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ZnO/AlN双层膜的制备与性能研究

摘要第1-6页
Abstract第6-8页
致谢第8-15页
第一章 绪论第15-23页
   ·引言第15-16页
   ·ZnO薄膜的概述第16-18页
     ·ZnO薄膜的晶体结构第16页
     ·ZnO薄膜的特性与应用第16-18页
       ·ZnO薄膜的紫外受激发射第16-17页
       ·ZnO薄膜的光电特性第17页
       ·ZnO薄膜的p-n结特性第17页
       ·ZnO薄膜的气敏性质第17页
       ·ZnO薄膜的压敏性质第17-18页
   ·ZnO薄膜的制备方法第18-22页
     ·物理气相沉积(PVD)第18-21页
       ·真空蒸发(VE)第18-19页
       ·磁控溅射(MS)第19页
       ·离子束溅射沉积(IBD)第19-20页
       ·脉冲激光沉积(PLD)第20-21页
     ·化学气相沉积(CVD)第21-22页
       ·等离子体增强化学气相沉积(PECVD)第21页
       ·金属有机物化学气相沉积(MOCVD)第21页
       ·溶胶—凝胶法(Sol-Gel)第21-22页
   ·本章小结第22-23页
第二章 AlN缓冲层和ZnO薄膜的制备及测试方法第23-35页
   ·引言第23页
   ·薄膜的制备第23-31页
     ·溅射的基本原理第23-28页
       ·磁控溅射镀膜机理第24-26页
       ·离子束溅射镀膜机理第26-28页
     ·薄膜的沉积过程第28-29页
     ·衬底的清洗方法第29页
     ·AlN缓冲层和ZnO薄膜的制备第29-31页
       ·射频磁控溅射制备AlN缓冲层与ZnO薄膜的操作步骤第29-30页
       ·离子束溅射法制备ZnO薄膜的操作步骤第30-31页
   ·薄膜的测试第31-34页
     ·结构分析第31页
     ·薄膜表面形貌分析第31-32页
     ·薄膜电阻的测试第32-33页
     ·光学性能分析第33-34页
   ·本章小结第34-35页
第三章 AlN缓冲层的制备工艺与结构分析第35-45页
   ·引言第35页
   ·AlN缓冲层的制备第35-36页
   ·AlN缓冲层的结构第36-43页
     ·工作气压对玻璃衬底上AlN缓冲层结构的影响第37-39页
     ·不同衬底对AlN缓冲层结构的影响第39-41页
     ·溅射时间对AlN缓冲层结构的影响第41-42页
     ·退火对AlN缓冲层结构的影响第42-43页
   ·不同工作气压下AlN缓冲层的表面形貌第43-44页
   ·本章小结第44-45页
第四章 RF磁控溅射制备ZnO/AlN双层膜的工艺与性能第45-58页
   ·引言第45页
   ·ZnO/AlN双层膜的RF磁控溅射制备工艺第45页
   ·RF磁控溅射制备ZnO/AlN双层膜的结构分析第45-50页
     ·ZnO/AlN双层膜和ZnO单层膜的结构对比第45-47页
     ·AlN缓冲层溅射时间对ZnO/AlN双层膜结构的影响第47-49页
     ·氩氧流量比对ZnO/AlN双层膜结构的影响第49-50页
   ·ZnO/AlN双层膜的形貌分析第50-52页
     ·ZnO/AlN双层膜的AFM形貌分析第50-51页
     ·ZnO/AlN双层膜的SEM形貌图第51-52页
   ·ZnO/AlN双层膜的光电性能第52-56页
     ·ZnO/AlN双层膜的电阻率第52-53页
     ·ZnO/AlN双层膜的荧光光谱第53-56页
   ·本章小结第56-58页
第五章 IBD制备ZnO/AlN双层膜的工艺与性能第58-64页
   ·引言第58页
   ·ZnO/AlN双层膜的IBD制备工艺第58-59页
   ·IBD制备ZnO/AlN双层膜的结构分析第59-60页
   ·IBD制备ZnO/AlN双层膜的表面形貌第60-61页
   ·IBD制备ZnO/AlN双层膜的荧光光谱第61-62页
   ·IBD制备ZnO/AlN双层膜的电阻率第62-63页
   ·本章小结第63-64页
第六章 结论第64-66页
参考文献第66-70页
攻读硕士期间发表论文第70页

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