摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-8页 |
致谢 | 第8-15页 |
第一章 绪论 | 第15-23页 |
·引言 | 第15-16页 |
·ZnO薄膜的概述 | 第16-18页 |
·ZnO薄膜的晶体结构 | 第16页 |
·ZnO薄膜的特性与应用 | 第16-18页 |
·ZnO薄膜的紫外受激发射 | 第16-17页 |
·ZnO薄膜的光电特性 | 第17页 |
·ZnO薄膜的p-n结特性 | 第17页 |
·ZnO薄膜的气敏性质 | 第17页 |
·ZnO薄膜的压敏性质 | 第17-18页 |
·ZnO薄膜的制备方法 | 第18-22页 |
·物理气相沉积(PVD) | 第18-21页 |
·真空蒸发(VE) | 第18-19页 |
·磁控溅射(MS) | 第19页 |
·离子束溅射沉积(IBD) | 第19-20页 |
·脉冲激光沉积(PLD) | 第20-21页 |
·化学气相沉积(CVD) | 第21-22页 |
·等离子体增强化学气相沉积(PECVD) | 第21页 |
·金属有机物化学气相沉积(MOCVD) | 第21页 |
·溶胶—凝胶法(Sol-Gel) | 第21-22页 |
·本章小结 | 第22-23页 |
第二章 AlN缓冲层和ZnO薄膜的制备及测试方法 | 第23-35页 |
·引言 | 第23页 |
·薄膜的制备 | 第23-31页 |
·溅射的基本原理 | 第23-28页 |
·磁控溅射镀膜机理 | 第24-26页 |
·离子束溅射镀膜机理 | 第26-28页 |
·薄膜的沉积过程 | 第28-29页 |
·衬底的清洗方法 | 第29页 |
·AlN缓冲层和ZnO薄膜的制备 | 第29-31页 |
·射频磁控溅射制备AlN缓冲层与ZnO薄膜的操作步骤 | 第29-30页 |
·离子束溅射法制备ZnO薄膜的操作步骤 | 第30-31页 |
·薄膜的测试 | 第31-34页 |
·结构分析 | 第31页 |
·薄膜表面形貌分析 | 第31-32页 |
·薄膜电阻的测试 | 第32-33页 |
·光学性能分析 | 第33-34页 |
·本章小结 | 第34-35页 |
第三章 AlN缓冲层的制备工艺与结构分析 | 第35-45页 |
·引言 | 第35页 |
·AlN缓冲层的制备 | 第35-36页 |
·AlN缓冲层的结构 | 第36-43页 |
·工作气压对玻璃衬底上AlN缓冲层结构的影响 | 第37-39页 |
·不同衬底对AlN缓冲层结构的影响 | 第39-41页 |
·溅射时间对AlN缓冲层结构的影响 | 第41-42页 |
·退火对AlN缓冲层结构的影响 | 第42-43页 |
·不同工作气压下AlN缓冲层的表面形貌 | 第43-44页 |
·本章小结 | 第44-45页 |
第四章 RF磁控溅射制备ZnO/AlN双层膜的工艺与性能 | 第45-58页 |
·引言 | 第45页 |
·ZnO/AlN双层膜的RF磁控溅射制备工艺 | 第45页 |
·RF磁控溅射制备ZnO/AlN双层膜的结构分析 | 第45-50页 |
·ZnO/AlN双层膜和ZnO单层膜的结构对比 | 第45-47页 |
·AlN缓冲层溅射时间对ZnO/AlN双层膜结构的影响 | 第47-49页 |
·氩氧流量比对ZnO/AlN双层膜结构的影响 | 第49-50页 |
·ZnO/AlN双层膜的形貌分析 | 第50-52页 |
·ZnO/AlN双层膜的AFM形貌分析 | 第50-51页 |
·ZnO/AlN双层膜的SEM形貌图 | 第51-52页 |
·ZnO/AlN双层膜的光电性能 | 第52-56页 |
·ZnO/AlN双层膜的电阻率 | 第52-53页 |
·ZnO/AlN双层膜的荧光光谱 | 第53-56页 |
·本章小结 | 第56-58页 |
第五章 IBD制备ZnO/AlN双层膜的工艺与性能 | 第58-64页 |
·引言 | 第58页 |
·ZnO/AlN双层膜的IBD制备工艺 | 第58-59页 |
·IBD制备ZnO/AlN双层膜的结构分析 | 第59-60页 |
·IBD制备ZnO/AlN双层膜的表面形貌 | 第60-61页 |
·IBD制备ZnO/AlN双层膜的荧光光谱 | 第61-62页 |
·IBD制备ZnO/AlN双层膜的电阻率 | 第62-63页 |
·本章小结 | 第63-64页 |
第六章 结论 | 第64-66页 |
参考文献 | 第66-70页 |
攻读硕士期间发表论文 | 第70页 |