钛牙冠表面原位生成陶瓷膜的研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-20页 |
| ·前言 | 第10页 |
| ·钛及其合金在生物医学领域的应用 | 第10-12页 |
| ·钛及其合金在内外科中的应用 | 第11页 |
| ·钛及其合金在牙科的应用 | 第11-12页 |
| ·钛及其合金的表面改性 | 第12-14页 |
| ·激光融覆法 | 第13页 |
| ·表面沉积涂层法 | 第13-14页 |
| ·热扩散法 | 第14页 |
| ·微弧氧化法 | 第14页 |
| ·微弧氧化技术研究现状 | 第14-18页 |
| ·微弧氧化的研究进展 | 第15-16页 |
| ·微弧氧化机理研究现状 | 第16-17页 |
| ·微弧氧化在生物医学领域的应用现状 | 第17-18页 |
| ·选题背景及研究内容 | 第18-20页 |
| ·选题背景和研究意义 | 第18页 |
| ·研究内容 | 第18-20页 |
| 第2章 试验材料及试验方法 | 第20-25页 |
| ·试验材料及装置 | 第20-21页 |
| ·试验基体材料 | 第20页 |
| ·试验试剂 | 第20页 |
| ·试验装置 | 第20-21页 |
| ·微弧氧化膜的制备 | 第21-22页 |
| ·分析测试方法 | 第22-25页 |
| ·膜层的表面特性和微观结构分析 | 第22-23页 |
| ·膜层的摩擦特性测试 | 第23页 |
| ·膜层与基体的结合性能测试 | 第23页 |
| ·膜层在生理盐水中的腐蚀性能测试 | 第23-25页 |
| 第3章 膜层的显微结构表征 | 第25-45页 |
| ·微弧氧化陶瓷层生长规律 | 第25-30页 |
| ·微弧氧化电压与时间的关系 | 第25-27页 |
| ·膜层厚度的影响因素 | 第27-30页 |
| ·膜层表面形貌及截面分析 | 第30-38页 |
| ·表面形貌分析 | 第30-35页 |
| ·添加MgO粉末对膜层显微结构的影响 | 第35-36页 |
| ·成分分析 | 第36-38页 |
| ·膜层相组成分析 | 第38-43页 |
| ·本章小结 | 第43-45页 |
| 第4章 膜层耐磨试验及结合强度测试研究 | 第45-59页 |
| ·耐磨性试验研究 | 第45-53页 |
| ·纯钛的摩擦特性 | 第45-46页 |
| ·微弧氧化时间对膜层摩擦行为的影响 | 第46-48页 |
| ·反应频率对膜层摩擦行为的影响 | 第48-49页 |
| ·K_2ZrF_6浓度对膜层摩擦行为的影响 | 第49-51页 |
| ·添加MgO后不同厚度氧化膜的摩擦学行为 | 第51-53页 |
| ·微弧氧化膜层剪切测试 | 第53-57页 |
| ·膜层与基体的界面状态 | 第53-54页 |
| ·反应时间对膜层与基体剪切强度的影响 | 第54-55页 |
| ·K_2ZrF_6浓度对膜层与基体剪切强度的影响 | 第55页 |
| ·反应频率对膜层性能的影响 | 第55-56页 |
| ·添加MgO后氧化膜与基体的结合性能 | 第56-57页 |
| ·热震试验 | 第57-58页 |
| ·本章小结 | 第58-59页 |
| 第5章 陶瓷膜层的耐腐蚀行为研究 | 第59-75页 |
| ·膜层开路电位-时间关系 | 第59-63页 |
| ·微弧氧化时间对开路电位-时间关系的影响 | 第59-60页 |
| ·不同添加剂成分对开路电位的影响 | 第60-61页 |
| ·打磨后不同厚度微弧氧化膜腐蚀电位变化关系 | 第61-63页 |
| ·塔菲尔( Tafel )极化曲线 | 第63-68页 |
| ·钛基体的Tafel极化曲线测试研究 | 第63-64页 |
| ·工艺参数对陶瓷膜Tafel极化曲线影响 | 第64-67页 |
| ·添加MgO粉末后膜层Tafel极化曲线 | 第67-68页 |
| ·电化学阻抗谱(EIS)分析 | 第68-74页 |
| ·钛基体的EIS谱图 | 第68-70页 |
| ·工艺参数对陶瓷膜EIS谱图的影响 | 第70-73页 |
| ·添加MgO粉末后膜层的EIS谱图分析 | 第73-74页 |
| ·本章小结 | 第74-75页 |
| 结论 | 第75-76页 |
| 参考文献 | 第76-83页 |
| 致谢 | 第83页 |
