摘要 | 第1-8页 |
Abstract | 第8-10页 |
第1章 绪论 | 第10-20页 |
·课题的研究背景及意义 | 第10-11页 |
·氧化亚铜的基本性质和用途 | 第11-14页 |
·氧化亚铜的基本性质 | 第11页 |
·氧化亚铜的用途 | 第11-14页 |
·纳米氧化亚铜的制备研究 | 第14-18页 |
·固相法 | 第14页 |
·电解法 | 第14-15页 |
·液相法 | 第15-17页 |
·微波辐射法 | 第17-18页 |
·高能射线辐射法 | 第18页 |
·氧化亚铜的光催化机理 | 第18-19页 |
·本课题的研究目的和内容 | 第19-20页 |
第2章 微纳米氧化亚铜的制备方法 | 第20-25页 |
·引言 | 第20页 |
·实验药品与仪器 | 第20-21页 |
·实验药品 | 第20-21页 |
·实验仪器与设备 | 第21页 |
·实验方法及其原理 | 第21-25页 |
·水解法制备超细氧化亚铜 | 第21-22页 |
·液相还原法纯水相体系制备微纳米氧化亚铜 | 第22-23页 |
·液相还原法非水相体系制备微纳米氧化亚铜 | 第23-25页 |
第3章 制备微纳米氧化亚铜结果分析和生长机制探讨 | 第25-43页 |
·引言 | 第25-27页 |
·溶质的溶解和结晶 | 第25-26页 |
·氧化亚铜的生长机制 | 第26-27页 |
·水解法制备微纳米氧化亚铜的结果分析及表征 | 第27-34页 |
·改变反应条件对氧化亚铜形貌和粒径的影响 | 第27-34页 |
·X射线粉末衍射(XRD)分析 | 第34页 |
·液相还原法纯水相体系制备氧化亚铜的结果及其表征 | 第34-41页 |
·水合肼直接还原Cu~(2+)法的结果分析 | 第34-36页 |
·水合肼还原Cu(OH)_2沉淀的结果分析 | 第36-41页 |
·液相还原法非水相体系制备纳米氧化亚铜的结果及表征 | 第41-42页 |
·本章小结 | 第42-43页 |
第4章 氧化亚铜的光催化降解性能 | 第43-50页 |
·引言 | 第43页 |
·氧化亚铜光催化机理 | 第43-44页 |
·实验装置图 | 第44-45页 |
·结果与讨论 | 第45-49页 |
·亚甲基蓝标准曲线试验 | 第45页 |
·光降解催化的空白对照试验 | 第45-46页 |
·本实验光照强度的确定 | 第46页 |
·不同工艺制备的Cu_2O的光降解效率 | 第46-47页 |
·不同催化剂用量对光降解效率的影响 | 第47-48页 |
·亚甲基蓝初始浓度对降解效率的影响 | 第48-49页 |
·本章小结 | 第49-50页 |
结论 | 第50-52页 |
参考文献 | 第52-56页 |
致谢 | 第56-57页 |
附录A 攻读学位期间发表的学术论文目录 | 第57页 |