首页--工业技术论文--金属学与金属工艺论文--特种加工机床及其加工论文

用于面曝光快速成形系统的辐照度测量系统研究

摘要第1-5页
ABSTRACT第5-10页
1 绪论第10-16页
   ·引言第10页
   ·课题来源、研究背景及研究意义第10-13页
     ·课题来源第10-11页
     ·课题研究背景第11-12页
     ·课题研究意义第12-13页
   ·辐射度量的测量现状与发展方向第13-15页
   ·主要的研究内容和章节安排第15-16页
2 辐照度测量系统的工作原理第16-24页
   ·面曝光快速成形系统工作原理及组成第16-17页
   ·光学中辐射度量的基本介绍第17-19页
   ·光源相对光谱能量分布测量及分析第19-22页
   ·辐照度测量原理第22-23页
   ·本章小结第23-24页
3 辐照度测量系统硬件设计第24-42页
   ·硬件系统总体方案设计第24-25页
   ·光电传感器的选型及特性分析第25-29页
     ·硅光电池工作原理第25-26页
     ·硅光电池的基本特性第26-28页
     ·硅光电池BPW34B 性能介绍第28-29页
   ·主控MCU 模块介绍第29-32页
     ·主控MCU 的选择及特性第29-30页
     ·AVR 单片机程序下载第30-32页
   ·增益可调放大电路设计第32-35页
     ·放大电路增益调整的原理及实现方法第32-34页
     ·运算放大器的选型第34页
     ·放大电路的设计第34-35页
   ·温湿度测量电路设计第35-37页
   ·系统电源电路设计第37-38页
   ·液晶显示电路第38页
   ·键盘接口电路第38-39页
   ·串行通信接口的设计第39-40页
   ·硬件系统实物展示第40-41页
   ·本章小结第41-42页
4 系统下位机软件设计第42-62页
   ·系统软件的总体设计第42页
   ·下位机编程语言与编程环境第42-43页
   ·系统下位机程序设计第43-54页
     ·增益调整程序第43-45页
     ·A/D 转换程序第45-47页
     ·温湿度采集程序第47-49页
     ·软件滤波程序第49-51页
     ·数据收发程序第51-52页
     ·EEPROM 读写程序第52-53页
     ·显示程序第53-54页
     ·键盘控制程序第54页
   ·辐照度测量系统的标度变换第54-61页
     ·参数标度变换原理第54-55页
     ·辐照度参数的标度变换第55-60页
     ·温湿度的标度变换第60-61页
   ·本章小结第61-62页
5 系统上位机软件设计第62-75页
   ·上位机开发环境介绍第62页
   ·上位机串行通信方法介绍第62-64页
   ·上位机程序框架设计第64-71页
     ·上位机串口驱动程序第65-67页
     ·上位机请求信号发送程序第67-68页
     ·上位机数据接收程序第68-69页
     ·上位机数据处理程序第69-70页
     ·通信界面功能介绍第70-71页
   ·系统现场测试与分析第71-74页
     ·辐照度现场测量第71-73页
     ·温度/湿度现场测量第73页
     ·上位机现场运行第73-74页
   ·本章小结第74-75页
6 总结第75-77页
   ·工作总结第75页
   ·设计中存在的不足第75-77页
参考文献第77-81页
附录第81-82页
攻读学位期间发表文章第82-83页
致谢第83页

论文共83页,点击 下载论文
上一篇:胶原蛋白微胶囊功能织物研究
下一篇:超声波辅助织物化学镀银