| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-6页 |
| 目录 | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-17页 |
| ·铍、钒物理特性 | 第8-9页 |
| ·铍 | 第8-9页 |
| ·钒 | 第9页 |
| ·薄膜沉积 | 第9-13页 |
| ·薄膜的真空沉积法 | 第9-11页 |
| ·薄膜的生长理论 | 第11-12页 |
| ·钒膜的制备方法 | 第12-13页 |
| ·铍表面改性研究现状 | 第13-14页 |
| ·铍钒相容性研究 | 第14-15页 |
| ·钒在液态金属Li中的腐蚀性能 | 第15-16页 |
| ·总结 | 第16-17页 |
| 第二章 铍表面钒膜的磁控溅射法制备 | 第17-34页 |
| ·实验方法 | 第17-19页 |
| ·磁控溅射法 | 第17-18页 |
| ·样品分析方法 | 第18页 |
| ·样品制备 | 第18-19页 |
| ·靶基距对薄膜微观结构的影响 | 第19-24页 |
| ·薄膜的相结构分析 | 第20-22页 |
| ·薄膜的表面形貌分析 | 第22-24页 |
| ·薄膜的截面形貌分析 | 第24页 |
| ·基底偏压对钒膜微观结构的影响 | 第24-29页 |
| ·不同偏压条件下磁控溅射沉积钒膜的相结构 | 第25-26页 |
| ·不同偏压条件下沉积钒膜的表面形貌 | 第26-28页 |
| ·不同偏压条件下Si(111)面磁控溅射沉积钒膜的截面形貌 | 第28-29页 |
| ·靶功率对钒膜微观结构的影响 | 第29-31页 |
| ·不同靶功率条件下沉积钒膜的相结构 | 第29-30页 |
| ·不同靶功率条件下沉积钒膜的表面形貌 | 第30-31页 |
| ·不同功率条件下磁控溅射沉积钒膜的截面分析 | 第31页 |
| ·工艺过程影响钒镀层微观组织结构的机理 | 第31-33页 |
| ·小结 | 第33-34页 |
| 第三章 钒涂层的冷喷涂法制备 | 第34-38页 |
| ·冷喷涂工艺的发展 | 第34页 |
| ·冷喷涂制备钒涂层的初步实验 | 第34-37页 |
| ·涂层制备 | 第34-36页 |
| ·钒涂层的结构分析 | 第36-37页 |
| ·小结 | 第37-38页 |
| 第四章 铍钒界面及其在高温下的互扩散性能 | 第38-46页 |
| ·磁控溅射沉积铍表面钒膜界面研究 | 第38-41页 |
| ·HIP处理后的铍钒界面研究 | 第41-43页 |
| ·HIP方法简介 | 第41页 |
| ·HIP处理后铍钒界面分析 | 第41-43页 |
| ·高温扩散系数的理论计算 | 第43-45页 |
| ·小结 | 第45-46页 |
| 第五章 铍表面溅射沉积钒膜在液态金属锂中的熔蚀性能 | 第46-51页 |
| ·熔蚀实验设计 | 第46-47页 |
| ·擦蚀后的分析结果 | 第47-50页 |
| ·小结 | 第50-51页 |
| 第六章 结论 | 第51-52页 |
| 致谢 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-56页 |
| 论文的创新点 | 第56-57页 |
| 攻读硕士学位期间发表论文及参加学术会议情况 | 第57页 |