| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-9页 |
| 目录 | 第9-13页 |
| 第1章 绪论 | 第13-23页 |
| ·超导的发现 | 第13-14页 |
| ·超导现象的发现 | 第13页 |
| ·超导材料的发现 | 第13-14页 |
| ·高温超导材料的应用 | 第14页 |
| ·国内外超导材料的研究现状 | 第14-16页 |
| ·中国高温超导材料研究现状 | 第15页 |
| ·国外高温超导材料研究现状 | 第15-16页 |
| ·高温超导带材的基本结构及制备方法 | 第16-21页 |
| ·高温超导带材的基本结构 | 第16-19页 |
| ·高温超导带材的制备 | 第19-21页 |
| ·本论文的研究意义及主要研究内容 | 第21-23页 |
| ·本论文的研究意义 | 第21页 |
| ·本论文的主要研究内容 | 第21-23页 |
| 第2章 实验原理及性能测试方法 | 第23-29页 |
| ·实验原理及方法 | 第23页 |
| ·薄膜性能测试方法 | 第23-26页 |
| ·光学显微镜观测 | 第23-24页 |
| ·X射线衍射分析 | 第24-25页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第25-26页 |
| ·YBCO薄膜超导电性分析 | 第26-29页 |
| ·临界转变温度T_c | 第26-28页 |
| ·临界电流密度J_c | 第28-29页 |
| 第3章 NiW基带上沉积SrTiO_3缓冲层 | 第29-41页 |
| ·引言 | 第29页 |
| ·实验仪器及实验原料 | 第29-30页 |
| ·实验仪器 | 第29-30页 |
| ·实验原料 | 第30页 |
| ·STO种子层的制备 | 第30-31页 |
| ·前驱液的配制 | 第30页 |
| ·基底清洗 | 第30-31页 |
| ·STO种子层薄膜涂覆与热处理 | 第31页 |
| ·STO缓冲层薄膜的制备 | 第31页 |
| ·不同工艺参数对STO薄膜性能的影响 | 第31-39页 |
| ·种子层烧结温度对STO缓冲层薄膜结构的影响 | 第31-33页 |
| ·种子层厚度对STO缓冲层薄膜性能的影响 | 第33-35页 |
| ·不同烧结时间对STO缓冲层薄膜性能的影响 | 第35-38页 |
| ·不同种子层对STO缓冲层薄膜物相的影响 | 第38-39页 |
| ·本章小结 | 第39-41页 |
| 第4章 NiW基带上沉积La_(0.4)Sr_(0.6)TiO_3缓冲层 | 第41-56页 |
| ·引言 | 第41页 |
| ·实验仪器及实验原料 | 第41-42页 |
| ·实验仪器 | 第41页 |
| ·实验原料 | 第41-42页 |
| ·种子层的制备 | 第42-43页 |
| ·前驱液的配制 | 第42-43页 |
| ·种子层薄膜涂覆及热处理 | 第43页 |
| ·LSTO薄膜的制备 | 第43-44页 |
| ·不同工艺参数对LSTO薄膜性能的影响 | 第44-54页 |
| ·热处理温度对LSTO薄膜性能的影响 | 第44-47页 |
| ·种子层对LSTO薄膜性能的影响 | 第47-50页 |
| ·烧结时间对LSTO薄膜性能的影响 | 第50-52页 |
| ·高温阶段降温速率对LSTO薄膜取向的影响 | 第52-54页 |
| ·本章小结 | 第54-56页 |
| 第5章 MOD法在STO及LSTO缓冲层上外延生长YBCO薄膜 | 第56-72页 |
| ·引言 | 第56页 |
| ·实验原料 | 第56-57页 |
| ·YBCO薄膜的制备 | 第57-60页 |
| ·前驱液的配制 | 第57页 |
| ·YBCO薄膜的涂覆及热处理 | 第57页 |
| ·YBCO前驱液的热重实验 | 第57-58页 |
| ·YBCO粉末的制备 | 第58-59页 |
| ·YBCO热处理路线的确定 | 第59-60页 |
| ·不同工艺参数对YBCO薄膜性能的影响 | 第60-70页 |
| ·热处理气氛对YBCO薄膜性能的影响 | 第60-62页 |
| ·热处理温度对YBCO薄膜性能的影响 | 第62-66页 |
| ·低温阶段升温时间对YBCO薄膜性能的影响 | 第66-68页 |
| ·缓冲层厚度对YBCO薄膜性能的影响 | 第68-70页 |
| ·本章小结 | 第70-72页 |
| 第6章 结论 | 第72-73页 |
| 参考文献 | 第73-77页 |
| 致谢 | 第77-78页 |
| 硕士期间发表的论文 | 第78页 |