝膜的性能表征 | 第51-53页 |
| ·标准曲线的绘制 | 第53-54页 |
| ·溶液的吸附等温线 | 第54-55页 |
| ·Scatchard分析 | 第55-56页 |
| ·MIM选择吸附性能比较 | 第56-57页 |
| ·小结 | 第57-58页 |
| 第五章 结论与展望 | 第58-60页 |
| ·结论 | 第58-59页 |
| ·展望 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |
| 附录 | 第68-69页 |
| 作者简介 | 第69页 |