| 第一章 绪论 | 第1-10页 |
| ·研究意义 | 第7页 |
| ·碳化硅性质 | 第7页 |
| ·国内外研究现状 | 第7-9页 |
| ·所做工作 | 第9-10页 |
| 第二章 薄膜制备与检测技术 | 第10-17页 |
| ·实验原理 | 第10-12页 |
| ·薄膜制备 | 第12-14页 |
| ·实验检测技术 | 第14-17页 |
| 第三章 实验结果与分析 | 第17-43页 |
| ·激光溅射沉积法沉积SiC薄膜 | 第17-23页 |
| ·衬底温度及激光能量对SiC生长的影响 | 第17-23页 |
| ·热丝辅助化学气相沉积SiC薄膜及特性 | 第23-34页 |
| ·纳米SiC的低温合成 | 第23-30页 |
| ·纳米SiC的发光特性 | 第30-34页 |
| ·纳米SiC的一维生长 | 第34-43页 |
| ·Fe诱导低温纳米SiC线的合成 | 第34-38页 |
| ·低温SiC纳米线的生长 | 第38-43页 |
| 第四章 结束语 | 第43-45页 |
| 参考文献 | 第45-47页 |
| 致谢 | 第47-48页 |