极紫外光刻投影光学系统优化设计
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-12页 |
| §1.1 引言 | 第7页 |
| §1.2 光刻技术的应用和发展 | 第7-11页 |
| §1.3 本文的主要内容 | 第11-12页 |
| 第二章 极紫外光刻投影光学系统 | 第12-22页 |
| §2.1 EUVL投影光学系统 | 第12-13页 |
| §2.2 EUVL光学系统的组成及工作原理 | 第13-15页 |
| §2.3 EUV光源的工作原理 | 第15-16页 |
| §2.4 EUV光源面临的挑战 | 第16-18页 |
| §2.5 投影光刻物镜的加工 | 第18页 |
| §2.6 EUV光刻掩模的结构 | 第18-19页 |
| §2.7 曝光过程中的热变形对掩模的影响 | 第19-20页 |
| §2.8 粗糙度对掩模的影响 | 第20-21页 |
| §2.9 EUV光刻的真空环境 | 第21-22页 |
| 第三章 五反射镜式投影光学系统的设计 | 第22-35页 |
| §3.1 EUVL投影光学系统的设计参数 | 第22-25页 |
| §3.2 EUVL投影光学系统的设计要求 | 第25-28页 |
| §3.3 六反射镜系统 | 第28-29页 |
| §3.4 五反射镜光学系统的构想 | 第29-31页 |
| §3.5 反射物镜的设计和光学性能评价 | 第31-34页 |
| §3.6 结论与展望 | 第34-35页 |
| 结论 | 第35-36页 |
| 致谢 | 第36-37页 |
| 参考文献 | 第37-38页 |
