| 摘要 | 第1-10页 |
| ABSTRACT | 第10-18页 |
| 第一章 绪论 | 第18-49页 |
| ·电化学制备技术及其在功能材料制备中的应用 | 第18-32页 |
| ·电化学、电化学方法与电化学制备技术 | 第18-20页 |
| ·电化学制备技术的分类 | 第20-27页 |
| ·电化学制备技术在功能材料制备中的应用 | 第27-31页 |
| ·电化学制备技术的发展前景 | 第31-32页 |
| ·电化学制备技术在白钨矿晶态薄膜制备中的应用 | 第32-47页 |
| ·晶体与白钨矿晶体 | 第32-35页 |
| ·薄膜与白钨矿晶态薄膜 | 第35-42页 |
| ·电化学制备技术在白钨矿晶态薄膜制备中的应用 | 第42-43页 |
| ·电化学技术制备的白钨矿晶态薄膜的特点 | 第43页 |
| ·影响电化学技术制备白钨矿晶态薄膜的主要因素 | 第43-46页 |
| ·电化学技术制备白钨矿晶态薄膜的相关研究进展 | 第46-47页 |
| ·本章小结 | 第47-49页 |
| 第二章 本论文的选题依据、主要研究内容 | 第49-53页 |
| ·本论文选题依据 | 第49-51页 |
| ·本论文主要研究内容 | 第51-53页 |
| 第三章 白钨矿结构钼酸盐、钨酸盐晶态薄膜的电化学制备工艺技术与成膜机制 | 第53-66页 |
| ·钼酸盐、钨酸盐晶材料概述 | 第53-54页 |
| ·利用电化学技术制备功能薄膜的实验装置 | 第54-55页 |
| ·沉积基片的预处理 | 第55-56页 |
| ·沉积基片的酸腐蚀过程 | 第55-56页 |
| ·沉积基片的粗磨和机械抛光处理过程 | 第56页 |
| ·钼酸盐、钨酸盐晶态薄膜的电化学制备 | 第56-61页 |
| ·碱性电解质溶液的配制 | 第57-58页 |
| ·实验方案设计与工艺参数控制 | 第58-61页 |
| ·钼酸盐、钨酸盐晶态薄膜的电化学制备过程 | 第61页 |
| ·钼酸盐、钨酸盐晶态薄膜的成膜机制 | 第61-65页 |
| ·单一碱性溶液中(单碱土金属)钼酸盐、钨酸盐晶态薄膜的成膜机制 | 第61-63页 |
| ·含两种离子的混合碱性溶液中(双碱土金属)钼酸盐、钨酸盐晶态薄膜的成膜机制 | 第63-64页 |
| ·含三种离子的混合碱性溶液中(三碱土金属)钼酸盐、钨酸盐晶态薄膜的成膜机制 | 第64-65页 |
| ·本章小结 | 第65-66页 |
| 第四章 钼酸盐、钨酸盐晶态薄膜的物化结构性能测试与分析 | 第66-95页 |
| ·单元钼、钨酸盐晶态薄膜的晶相结构、表面形貌和成分分析 | 第66-81页 |
| ·BaMoO_4晶态薄膜的晶相结构、表面形貌和成分分析 | 第66-70页 |
| ·SrMoO_4晶态薄膜的晶相结构、表面形貌和成分分析 | 第70-74页 |
| ·BaWO_4晶态薄膜的晶相结构、表面形貌和成分分析 | 第74-78页 |
| ·SrWO_4晶态薄膜的晶相结构、表面形貌和成分分析 | 第78-81页 |
| ·二元钼酸盐晶态薄膜的晶相结构、表面形貌和成分分析 | 第81-89页 |
| ·Ba_(1-x)Sr_xMoO_4晶态薄膜的晶相结构 | 第82-83页 |
| ·Ba_(1-x)Sr_xMoO_4晶态薄膜的表面形貌分析 | 第83-84页 |
| ·Ba_(1-x)Sr_xMoO_4晶态薄膜的成分分析 | 第84-89页 |
| ·三元钼酸盐晶态薄膜的晶相结构、表面形貌和成分分析 | 第89-94页 |
| ·Ba_(1-x-y)Sr_xCa_yMoO_4晶态薄膜的晶相结构 | 第90页 |
| ·Ba_(1-x-y)Sr_xCa_yMoO_4晶态薄膜的表面形貌分析 | 第90-92页 |
| ·Ba_(1-x-y)Sr_xCa_yMoO_4晶态薄膜的成分分析 | 第92-94页 |
| ·本章小结 | 第94-95页 |
| 第五章 单元钼酸盐晶态薄膜的生长习性与生长动力学实验研究 | 第95-122页 |
| ·BaMoO_4晶态薄膜的生长习性与生长动力学 | 第95-112页 |
| ·BaMoO_4晶态薄膜的初期成核 | 第95-97页 |
| ·BaMoO_4晶态薄膜晶核堆砌与生长 | 第97-98页 |
| ·BaMoO_4晶态薄膜中晶粒的生长取向 | 第98-99页 |
