| 摘要 | 第1-11页 |
| ABSTRACT | 第11-14页 |
| 第一章 电化学制备磁性薄膜的研究进展 | 第14-34页 |
| ·引言 | 第14-16页 |
| ·磁性金属及合金薄膜的磁性和应用 | 第16-19页 |
| ·铁族金属单质的磁学性质 | 第16-17页 |
| ·铁族合金的磁学特性 | 第17-19页 |
| ·磁性金属及合金薄膜的制备方法 | 第19-21页 |
| ·溅射法 | 第20页 |
| ·真空蒸镀法 | 第20页 |
| ·化学沉积法 | 第20-21页 |
| ·电沉积法 | 第21页 |
| ·磁性金属及合金薄膜的电化学制备研究 | 第21-26页 |
| ·电化学沉积磁性薄膜的方法 | 第21-23页 |
| ·电化学外延生长磁性金属及其合金薄膜 | 第23-25页 |
| ·电化学沉积磁性薄膜的影响因素 | 第25-26页 |
| ·选题背景及研究内容 | 第26-29页 |
| ·选题的背景 | 第26-28页 |
| ·研究内容 | 第28-29页 |
| 参考文献 | 第29-34页 |
| 第二章 磁圆二色和磁光Kerr效应技术及其装置 | 第34-46页 |
| ·引言 | 第34页 |
| ·XMCD技术 | 第34-36页 |
| ·XMCD的基本原理及应用 | 第34-35页 |
| ·XMCD的实验装置以及实验方法 | 第35-36页 |
| ·XMCD实验站的一些基本技术参数 | 第36页 |
| ·MOKE技术 | 第36-42页 |
| ·MOKE的基本原理及应用 | 第36-37页 |
| ·SMOKE实验方法 | 第37-39页 |
| ·SMOKE实验装置的优点 | 第39页 |
| ·SMOKE实验装置的组成及基本技术指标 | 第39-42页 |
| ·XMCD和SMOKE数据的处理 | 第42-44页 |
| ·XMCD数据的计算与分析 | 第42-44页 |
| ·SMOKE数据的计算与分析 | 第44页 |
| 本章小结 | 第44-45页 |
| 参考文献 | 第45-46页 |
| 第三章 Fe族金属及合金薄膜的电化学沉积 | 第46-58页 |
| ·电化学沉积磁性金属薄膜 | 第46-47页 |
| ·合金电沉积的机理 | 第46-47页 |
| ·合金电沉积的特点 | 第47页 |
| ·Fe族金属及其合金电沉积的方法 | 第47页 |
| ·实验部分 | 第47-50页 |
| ·材料和试剂 | 第47-48页 |
| ·仪器和设备 | 第48页 |
| ·电化学沉积过程 | 第48-50页 |
| ·电沉积磁性金属薄膜的表征手段 | 第50-52页 |
| ·场发射扫描电子显微镜(FESEM) | 第50页 |
| ·原子力/磁力显微镜(AFM/MFM) | 第50-51页 |
| ·X射线衍射/X射线反射(XRD/XRR) | 第51页 |
| ·X射线吸收谱/X射线磁性圆二色(XAS/XMCD) | 第51-52页 |
| ·磁光Kerr效应(MOKE) | 第52页 |
| ·光电子能谱(PES) | 第52页 |
| ·电化学沉积薄膜厚度的分析与计算 | 第52-56页 |
| ·库仑法 | 第52-54页 |
| ·X射线反射(XRR)谱法 | 第54-55页 |
| ·其它方法 | 第55-56页 |
| 本章小结 | 第56页 |
| 参考文献 | 第56-58页 |
| 第四章 电沉积Fe族单质薄膜的结构与磁性研究 | 第58-72页 |
| ·引言 | 第58-59页 |
| ·Fe、Co、Ni单质薄膜的结构特征 | 第59-63页 |
| ·GaAs(100)上电沉积Fe族金属薄膜的表面形貌 | 第59-60页 |
| ·GaAs(100)上电沉积Fe族金属薄膜的晶体结构 | 第60-63页 |
| ·Fe、Co、Ni单质薄膜的磁性特征 | 第63-70页 |
| ·Fe族金属薄膜的磁滞回线 | 第63-65页 |
| ·Fe族金属薄膜的XAS和XMCD | 第65-70页 |
| 参考文献 | 第70-72页 |
| 第五章 电沉积磁性合金薄膜的结构和磁性研究 | 第72-96页 |
| ·引言 | 第72页 |
| ·合金薄膜的形貌 | 第72-76页 |
| ·Fe-Co合金薄膜的形貌 | 第72-73页 |
| ·Co-Ni合金薄膜的微观形貌与组成 | 第73-75页 |
| ·Fe-Co-Ni合金薄膜的原子力/磁力/扫描显微镜研究 | 第75-76页 |
| ·合金薄膜的磁滞回线 | 第76-80页 |
| ·Fe-Co合金薄膜的元素分辨磁滞回线和Kerr磁滞回线 | 第76-78页 |
| ·Fe-Ni,Co-Ni合金薄膜的Kerr磁滞回线 | 第78-80页 |
| ·合金薄膜的XAS | 第80-83页 |
| ·Fe-Co合金薄膜的成分和结构 | 第80页 |
| ·Fe-Ni合金薄膜的线偏振XAS | 第80-81页 |
| ·Co-Ni合金薄膜的线偏振XAS | 第81-82页 |
| ·Fe-Co-Ni合金薄膜的XAS及成分分析 | 第82-83页 |
| ·合金的薄膜的XMCD | 第83-91页 |
| ·Fe-Co合金薄膜的XMCD | 第83-85页 |
| ·Fe-Ni合金薄膜的XMCD | 第85-86页 |
| ·Co-Ni合金薄膜的XMCD | 第86-88页 |
| ·Fe-Co-Ni合金薄膜的XMCD | 第88-91页 |
| ·Fe族金属单质及合金化后局域磁矩的变化规律 | 第91-93页 |
| 本章小结 | 第93页 |
| 参考文献 | 第93-96页 |
| 第六章 ZnO三维微/纳米结构的生长机理 | 第96-104页 |
| ·引言 | 第96-97页 |
| ·实验部分 | 第97-98页 |
| ·试剂和实验装置 | 第97-98页 |
| ·样品的表征 | 第98页 |
| ·三维微/纳米结构的生长机理 | 第98-104页 |
| ·一维纳米结构的生长机理 | 第98-99页 |
| ·ZnO三维连生结构的生长机理 | 第99-104页 |
| 本章小结 | 第104页 |
| 参考文献 | 第104-108页 |
| 致谢 | 第108-110页 |
| 在读期间发表的学术论文与取得的研究成果 | 第110页 |