| ·制备时间与晶粒的生长及薄膜的致密度 | 第99-102页 |
| ·BaMoO_4晶态薄膜的成分分析 | 第102页 |
| ·BaMoO_4晶态薄膜晶粒生长的变化过程 | 第102-112页 |
| ·SrMoO_4晶态薄膜的生长习性与生长动力学 | 第112-120页 |
| ·SrMoO_4晶态薄膜的初期成核 | 第112-114页 |
| ·SrMoO_4晶态薄膜晶核堆砌与生长 | 第114页 |
| ·SrMoO_4晶态薄膜中晶粒的生长取向 | 第114-116页 |
| ·制备时间与晶粒的生长及薄膜的致密度 | 第116-118页 |
| ·SrMoO_4晶态薄膜的成分分析 | 第118页 |
| ·SrMoO_4晶态薄膜中元素含量的分析 | 第118-120页 |
| ·本章小结 | 第120-122页 |
| 第六章 单元钨酸盐晶态薄膜的生长习性与生长动力学实验研究 | 第122-141页 |
| ·BaWO_4晶态薄膜的生长习性与生长动力学 | 第122-132页 |
| ·BaWO_4晶态薄膜的初期成核 | 第122-123页 |
| ·BaWO_4晶态薄膜晶核堆砌与生长 | 第123-124页 |
| ·BaWO_4晶态薄膜中晶粒的生长取向 | 第124-126页 |
| ·制备时间与晶粒的生长及薄膜的致密度 | 第126-128页 |
| ·BaWO_4晶态薄膜中元素含量的分析 | 第128-132页 |
| ·SrWO_4晶态薄膜的生长习性与生长动力学 | 第132-139页 |
| ·SrWO_4晶态薄膜的初期成核 | 第132-133页 |
| ·SrWO_4晶态薄膜晶核堆砌与生长 | 第133-134页 |
| ·SrWO_4晶态薄膜中晶粒的生长取向 | 第134-135页 |
| ·制备时间与晶粒的生长及薄膜的致密度 | 第135页 |
| ·SrWO_4晶态薄膜中元素含量的分析 | 第135-139页 |
| ·本章小结 | 第139-141页 |
| 第七章 多元白钨矿晶态薄膜的生长习性与生长动力学实验研究 | 第141-175页 |
| ·二元白钨矿晶态薄膜的生长习性与生长动力学 | 第141-158页 |
| ·Ba_(1-x)Sr_xMoO_4晶态薄膜的生长习性与生长动力学 | 第141-150页 |
| ·Ba_(1-x)Sr_xWO_4晶态薄膜的生长习性与生长动力学 | 第150-158页 |
| ·三元白钨矿晶态薄膜的生长习性与生长动力学 | 第158-173页 |
| ·Ba_(1-x-y)Sr_xCa_yMoO_4晶态薄膜的生长习性与生长动力学 | 第158-164页 |
| ·Ba_(1-x-y)Sr_xCa_yWO_4晶态薄膜的生长习性与生长动力学 | 第164-173页 |
| ·本章小结 | 第173-175页 |
| 第八章 电化学制备白钨矿晶态薄膜的生长习性与生长动力学比较研究 | 第175-208页 |
| ·相同衬底白钨矿晶态薄膜的生长习性与生长动力学比较研究 | 第175-195页 |
| ·钼酸盐晶态薄膜的实验现象比较 | 第175-178页 |
| ·钨酸盐晶态薄膜的实验现象比较 | 第178-181页 |
| ·相同衬底白钨矿晶态薄膜成核和生长的主要共性 | 第181-189页 |
| ·相同衬底白钨矿晶态薄膜成核和生长的主要个性 | 第189-195页 |
| ·不同衬底钡盐、锶盐晶态薄膜的生长习性与生长动力学研究 | 第195-206页 |
| ·钡盐晶态薄膜的实验现象比较 | 第195-196页 |
| ·锶盐晶态薄膜的实验现象比较 | 第196页 |
| ·不同衬底钡盐、锶盐晶态薄膜成核和生长的比较 | 第196-206页 |
| ·本章小结 | 第206-208页 |
| 第九章 本论文研究成果、创新点及进一步开展工作的建议 | 第208-213页 |
| ·本论文的主要研究成果 | 第208-211页 |
| ·本论主要创新点 | 第211-212页 |
| ·对进一步开展电化学制备晶态薄膜生长习性与生长动力学研究的建议 | 第212-213页 |
| 参考文献 | 第213-222页 |
| 作者在攻读博士学位期间参加的研究项目 | 第222-223页 |
| 作者在攻读博士学位期间发表的论文目录 | 第223-226页 |
| 致谢——心语 | 第226-228页 |
